多重表面上的接触角衰减的制作方法

专利名称：多重表面上的接触角衰减的制作方法
多重表面上的接触角衰减相关申请的交叉引用本申请要求2008年12月17日提交的美国专利申请序列号12/336，821和2007 年12月18日提交的美国临时专利申请序列号61/014，574的优先权，这两份申请的内容被 纳入本文作为参考。
背景技术：
纳米制造包括制造极小的结构，例如具有100纳米级或更小的特征的结构。纳米 制造产生显著影响的一个领域是集成电路的制造。随着半导体加工工业持续地力求获得更 高的生产率，同时增加每单位面积基片上形成的电路数量，因此纳米制造变得越来越重要。 纳米制造提供了更高的工艺控制，同时允许更大程度地减小形成结构的最小特征尺寸。已 经应用纳米制造的其它研发领域包括生物技术、光学技术、机械系统等。一种示例性的纳米制造技术通常被称为压印光刻。示例性的压印光刻法在大量公 开出版物中进行了详细描述，例如参见美国专利申请公开第2004/0065976号，美国专利申 请公开第2004/0065252号，以及美国专利第6，936，194号，所有这些专利都参考结合入本 文中。上述这些美国专利申请公开和美国专利中所述的压印光刻技术都包括了在可成 形(可聚合)的层中形成浮雕图案，并将与所述浮雕图案对应的图案转移到下面的基板中。 所述基板可以与操作台相连接，以获得促进图案化加工所需的定位。所述图案化加工使用 与基板隔开的模板，可成形液体被施加在模板和基板之间。所述可成形液体被固化，形成其 中记录有图案的刚性层，所述图案与同所述可成形液体接触的模板的表面形状一致。固化 之后，将所述模板从刚性层上分离，使得模板和基板分开。然后对基板和固化的层进行另外 的加工，以将对应于所述固化层中的图案的浮雕图案转移到所述基板中。


为了更详细地理解本发明，结合附图所示的实施方式，对本发明的实施方式进行 了描述。但是，需要注意的是，附图仅仅显示了本发明的常规实施方式，因此本发明不限于 此。图1示出了根据本发明一种实施方式的光刻系统的简化侧视图。图2显示了图1所示基板的简化侧视图，所述基板上具有图案化的层。图3A-3C示出了采用含可聚合材料和表面活性剂液体的压印流体处理的模板的 简化侧视图。图4A-4C示出了其上沉积有表面活性剂溶液和压印流体的测试基板的简化侧视 图。图5A-5C示出了其上沉积有溶剂和压印流体的测试基板的简化侧视图。图6示出了用于在模板和可聚合材料之间提供合适的润湿特性的示例性方法的 流程图。
图7A-7B分别示出了采用第一液滴图案压印后，表面活性剂损耗区SDR和表面活 性剂富集区SRR的简化侧视图和俯视图。图8示出了用于在模板和可聚合材料之间提供合适的润湿特性的另一种示例性 方法的流程图。

发明内容
参考附图，尤其是图1，显示了用来在基板12上形成浮雕图案的光刻系统10。基板 12可以与基板卡盘14相连。如图所示，基板卡盘14是真空卡盘。但是，基板卡盘14可以 是任意的卡盘，包括但不限于真空卡盘、销钉型卡盘、沟槽型卡盘、静电卡盘、电磁卡盘等。 在美国专利第6，873，087号中描述了示例性的卡盘，该专利参考结合入本文中。基板12和基板卡盘14可以进一步被平台16所支承。平台16可以提供沿χ轴、 y轴和ζ轴的运动，平台16、基板12和基板卡盘14也可以设置在底座上(图中未显示)。模板18与基板12隔开放置。模板18可以包括从该模板向着基板12延伸的台块 20，台块20之上具有图案化的表面22。另外，可以将台块20称作模具20。或者，模板18 可以没有台块20。模板18和/或模具20可以由以下的材料形成，包括但不限于熔融氧化硅、石英、 硅、有机聚合物、硅氧烷聚合物、硼硅酸盐玻璃、氟碳聚合物、金属、硬化蓝宝石等。如图所 示，图案化表面22包括由多个隔开的凹槽24和/或凸起件26限定的特征结构(feature)， 但是本发明的实施方式不限于这样的设计。图案化表面22可以限定任意初始图案，该初始 图案形成要形成于基板12上的图案的基础。模板18可以与卡盘28相连接。卡盘28可以设计成真空卡盘、销钉型卡盘、沟槽 型卡盘、静电卡盘、电磁卡盘、以及/或者其它类似种类的卡盘，但是不限于这些。