一种芯片承载带的制作方法

文档序号:11172180阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种芯片承载带,包括承载带本体,其特征在于:所述承载带本体上设有若干个芯片纳容腔,相邻两个芯片纳容腔之间的距离相等,芯片纳容腔分为上腔体和下腔体,上腔体四壁为斜面结构,斜面的角度为15~25度,下腔体与上腔体之间设有台阶,台阶四角为弧形结构,所述承载带本体底部若干列凸点组,相邻相列凸点组的距离相等。

2.根据权利要求1所述一种芯片承载带,其特征在于:每个芯片纳容腔相侧均设有挂耳。

3.根据权利要求1所述一种芯片承载带,其特征在于:所述承载带本体两侧均匀开设有若干个蜂孔。

4.根据权利要求1所述一种芯片承载带,其特征在于:每个芯片纳容腔内的上腔体、下腔体和台阶为一体结构,下腔体的深度为5~10mm。

5.根据权利要求1所述一种芯片承载带,其特征在于:每列凸点组均有若干个凸点组成,凸点的高度为0.5~2mm。

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