流延膜电晕处理装置的制作方法

本实用新型涉及流延膜制造设备，特别涉及一种流延膜电晕处理装置。

背景技术：

流延膜是一种平挤薄膜，是主要的包装复合基材，非常方便后续的印刷、复合等工序。但是未经任何处理的流延膜是不适合印涂的，原因是流延膜的表面非常光滑，表面吸附力低，印涂料容易脱落，所以流延膜在印涂前必需进行电晕处理。电晕处理是利用流延膜作为介质阻挡放电，使流延膜的印涂面形成凹凸不平的表面，以提高其表面吸附力。

中国专利公告号为CN206140964U的专利公开了一种电晕装置，包括机体，机体开有供流延膜贯穿机体的送料口，在送料口内设置有电晕触头，机体顶端连接有将空气抽离的抽风管，使用时，流延膜通过送料口进入机体内被电晕触头电晕出来，电晕处理时会产生臭氧等对人体有害的其他，通过抽风管将这些气体抽离，但是，在抽离时，由于为了保证流延膜正常通过，通常送料口较大，所以很大一部分有害气体会从送料口泄露，危害工人身体健康。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种流延膜电晕处理装置，使用时有害气体不易发生泄漏。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种流延膜电晕处理装置，包括上机架与下机架、分别设于上机架与下机架上用于压紧流延膜的传动辊、设于下机架内的电晕触头，所述上机架上设置有用于将上机架与下机架之间的气体抽出的抽气管，所述上机架包括有上密封罩，所述下机架包括下密封罩，所述上密封罩两侧转动设置有上密封辊，所述下密封罩两侧转动设置有用于与上密封辊抵触阻止电晕时产生的气体从上密封罩与下密封罩之间泄露的下密封辊。

通过上述技术方案，使用时，由于在上密封罩上设置有上密封辊，下密封罩上设置有下密封辊，所以当流延膜通过时，先通过上密封辊与下密封辊之间，然后再通过传动辊被电晕触头进行电晕处理，处理完之后又通过上密封辊与下密封辊之间出来进行下一步加工，这样在上密封罩与下密封罩之间将只存在极小的间隙，而且在上密封罩上设置有抽气管源源不断的从上密封罩与下密封罩之间抽出气体，所以这些极小的间隙中将只能够供新的空气通过并进入上密封罩与下密封罩之间，很大程度上减少了电晕时产生的有害气体从上密封罩与下密封罩之间泄露，保障工人安全的工作环境，同时由于上密封辊与下密封辊的存在，使得流延膜进入上密封罩与下密封罩之间时不易被上密封罩与下密封罩刮伤，增加了产品的成品率。

优选的，所述上密封辊、下密封辊分别位于上密封罩、下密封罩外，且所述上密封辊、下密封辊分别与上密封罩、下密封罩表面之间的距离为1mm~10mm。

通过上述技术方案，为了使得上密封辊与下密封辊的存在不影响电晕的进行，将上密封辊与下密封辊设置在上密封罩与下密封罩外侧，同时使得上密封辊与下密封辊与上密封罩与下密封罩之间的距离保持在1~5mm，就可以控制上密封罩与下密封罩之间的间隙，最大程度上阻止有害气体的泄露。

优选的，所述上密封罩与下密封罩上分别设置有用于供外界气体单向进入上机架与下机架之间的单项气阀。

通过上述技术方案，由于上密封罩与下密封罩之间的间距较小，所以抽气管在对上机架与下机架进行抽气时，外界的气体不能够从上密封罩与下密封罩之间的间隙快速中进入，就会使得抽气时非常费力，因此在上密封罩与下密封罩上设置有单项气阀，使得外界的气体通过单项气阀快速进入上密封罩与下密封罩中，同时一定程度上避免了上密封罩与下密封罩之间的气体从该处排出。

优选的，所述单项气阀包括设置在上密封罩与下密封罩上的多个通气孔、用于将通气孔堵住的密封膜片，所述密封膜片位于上密封罩与下密封罩内部。

通过上述技术方案，通过设置通气孔与密封膜片，可以在抽气管抽气时，空气从通气孔中涌入然后推动密封膜片形变，使得外界的气体快速通过通气孔进入上密封罩与下密封罩之间，当内部的空气向外运动时，密封膜片将和上密封罩与下密封罩的侧壁紧贴，使得通气孔被堵住，有效避免的上密封罩与下密封罩之间的气体排出，这样有害气体将从抽气管中被抽走，泄露很少极少，保障工人工作环境安全。

优选的，所述密封膜片上设置有用于将密封膜片固定在上密封罩与下密封罩上的固定凸起，所述上密封罩与下密封罩上设置有供固定凸起插入的固定孔。

通过上述技术方案，由于密封膜片在工作时需要频繁形变，因此工作时容易损坏，需要按时更换密封膜片，通过在密封膜片上设置有固定凸起，同时在上密封罩与下密封罩上设置有与固定凸起配合的固定孔，就可以方便的固定与更换密封膜片。

优选的，所述密封膜片为圆形，所述固定凸起位于密封膜片中心，所述通气孔以固定孔为圆心圆周均布在上密封罩与下密封罩上。

通过上述技术方案，为了使得通气孔在工作时可以被密封膜片有效密封，将固定块均布在固定孔周围，同时将固定凸起设置在密封膜片中心，这样密封膜片形变时方便形变，同样对各个通气孔的密封效果均较好。

优选的，所述密封膜片从远离固定凸起侧到固定凸起侧其厚度逐渐增加。

通过上述技术方案，为了使得密封膜片对通气孔的密封效果更好，同样也使得密封膜片在使用中不易损坏，将密封膜片远离固定凸起侧设置较薄，方便密封膜片形变，也使得密封膜片不易发生翻折，避免了密封膜片失去密封作用。