在美国专 利第6，873，087号中描述了示例性的卡盘，该专利参考结合入本文中。另外，卡盘28可以 与压印头30相连，使得卡盘28和/或压印头30可以构造成促进模板18的移动。系统10还可以包括流体分配系统32。流体分配系统32可以用来在基板12上沉 积可聚合材料34。可以使用以下的技术将可聚合材料34施加于基板12之上，例如液滴分 配、旋涂、浸涂、化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、薄膜沉积、厚膜沉积等。根据设 计构思，可以在模具20和基板12之间形成所需体积之前和/或之后，将可聚合材料34施 加于基板12上。可聚合材料34可以包括如美国专利第7，157，036号以及美国专利申请公 开第2005/0187339号所述的单体混合物，这两篇文献都参考结合入本文中。 参见图1和图2，系统10可以进一步包括沿线路42与直接能源40相连的能源38。 压印头30和平台16可以构造成将模板18和基板12定位成与线路42相叠置。可以使用 处理器54来调节系统10，所述处理器54与平台16、压印头30、流体分配系统32和/或能 源38相连，可以使用储存在存储器56中的计算机可读程序进行操作。
压印头30、平台16或者这两者改变模具20和基板12之间的距离，用来在其之间 限定所需的体积，该体积将被可聚合材料34填充。例如，压印头30可以对模具18施加作 用力，使得模具20与可聚合材料34相接触。在所需体积被可聚合材料34填充之后，能源 38产生能量40，例如紫外辐射，使得可聚合材料34固化和/或交联，并且与基板12的表面 44的形状相一致，并使表面22图案化，在基板12上形成图案化的层46。图案化的层46可能包括残余的层48以及大量的特征结构，图中显示为凸起件50和凹陷52，凸起件50的厚 度为、，残余层的厚度为t2。上述系统和方法可以进一步使用以下文献所述的压印光刻工艺和系统实施美 国专利第6，932，934号，美国专利申请公开第2004/0124566号，美国专利申请公开第 2004/0188381号，以及美国专利申请公开第2004/0211754号，这些文献都参考结合入本文中。在另一实施方式中，可使用以下技术实施上述系统和方法，这些技术包括但不限 于光刻(例如，各种波长包括G线、I线、248nm、193nm、157nm和13. 2-13. 4nm)、接触光刻、 电子束光刻、χ-射线光刻、离子束光刻、原子光刻等。目前，在本领域内，用表面活性剂分子处理模板18是以稀释的喷涂表面活性剂/ 溶剂溶液的方式进行。在使用稀释的喷涂表面活性剂/溶剂溶液的过程中，通常难以获得 表面活性剂分子在模板上的精确分布。图3A-3C示出了实现表面活性剂在模板18上精确分布以提供以下两个区域的 一个示例性实施方式的简化侧视图表面活性剂富集区SRR和表面活性剂损耗区SDR。通 常，通过使模板18与沉积在基板12上的表面活性剂(例如表面活性剂液体60)接触处 理模板18，从而控制表面活性剂液体60的分布，以提供表面活性剂富集区SRR和表面 活性剂损耗区SDR。控制分布可进一步实现对表面活性剂富集区SRR内的接触角Qsrr 值以及表面活性剂损耗区SDR内的接触角Osdr值的控制。这样，表面活性剂富集区SRR 内的接触角Qsrr和表面活性剂损耗区SDR内的接触角Gsdr可适用于不同应用，提供 0SRR> SDR； 0SRR< SDR；和/或 SDR。此外，通过改变表面活性剂液体60的组 成，可控制接触角Osrr和/或Qsdr以适应不同的应用，提供Osrr >0sdr； 0Srr< Gsdr；和 / 或 SRR= 0SDR°参考图3A，模板18的表面62最初基本上不含表面活性剂液体60。或者，模板18 的表面62经过预处理。例如，可用上述稀释的喷涂表面活性剂/溶剂溶液预处理模板18 的表面62。为向模板18提供表面活性剂液体60，可将压印流体58沉积到基板12上。压印流 体58可包括但不限于可聚合材料34和表面活性剂液体60。可聚合材料34可由几种不同 类型的本体(bulk)材料形成。