一种密相装填器的制造方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型属于石化物装填设备技术领域，尤其涉及一种密相装填器。
【背景技术】
[0002]在化工生产的过程中，密相装填器是一种常用的用于催化剂装填的物料分配器，通过旋转将物料进行发散堆积，从而提高催化剂的装填密度。然而现有的装填器的抛料盘的抛料不够均匀，装填效果并不理想。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型主要是解决现有技术所存在的技术问题，提供一种密相装填器，能够更加均匀的装填催化剂。
[0004]本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
[0005]本实用新型的一种密相装填器，包括料斗，所述料斗的下方设有四根落料管，在落料管的下方设有罩桶，在罩桶的内部设有支撑架，支撑架的上方设有变频电机，变频电机的下方设有轴承，轴承穿过支撑架从罩桶下方伸出，轴承的下端设有抛料盘组。
[0006]作为优选，所述抛料盘组由若干层抛料盘由上向下依次排列构成，在上层抛料盘的直径大于与之相邻的下层抛料盘直径，从上至下第一层到倒数第二层的抛料盘的中心都设有下料孔，上层下料孔的直径大于与之相邻的下层下料孔的直径。
[0007]作为优选，所述抛料盘沿径向设有抛料槽，抛料槽在抛料盘上沿阿基米德螺旋线排列。
[0008]作为优选，所述抛料盘的数量为7层。
[0009]作为优选，所述抛料槽为长方体形。
[0010]作为优选，所述落料管的数量为4个，围绕料斗底部均匀设置。
[0011]本实用新型的有益效果是:能够均匀稳定的抛洒催化剂，通过抛料槽在抛料盘上沿阿基米德螺旋线排列能使得催化剂抛洒的均匀度非常高，效果更加好。
【附图说明】
[0012]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0013]图1为本实用新型一种密相装填器的结构示意图；
[0014]图2为第一层至倒数第二层抛料盘的结构示意图；
[0015]图3为最底层抛料盘的结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定
[0017]如图1-图3所示，一种密相装填器，包括料斗I，所述料斗I的下方设有四根落料管2，在落料管2的下方设有罩桶3，在罩桶3的内部设有支撑架4，支撑架4的上方设有变频电机5，变频电机5的下方设有轴承6，轴承6穿过支撑架4从罩桶3下方伸出，轴承6的下端设有抛料盘组7。
[0018]进一步的，所述抛料盘组7由若干层抛料盘71由上向下依次排列构成，在上层抛料盘71的直径大于与之相邻的下层抛料盘71直径，从上至下第一层到倒数第二层的抛料盘71的中心都设有下料孔73，上层下料孔73的直径大于与之相邻的下层下料孔73的直径，最底层的抛料盘71不设下料孔73。
[0019]进一步的，所述抛料盘71沿径向设有抛料槽72，抛料槽72在抛料盘71上沿阿基米德螺旋线排列。
[0020]进一步的，所述抛料盘71的数量为7层。
[0021 ]进一步的，所述抛料槽72为长方体形。
[0022]进一步的，所述落料管2的数量为4个，围绕料斗I底部均匀设置。
[0023]使用的时候，由变频电机5带动抛料盘组7转动，催化剂从料斗I中落下，经过层层抛料盘71上按照阿基米德螺旋线排列的抛料槽72进行抛洒后均匀的落下完成装填。
[0024]以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
【主权项】
1.一种密相装填器，其特征在于:包括料斗(I)，所述料斗(I)的下方设有四根落料管(2)，在落料管(2)的下方设有罩桶(3)，在罩桶(3)的内部设有支撑架(4)，支撑架(4)的上方设有变频电机(5)，变频电机(5)的下方设有轴承(6)，轴承(6)穿过支撑架(4)从罩桶(3)下方伸出，轴承(6 )的下端设有抛料盘组(7 )。2.根据权利要求1所述的一种密相装填器，其特征在于:所述抛料盘组(7)由若干层抛料盘(71)由上向下依次排列构成，在上层抛料盘(71)的直径大于与之相邻的下层抛料盘(71)直径，从上至下第一层到倒数第二层的抛料盘(71)的中心都设有下料孔(73)，上层下料孔(73)的直径大于与之相邻的下层下料孔(73)的直径。3.根据权利要求2所述的一种密相装填器，其特征在于:所述抛料盘(71)沿径向设有抛料槽(72)，抛料槽(72)在抛料盘(71)上沿阿基米德螺旋线排列。4.根据权利要求2所述的一种密相装填器，其特征在于:所述抛料盘(71)的数量为7层。5.根据权利要求3所述的一种密相装填器，其特征在于:所述抛料槽(72)为长方体形。6.根据权利要求1所述的一种密相装填器，其特征在于:所述落料管(2)的数量为4个，围绕料斗(I)底部均匀设置。
【专利摘要】本实用新型是一种密相装填器，包括料斗，所述料斗的下方设有四根落料管，在落料管的下方设有罩桶，在罩桶的内部设有支撑架，支撑架的上方设有变频电机，变频电机的下方设有轴承，轴承穿过支撑架从罩桶下方伸出，轴承的下端设有抛料盘组，本实用新型能够均匀稳定的抛洒催化剂，通过抛料槽在抛料盘上沿阿基米德螺旋线排列能使得催化剂抛洒的均匀度非常高，效果更加好。
【IPC分类】B65G65/32, B65G69/04
【公开号】CN205274778
【申请号】CN201521077195
【发明人】巩增强
【申请人】江苏天鹏石化特种工程有限公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2015年12月22日