优选的，所述下机架上设置有用于驱动上机架远离下机架的驱动装置。

通过上述技术方案，在将流延膜穿过上机架与下机架之间时，通过驱动装置将上机架与下机架之间的距离增大，方便流延膜穿过，穿过后又通过驱动装置使得上机架与下机架靠近，这时传动辊将把流延膜压紧在上机架与下机架之间，方便对流延膜进行电晕处理。

优选的，所述驱动装置包括固定在下机架上的驱动气缸，所述驱动气缸的活塞杆与上机架固定连接。

通过上述技术方案，驱动气缸工作时操作简单方便，不需要频繁维修，且安装简单方便。

综上所述，本实用新型对比于现有技术的有益效果为：通过在上密封罩两侧设置上密封辊，在下密封罩两侧设置下密封辊，可以使得上密封罩与下密封罩之间的间隙较小，有效阻止电晕产生的有害气体从上密封罩和下密封罩之间的间隙中泄露。

附图说明

图1为实施例的结构示意图；

图2为实施例的半剖视图，主要突出单项气阀与电晕触头的结构；

图3为图2中A处的放大视图，主要突出密封膜片的结构；

图4为图2中B处的放大视图，主要突出上密封辊、下密封辊的结构。

附图标记：1、上机架；2、下机架；3、传动辊；4、电晕触头；5、抽气管；6、上密封罩；7、下密封罩；8、上密封辊；9、下密封辊；10、单项气阀；101、通气孔；102、密封膜片；11、固定凸起；12、固定孔；13、驱动气缸；14、流延膜。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。

如图2、4所示，一种流延膜电晕处理装置，包括上机架1与下机架2、设于上机架1与下机架2上用于压紧流延膜14的传动辊3、设于下机架2内的电晕触头4、设于上机架1上的抽气管5，其中，上机架1包括有上密封罩6，下机架2包括下密封罩7，上密封罩6与下密封罩7将传动辊3与电晕触头4包裹住，在在上密封罩6与下密封罩7之间存在一个供流延膜14穿过的空隙，在空隙两侧即上上密封罩6与下密封罩7上分别设置有上密封辊8与下密封辊9，上密封辊8转动设置在上密封罩6两侧，下密封辊9转动设置在下密封罩7两侧，使用时上密封辊8与下密封辊9相互抵触，流延膜14从上密封辊8与下密封辊9之间通过。

如图1、4所示，其中，上密封辊8、下密封辊9分别设在上密封罩6、下密封罩7外，在上密封罩6与下密封罩7外设置有固定上密封辊8与下密封辊9的固定块，上密封辊8与下密封辊9通过固定块固定在上密封罩6与下密封罩7上，使用时，上密封辊8、下密封辊9分别于上密封罩6、下密封罩7表面之间的距离保持在1mm~10mm之间，这样上密封罩6与下密封罩7之间的间隙将较小，不易有害气体的泄露。

如图1、3所示，在上密封罩6与下密封罩7上分别设置有固定孔12，围绕固定孔12圆周均布有一圈通气孔101，在固定孔12中固定有中心带有固定凸起11的密封膜片102，密封膜片102位于上密封罩6与下密封罩7内部，固定后，固定凸起11位于固定孔12中，密封膜片102与上密封罩6以及下密封罩7的内壁相贴，这时通气孔101将被密封膜片102堵住。

使用时，抽气管5从上密封罩6与下密封罩7之间抽取气体，这时外界的气体将通过通气孔101向上密封罩6与下密封罩7之间运动，这些气体将推动密封膜片102发生形变使得通气孔101被打开，之后外界的气体将快速进入上密封罩6与下密封罩7之间，当上密封罩6与下密封罩7之间的气体较多时，密封膜片102将与上密封罩6和下密封罩7内壁相贴将通气孔101堵住，阻止上密封罩6与下密封罩7之间的气体通过通气孔101泄露。

如图2、3所示，其中，密封膜片102为圆形，固定凸起11位于密封膜片102的中心，固定凸起11插入固定孔12时将与固定孔12卡接，使得密封膜片102固定在上密封罩6与下密封罩7上，密封膜片102从远离固定凸起11侧到固定凸起11侧其厚度逐渐增加。

如图1、2所示，在下机架2上设置有驱动气缸13，驱动气缸13的活塞杆与上机架1固定连接，抽气管5与空气处理装置连通，使用时通过抽气管5将上密封罩6与下密封罩7之间的空气抽取，然后通入空气处理装置中对有害气体进行吸收处理。

使用时，通过驱动气缸13驱动上机架1远离下机架2，这时将在上机架1与下机架2之间产生较大的间隙，然后将流延膜14穿过上机架1与下机架2之间，之后通过驱动气缸13拉动上机架1，使得上机架1向下机架2侧运动直至流延膜14被传动辊3压紧在上机架1与下机架2之间，之后使得传动辊3转动，流延膜14源源不断的将先通过上密封辊8与下密封辊9之间，然后到达传动辊3处进行电晕处理，电晕处理完之后，又通过另一组上密封辊8与下密封辊9之间出去，然后进行下一步加工，在此过程中，抽气管5将不断的从上密封罩6与下密封罩7之间抽取气体，这样外界的气体将通过上密封罩6与上传动辊3之间的间隙、下密封罩7与下传动辊3之间的间隙以及通气孔101中进入上密封罩6与下密封罩7中，不易发生有害气体的泄露。

以上仅是本实用新型的示范性实施方式，而非用于限制本实用新型的保护范围，本实用新型的保护范围由所附的权利要求确定。