例如，可聚合材料34可由以下本体材料制成，这些材料包括 但不限于乙烯醚、甲基丙烯酸酯、环氧树脂、硫醇-烯和丙烯酸酯等。本体材料在美国专利 7，307，118中进一步详细描述，该专利的内容被纳入本文作为参考。一旦压印流体58沉积到基板12，通常，表面活性剂液体60就可迁移至液/气界 面。这样，通过使模板18定位成与压印流体58相接触，如图3B所示，至少一部分模板18 的表面62就可以被表面活性剂液体60处理。通常，用表面活性剂液体60处理之后，模板18的表面62可限定出表面活性剂富 集区SRR和/或表面活性剂损耗区SDR，如图3C所示。表面活性剂富集区SRR可包括一层 表面活性剂液体60，其厚度为t3。例如，该层表面活性剂液体60的厚度t3约为0. 2-5nm。 表面活性剂损耗区SDR可包括一层表面活性剂液体60，其厚度为t4。通常，与表面活性剂 富集区SRR的厚度t3相比，表面活性剂损耗区SDR的厚度t4显著降低。例如，表面活性剂 损耗区的厚度t4可以是零或接近零。
表面活性剂液体60在模板18的分布可提供表面活性剂富集区SRR处的接触角 Osrr和表面活性剂损耗区SDR处的接触角Osdr，为Qsrr > OsdrjOSRR < Qsdr；和/或 0SRR- Osdr。通常，表面活性剂富集区SRR处的接触角Qsrr比表面活性剂损耗区SDR处的 接触角Gsdr小约55°。而且，表面活性剂液体60的组成可提供各种接触角；可选择表面活性剂液体60 以提供表面活性剂富集区SRR处的近似接触角Qsrr和表面活性剂损耗区SDR处的近似接 触角Osdr。这样，表面活性剂液体60的选择可实现0SRR> 0SDR、0SRR< SDR、和/或
SRR~ SDR，取决于应用的设计构思。示例性的表面活性剂(例如表面活性剂液体60)可包括诸如氟_脂族聚合酯、聚 氧乙烯的氟表面活性剂、聚烷基醚的氟表面活性剂、氟烷基聚醚等表面活性剂组分。示例性 的表面活性剂组分在美国专利3，403，122、美国专利3，787，351、美国专利4，803，145、美国 专利4，835，084、美国专利4，845，008、美国专利5，280，644、美国专利5，747，234、美国专 利6，664，354和美国专利2006/0175736中进一步描述，这些专利的内容被纳入本文作为参 考。示例性的市售表面活性剂组分包括但不限于营业所位于特华达州威尔明顿 (Wilmington)的杜邦公司生产的 ZONYL FSO、ZONYL FSO-100、ZONYL FSN-100 和 Z0NYL FS-300 ；营业所位于明尼苏达州梅普尔伍德(Map 1 ewood)的3M公司生产的FC-4432、 FC-4430和FC-430 ；营业所位于伊利诺斯州阿林顿(Arlington Heights)的梅森化学品 公司(Mason)生产的玛塞(MASURF) FS425、玛塞 FS1700、玛塞 FS2000、玛塞 FS1239 ； 营业所位于瑞士巴塞尔的汽巴-吉瑞联合公司(Ciba-Geigy Corporation)生产的劳达 (Lodyne) S-107B、劳达S-220N ；营业所位于日本大阪基塔科(Kita_ku)的大金公司生产的 优尼恩(Unidyne) NS1602、优尼恩NS1603、优尼恩NS1606a ；营业所位于日本丘奥日本帕斯 科(Nihonbaski，Chuo)的戴尼普(Dainippon)油墨与化学公司生产的莫格非斯(MegaFace) R-08。可通过接触角分析进行表面活性剂(例如表面活性剂液体60)的选择。接触角分 析可包括在模拟的表面活性剂富集区SRRsim和/或模拟的表面活性剂损耗区SDRsim上进行 接触角的模拟测试。参考附图4A-4C，通过在测试基板72上用测角计70测量，实现在模拟表面活性剂 富集区上SRRsim上的接触角分析。测试基板72可以由基本上类似于模板18的材料形成。 例如，测试基板72可以由熔凝氧化硅形成。此外，测试基板72可以具有这样的尺寸其基 本上类似于模板18，以适应至少一个模拟的表面活性剂富集区SRRsim。测试基板72可以经过清洁、烘干并储存在氮气盒中。