一种输送机构的制作方法

文档序号:12386710阅读:219来源:国知局
一种输送机构的制作方法与工艺

本发明属于车间料件输送技术领域,更具体地说,涉及一种输送机构。



背景技术:

现工业生产车间多为机械自动化生产,输送机构应用在各个地方,现有技术中输送机构输送稳定性差,使用寿命短,存在一定的安全隐患。



技术实现要素:

本发明的目的是解决现有技术存在的问题,提供一种结构简单,稳定性好,使用安全性高,寿命长的输送机构。

为了实现上述目的,本发明采取的技术方案为:所提供的这种输送机构,包括输送底座,在输送底座上设有放置料件的输送座,所述输送座下方通过滑座连接有滑槽,所述滑槽配合卡接在设于所述输送底座上的导条上,且可沿所述导条来回移动;在所述输送底座侧边设有一端连接在所述输送座上的拖链,所述拖链置于设于所述输送底座侧边的拖链导槽内,所述拖链导槽上连接有将上方所述拖链支撑起的拖链支撑座。

为使上述技术方案更加详尽和具体,本发明还提供以下更进一步的优选技术方案,以获得满意的实用效果:

所述拖链支撑座包括支架,所述支架下端连接在所述拖链导槽的两侧壁上,上端设有连接轴,所述连接轴上设有可转动的支撑轮。

所述支架两侧设有限制所述连接轴转动的防转挡块。

所述拖链导槽上间隔设有多个所述拖链支撑座,各所述拖链支撑座等高布置以支撑所述拖链。

所述输送底座上连接有由外侧罩住所述导条的防护罩。

所述防护罩上端面向内翻折,所述滑座上设有伸出卡接至所述防护罩翻折边内的卡边。

所述输送底座下方设有连接在地面上支撑所述输送底座水平的支撑座。

本发明与现有技术相比,具有以下优点:本发明输送机构,输送座通过滑座和滑槽配合设于输送底座上的导条以实现输送,侧边通过设置拖链以进一步提高输送机构的输送稳定性,输送过程中上端拖链随输送座移动,拖链通过拖链支撑座支撑,防止拖链下塌,减小拖链间的摩擦,便于输送过程,延长其使用寿命。该输送机构结构简单,稳定性好,使用安全性高,寿命长,具有较好的应用前景。

附图说明

下面对本说明书的附图所表达的内容及图中的标记作简要说明:

图1为本发明输送机构结构示意图;

图2为图1中A处局部放大结构示意图;

图3为图1中B处局部放大结构示意图。

图中标记为:1、支撑座,2、输送底座,21、导条,3、防护罩,4、拖链导槽,5、拖链,6、拖链支撑座,61、支架,62、连接轴,63、支撑轮,64、防转挡块,7、输送座,71、滑座,72、滑槽。

具体实施方式

下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

本发明这种输送机构,如图1、3所示,包括输送底座2,在输送底座2上设有放置料件的输送座7,输送座7下方通过滑座71连接有滑槽72,滑槽72配合卡接在设于输送底座2上的导条21上,且可沿导条21来回移动;在输送底座2侧边设有一端连接在输送座7上的拖链5,拖链5置于设于输送底座2侧边的拖链导槽4内,拖链导槽4上连接有将上方拖链5支撑起的拖链支撑座6。该输送机构为输送座7通过滑座71和滑槽72配合设于输送底座2上的导条21以实现输送滑动过程,侧边通过设置拖链5以进一步提高输送机构的输送稳定性,输送过程中上端拖链5随输送座移动,拖链5通过拖链支撑座6支撑,防止拖链下塌,减小拖链5间的摩擦,便于输送过程,延长其使用寿命。

如图3中所示,拖链支撑座6包括支架61,支架61下端连接在拖链导槽4的两侧壁上,上端设有连接轴62,连接轴62上设有可转动的支撑轮63。支架61支撑连接轴62,连接轴62不转动,套于连接轴62上的支撑轮63可绕其自由转动,在拖链5移动过程中,可相对支撑轮滚动,以减小拖链5在移动过程中的摩擦力,便于顺畅的移动。为防止连接轴62转动,在支架61两侧设有限制连接轴62转动的防转挡块64。

本发明输送机构,如图1所示,在拖链导槽4上间隔设有多个拖链支撑座6,且各拖链支撑座6等高布置以稳定支撑拖链5,以稳定的支撑拖链5。

为提高输送机构的安全性,在输送底座2上连接有由外侧罩住导条21的防护罩3。优选的,防护罩3上端面向内翻折,滑座71上设有伸出卡接至防护罩3翻折边内的卡边,可起到一定的支撑及限位效果,可提高输送座7相对输送底座2运动的稳定性,确保可靠的输送过程。

本发明输送机构,在输送底座2下方设有连接在地面上支撑输送底座2水平的支撑座1,以保证底座水平,确保顺畅的输送。

本发明输送机构,输送座7通过滑座71和滑槽72配合设于输送底座2上的导条21以实现输送,侧边通过设置拖链5以进一步提高输送机构的输送稳定性,输送过程中上端拖链5随输送座移动,拖链5通过拖链支撑座6支撑,防止拖链下塌,减小拖链5间的摩擦,便于输送过程,延长其使用寿命。该输送机构结构简单,稳定性好,使用安全性高,寿命长,具有较好的应用前景。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述,但是本发明并不受限于上述方式,只要采用本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进或直接应用于其它场合的,均落在本发明的保护范围内。

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