技术特征：
1.一种采样管上料机构，包括支架(1)，其特征在于，所述支架(1)上设有水平的样管输送带(2)，支架(1)上在所述样管输送带(2)的初始端的上方设有轴线垂直于所述样管输送带(2)的输送方向的锥齿盘(3)，所述锥齿盘(3)顶端的齿顶所在的平面垂直于所述样管输送带(2)的侧壁，所述锥齿盘(3)底端的齿顶所在的平面平行于所述样管输送带(2)的输送面，所述支架(1)上在所述锥齿盘(3)的齿顶一侧设有与锥齿盘(3)同轴的锥弧形挡板(4)，所述锥弧形挡板(4)的两个端点分别对应所述锥齿盘(3)顶端的啮齿(5)的齿顶和锥齿盘(3)底端的啮齿(5)的齿顶，所述锥弧形挡板(4)的弧形凹陷方向朝向所述样管输送带(2)的输送方向。2.根据权利要求1所述的一种采样管上料机构，其特征在于，所述样管输送带(2)的输送面上排列设有若干样管槽(6)，所述样管槽(6)的轴线水平设置，且样管槽(6)的轴线垂直于所述样管输送带(2)的输送方向，所述样管槽(6)的上表面位于所述锥齿盘(3)的下方。3.根据权利要求1所述的一种采样管上料机构，其特征在于，所述支架(1)上还设有直振机(7)，所述直振机(7)的出料嘴(8)水平设置且对准所述锥齿盘(3)顶端的啮齿(5)的齿顶。4.根据权利要求3所述的一种采样管上料机构，其特征在于，所述出料嘴(8)的端部设有弧形导料段(9)，所述弧形导料段(9)的弧形凹陷方向朝向所述样管输送带(2)的初始端。5.根据权利要求1所述的一种采样管上料机构，其特征在于，所述锥弧形挡板(4)的内表面上的每一点到所述锥齿盘(3)的齿顶的距离均相等。6.根据权利要求1所述的一种采样管上料机构，其特征在于，所述锥弧形挡板(4)的宽度小于所述啮齿(5)的齿宽。7.根据权利要求1所述的一种采样管上料机构，其特征在于，所述啮齿(5)在背向所述锥齿盘(3)旋转方向的一侧设有倒角(10)。
技术总结
一种采样管上料机构，用于将采样管从相对较高的工位输送到相对较低的工位，属于上料设备制造技术领域，包括支架，支架上设有水平的样管输送带，支架上在样管输送带的初始端的上方设有轴线垂直于样管输送带的输送方向的锥齿盘，锥齿盘顶端的齿顶所在的平面为垂直于样管输送带的侧壁，锥齿盘底端的齿顶所在的平面平行于样管输送带的输送面，支架上在锥齿盘的齿顶一侧设有锥弧形挡板，锥弧形挡板的两个端点分别位于锥齿盘顶端的齿顶和锥齿盘底端的齿顶处，锥弧形挡板的凹陷面朝向样管输送带的输送方向，本实用新型解决了将采样管从相对较高的工位输送到相对较低的工位的问题。高的工位输送到相对较低的工位的问题。高的工位输送到相对较低的工位的问题。
技术研发人员：姚有成
受保护的技术使用者：湃思科技（苏州）有限公司
技术研发日：2021.10.20
技术公布日：2022/4/26