如图4A所示，用表面活性剂 溶液清洗测试基板72以形成厚度t5的薄膜74。表面活性剂溶液可以是稀释的表面活性剂 溶液。例如，表面活性剂溶液可以是由一定重量百分率的表面活性剂分子在异丙醇(IPA) 中形成的溶液。表面活性剂溶液中的表面活性剂分子可类似于表面活性剂液体60内的表 面活性剂分子。测试基板72上的表面活性剂溶液的薄膜74可干燥，和/或大部分薄膜74 可蒸发以降低厚度t5，如图4B所示。例如，蒸发之后，厚度t5可基本为零，表面活性剂溶液 内的IPA基本上蒸发。参考图4C，压印流体58的液滴可沉积到测试基板72上以形成模拟的表面活性剂富集区SRRsim。每一滴压印流体58的体积为VD。例如，每一滴的体积Vd可约为5 μ L0体积 Vd可包括可聚合材料34和表面活性剂液体60。表面活性剂液体60可包含与表面活性剂溶 液74相比类似的表面活性剂分子。或者，表面活性剂液体60可包含与表面活性剂溶液74 相比不同的表面活性剂分子。可以在测试基板72上的多个位置测量测试基板72上压印流体58的接触角。例 如，可以用测角计70在多个位置(例如7个位置)测量可以流体58的接触角。将多个位 置的接触角取平均值，得到模拟的表面活性剂富集区SRRsim上接触角θ K_SIM的大小。参考附图5A-5C，通过在测试基板72a上用测角计70测量，可以提供在模拟的表面 活性剂损耗区上SDRsim上的接触角分析。测试基板72a可由基本上类似于模板18的材料 形成和/或由基本上类似于测试基板72的材料构成。例如，测试基板72a可由熔凝氧化硅 形成。此外，测试基板72a的大小可以是基本上类似于模板18和/或大小适应至少一个 模拟的表面活性剂损耗区SDRsim。类似于图4的测试基板72，图5A中的测试基板72a可以经过清洁、烘干并储存在 氮气盒中。然后，用溶剂(例如IPA)清洗测试基板72a，以提供厚度t6的薄膜78。测试基 板72a上的溶剂薄膜78可经过干燥和/或至少一部分溶剂薄膜78可蒸发以降低厚度t6， 如图5B所示。例如，大部分IPA蒸发后厚度t6可基本为零。参考图5C，压印流体58的液滴可沉积到测试基板72a上，以形成模拟的表面活性 剂损耗区SDRsim。每一滴压印流体58的体积为VD2。例如，每一滴的体积Vd2可约为5 μ L0 体积Vd2可基本上类似于图4所示测试基板72上液滴的体积VD。图5C中测试基板72a上 液滴的体积Vd2可包含可聚合材料34和表面活性剂液体60。可以在测试基板72a上的多个位置测量测试基板72a上压印流体58的接触角。例 如，可以用测角计70在多个位置(例如7个位置)测量压印流体58的接触角。将多个位 置的接触角取平均值，得到模拟的表面活性剂损耗区SDRsim上接触角eD_SIM的大小。沉积到测试基板72a上的压印流体58内表面活性剂液体60的变化可实现对模拟 的表面活性剂富集区SRRsim和/或模拟的表面活性剂损耗区SDRsim内的接触角的控制，从 而实现压印期间对表面活性剂富集区SRR和表面活性剂损耗区SDR的控制。例如，包含约 0. 17% FCC4432和0. 33% FC4430以及可聚合材料34的表面活性剂液体60形成的压印流 体58可以提供的0R_SM约为20°，ΘΙ^ιμ约为22°，使得0r_Sim ^ QD-SM。在另一个实施方 式中，包含约0. 5% R-08和可聚合材料34的表面活性剂液体60形成的压印流体58可以提 供的0R_SIM约为15°，0D_SIM约为22°，使得0R_SIM<0D-SM。在另一个实施方式中，包含 约0. 5% FS200和可聚合材料34的表面活性剂液体60形成的压印流体58提供的0R_SM约 为 18°，Qd-SIM约为 10°，使得OR.SIM > 0D-SiM。控制接触角以提供合适的润湿特性图6示出了用于在模板18和可聚合材料34之间提供合适的润湿特性的示例性方 法300的流程图。通过控制接触角Osrr和Osdr可得到合适的润湿特性。例如，通过使用由 模拟的表面活性剂富集区SRRsim和模拟的表面活性剂损耗区SDRsim的接触角分析得到的结 果，可选择提供近似接触角0r.Sim和Qd.SIM的表面活性剂液体60，使得0SRR > Osdr。然后， 控制表面活性剂液体60在模板18上的施加，从而在模板18上提供表面活性剂富集区SRR 和表面活性剂损耗区SDR。与表面活性剂富集区SRR内的接触角Osrr相比，模板18上表面活性剂损耗区SDR内的接触角Osdr降低，为可聚合材料34提供润湿表面活性剂损耗区SDR 的额外驱动力。这样，压印期间图案化的层46内形成的空隙(如图2所示)显著减少。在步骤302中，可提供多种表面活性剂溶液74和/或多种表面活性剂液体60。在 步骤304中，可以确定用表面活性剂液体74清洗的测试基板72上模拟的表面活性剂富集 区SRRsim中每种表面活性剂液体60的接触角0^5^。可选地，可采用表面活性剂液体60和 表面活性剂溶液74，由现有测试，基于参比文献(例如数据库)，确定接触角0r_sim。在步骤 306，可以确定用溶剂78清洗的测试基板72a上模拟的表面活性剂损耗区SDRsim中每种表面 活性剂液体60的接触角Gd-S1m。可选地，可采用表面活性剂液体60和溶剂74，由现有测试， 基于参比文献(例如数据库)确定接触角Qd.Sim。在步骤308，可以确定适用于压印的表面 活性剂液体60。例如，可选择提供Osrr > Qsdr的表面活性剂液体60。在步骤310，可将由 可聚合材料34和表面活性剂液体60形成的压印材料58沉积到基板12上。应注意，可将 表面活性剂液体60直接施加到模板18上，而不需要在模板18与可聚合材料34接触之前， 直接添加到可聚合材料34中。通常，压印流体58内的表面活性剂液体60可以朝气/液界 面迁移。在步骤312，模板18可接触压印流体58，使得至少一部分的表面活性剂液体60保 留在模板18的表面62上以形成至少一个表面活性剂富集区SRR和至少一个表面活性剂损 耗区SDR。压印期间，在至少一个表面活性剂富集区SRR内提供的近似接触角Qsrr可以小 于、大于、或者基本上类似于压印期间至少一个表面活性剂损耗区内的近似接触角Qsdr。在 步骤314，可聚合材料34可固化而形成图案化的层46。利用接触角分析的液滴图案转移应用如图3A-3C所示，模板18上表面活性剂的分布可提供两个区域表面活性剂富集 区SRR和表面活性剂损耗区SDR。在该阶段期间，模板18上的表面活性剂富集区SRR基本 上位于模板18与压印流体58的接触点位置。在填充模具20和基板12之间的所需体积的 过程中，如图7A和7B所示，随着模板18接触压印流体58并且压印流体58扩散在基板12 的表面44，压印流体58内的表面活性剂液体60可迁移至气/液界面。这样，表面活性剂液 体60可以在模板18的局部区域内聚集，在液滴位置80形成表面活性剂损耗区SDR，而在液 滴位置80之间形成表面活性剂富集区SRR。液滴位置80之间的表面活性剂富集区SRR通 常形成间隙区域而产生空隙。液滴转移甚至会移出模板18上的表面活性剂分布之外。例如，图7B示出了在第 一液滴图案压印之后的表面活性剂损耗区SDR和表面活性剂富集区SRR。在随后的压印过 程中，可利用第二液滴图案在相对于第一液滴图案的转移位置提供液滴位置80。在随后的 液滴图案中，液滴80的转移位置可以定位成使得至少一个压印流体58的液滴80在表面 活性剂富集区SRR接触模板18。在多个基板12的压印期间，可连续或零星地使用液滴转移图案化。例如，可利用 第一液滴图案来压印，然后是一个或多个液滴转移图案。可选地，可多次使用第一液滴图 案，然后使用一个或多个液滴转移图案。以类似的方式，第一液滴图案可使用一次，然后是 多次使用一个或多个液滴转移图案。而且，相对于表面活性剂富集区SRR的接触角Osrr，通过降低表面活性剂损耗区 SDR的接触角Qsdr使得Qsrr > 0SDR，表面活性剂损耗区SDR较小的接触角Osdr可为可聚 合材料34提供润湿和填充表面活性剂损耗区SDR的额外驱动力。
图8示出了采用液滴图案转移在模板和可聚合材料之间提供合适的润湿特性的 另一种示例性方法400的流程图。在步骤402，可提供多种表面活性剂溶液74和/或多种 表面活性剂液体60。在步骤404，可以确定用表面活性剂溶液74清洗的测试基板72上模 拟的表面活性剂富集区SRRsim中每种表面活性剂液体60的接触角01^^。在步骤406，可以 确定用溶剂78清洗的测试基板72a上模拟的表面活性剂损耗区SDRsim中每种表面活性剂 液体60的接触角0D.SM。在408，可以选择能够提供合适的接触角的表面活性剂液体60。例 如，可选择提供接触角Osrr > Osdr的表面活性剂液体60。在步骤410，可将由可聚合材料34和表面活性剂液体60形成的压印材料58以第 一图案分配到基板12上。通常，压印流体58中的表面活性剂液体60可以朝气/液界面迁 移。在步骤412，模板18可接触压印流体58。在步骤414，压印流体58可以被固化形成第 一图案化的层46。在步骤416，使模板18与第一图案化的层46分离，分离时模板18具有 表面活性剂富集区SRR和表面活性剂损耗区SDR。在步骤418，将由可聚合材料34和表面活性剂液体60形成的压印材料58以第二 液滴图案分配到第二基板12上。第二液滴图案可以基本上类似于第一液滴图案并转移位 置χ和/或位置y，使得至少一个液滴位置接触至少一个模板18的表面活性剂损耗区SDR。 在步骤420，模板18可接触压印流体58。在步骤422，压印流体58可以被固化形成第二图 案化的层46。第二图案化的层46中没有空隙或者空隙有限。
权利要求
一种确定模板与可聚合材料之间的润湿特性的方法，该方法包括将包含第一可聚合材料和表面活性剂的第一压印流体分配到基板上；使与基板叠置的模板与第一压印流体相接触，使得至少一部分所述第一压印流体的表面活性剂与所述模板相接触；分离所述模板和所述第一压印流体，从而在所述模板的表面上形成具有第一厚度的表面活性剂富集区、和具有第二厚度的表面活性剂损耗区；使所述模板与第二压印流体相接触，使得至少一部分的第二可聚合材料与所述模板相接触，其中，所述表面活性剂富集区内所述模板与所述第二可聚合材料之间的第一接触角，与所述表面活性剂损耗区内所述模板与所述第二可聚合材料之间的第二接触角不相等。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面活性剂富集区内的所述第一接触 角大于所述表面活性剂损耗区内的所述第二接触角。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面活性剂富集区内的所述第一接触 角小于所述表面活性剂损耗区内的所述第二接触角。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一厚度大于所述第二厚度。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二厚度基本上为零。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一接触角的值小于50°。
7.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括在所述第二压印流体与所述模板相接触 之后使所述第二压印流体固化。
8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述模板是压印光刻模板。
9.一种方法，其包括确定在第一基板上模拟的表面活性剂富集区内的第一和第二表面活性剂液体的第一 接触角，所述第一和第二表面活性剂液体具有不同的物理特性；确定在第二基板上模拟的表面活性剂损耗区内的所述第一和第二表面活性剂液体各 自的第二接触角；根据所述第一和第二接触角的作用，选择所述第一和第二表面活性剂液体中的一种， 用于压印过程。
10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述确定模拟的表面活性剂富集区内的第 一接触角包括用表面活性剂溶液清洗所述第一基板；将压印流体分配到所述第一基板上，以形成模拟的表面活性剂富集区，所述压印流体 由可聚合材料和第三表面活性剂液体形成；和测量所述模拟的表面活性剂富集区内的第一接触角。
11.如权利要求10所述的方法，所述方法还包括用测角计测量所述第一接触角。
12.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述确定模拟的表面活性剂损耗区内的测 得接触角包括用溶剂清洗第二测试基板；将压印流体分配到所述第二测试基板上，以形成模拟的表面活性剂损耗区，所述压印 流体由可聚合材料和表面活性剂液体形成；和测量所述模拟的表面活性剂损耗区内的接触角。
13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述第二接触角是用测角计测量的。
14.如权利要求9所述的方法，其特征在于，对于选定的所述第一和第二表面活性剂液 体中的一种，所述模拟的表面活性剂富集区内的所述第一接触角大于所述模拟的表面活性 剂损耗区内的所述第二接触角。
15.如权利要求9所述的方法，其特征在于，对于选定的所述第一和第二表面活性剂液 体中的一种，所述模拟的表面活性剂富集区内的所述第一接触角小于所述模拟的表面活性 剂损耗区内的所述第二接触角。
16.如权利要求9所述的方法，其特征在于，对于选定的第一和第二表面活性剂液体、 或者它们中的一种，所述模拟的表面活性剂富集区内的所述第一接触角基本上类似于所述 模拟的表面活性剂损耗区内的所述第二接触角。
17.如权利要求9所述的方法，所述方法还包括 将模板定位成与第三基板叠置；和将由第一可聚合材料和选定的所述第一和第二表面活性剂液体中的一种形成的第一 压印流体，分配到所述第三基板的表面上。
18.如权利要求17所述的方法，其特征在于，所述方法还包括使所述模板与所述第一压印流体相接触，使得选定的所述第一和第二表面活性剂液体 中的一种的至少一部分与所述模板相接触，从而在所述模板的表面上形成至少一个表面活 性剂富集区和至少一个表面活性剂损耗区。
19.如权利要求18所述的方法，所述方法还包括 将第二压印流体以第一液滴图案分配到第四基板上； 使所述模板与所述第四基板上的第二压印流体相接触； 使所述第二压印流体固化，以形成图案化的层；和 从所述模板分离所述图案化的层。
20.如权利要求19所述的方法，其特征在于，所述方法还包括将第三压印流体以第二液滴图案分配到第五基板上，所述第二液滴图案提供所述第一 液体图案的液滴转移图案，并能在与所述第五基板接触的期间，提供选定的所述第一和第 二表面活性剂液体中的一种在所述模板上基本上均勻的分布；和 使所述模板与沉积在所述第五基板上的第三压印流体相接触。
21.一种确定模板与可聚合材料之间的润湿特性的方法，该方法包括将第一压印流体的第一液滴图案分配到第一基板上，所述第一基板与模板叠置； 使所述模板与所述第一压印流体的第一液滴图案相接触以压印和提供第一图案化的层；从所述第一图案化的层分离所述模板，其中所述模板的表面包括至少一个表面活性剂 富集区和至少一个表面活性剂损耗区；将第二压印流体的第二液滴图案分配到第二基板上，所述第二液滴图案能够在所述模 板与所述第二压印流体的第二液滴图案相接触的过程中，在所述模板的表面活性剂富集区 内提供至少一滴第二压印流体；和使所述模板与所述第二压印流体的第二液滴图案相接触，以压印和提供第二图案化的层。
22.如权利要求21所述的方法，其特征在于，所述表面活性剂富集区内所述模板与所 述第二压印流体之间的第一接触角，小于所述表面活性剂损耗区内所述模板与所述第二压 印流体之间的第二接触角。
23.如权利要求21所述的方法，其特征在于，所述表面活性剂富集区内所述模板与所 述第二压印流体之间的第一接触角，大于所述表面活性剂损耗区内所述模板与所述第二压 印流体之间的第二接触角。
24.如权利要求21所述的方法，其特征在于，所述模板是压印光刻模板。
全文摘要
处理模板以提供表面活性剂富集区和表面活性剂损耗区。表面活性剂富集区处的接触角可以大于、小于或基本上类似于表面活性剂损耗区内的接触角。
文档编号B29C59/00GK101903159SQ200880122159
公开日2010年12月1日 申请日期2008年12月18日 优先权日2007年12月18日
发明者F·Y·徐, I·M·麦克麦基, P·B·拉德 申请人:分子制模股份有限公司