一种熔融金属的电弧炉的制作方法

文档序号:12355745阅读:305来源:国知局
一种熔融金属的电弧炉的制作方法与工艺

本发明涉及金属熔融设备,特别涉及一种电弧炉。



背景技术:

电弧炉是利用电极电弧产生的高温熔炼矿石和金属的电炉。气体放电形成电弧时能量很集中,弧区温度在3000℃以上。对于熔炼金属,电弧炉比其他炼钢炉工艺灵活性大,能有效地除去硫、磷等杂质,炉温容易控制,设备占地面积小,适于优质合金钢的熔炼。

在利用电弧炉进行金属熔炼时,需要将电极放入或拿出炉体。因此出现了一些电极升降机构。传统的升降机构基本都是通过滑轮组实现升降的。这些升降设备升降稳定度不够,而且现场环境凌乱。传统的升降机构与炉体是分体式的,占地面积大。



技术实现要素:

本发明的目的是提供一种结构简单,占地面积小,电极升降稳定,有利于金属熔融的电弧炉。

实现本发明目的的技术方案是:本发明包括炉体、炉盖、电极和电极升降装置;所述电极升降装置包括驱动装置、升降立柱和固定电极的固定架;所述固定架滑动设置在升降立柱上;所述升降立柱固定设置在炉体上;所述固定架包括滑套、固定横梁和传动块;所述滑套滑动套装在升降立柱上,滑套的左部外端面固定设有固定横梁,固定横梁的自由端固定设有电极;所述传动块固定设置在滑套上,传动块上设有沿升降方向延伸的螺纹通孔;所述驱动装置包括传动机构、蜗轮副和驱动螺杆;所述传动机构的输出轴与蜗轮副的蜗杆固定连接;所述驱动螺杆的一端与蜗轮副的蜗轮固定连接;所述驱动螺杆穿过传动块上的螺纹通孔且与螺纹通孔传动配合。

上述驱动装置还包括卷扬机构;所述卷扬机构包括第一导轮、第二导轮、卷扬盘和钢丝绳;所述卷扬盘固定设置在蜗轮副的蜗杆的自由端且与蜗杆同轴;所述第一导轮设置在升降立柱的尾端,第二导轮设置在升降立柱的头部;所述钢丝绳的一端固定设置在 卷扬盘上,另一端穿过第一导轮、第二导轮与固定横梁的中部固定连接。

上述滑套的底部相对设有左压轮和右压轮。

上述升降立柱上设有沿升降方向延伸的凹槽;所述升降立柱的横截面呈C型;所述第一导轮和第二导轮设置在升降立柱的凹槽内。

上述滑套的右部外端面设有传动块。

上述滑套的右部内端面上设有传动块;所述驱动螺杆位于升降立柱的凹槽内。

本发明具有积极的效果:(1)本发明的电极升降装置固定设置在炉体上,占地面积小;(2)本发明通过蜗轮副实现电极的升降,由于蜗轮副的传动稳定性,也保证了电极的升降稳定性;(3)本发明辅助利用卷扬机构可以进一步保证固定横梁的稳定性,从而保证整个装置的稳定性;(4)本发明通过左压轮和右压轮可以保证滑套滑动的稳定性;(5)本发明将第一导轮、第二导轮和驱动螺杆隐藏在升降立柱的凹槽内,不仅使得外观更加简洁而且对传动部件具有一定的保护作用。

附图说明

为了使本发明的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本发明作进一步详细的说明,其中

图1为本发明的结构示意图;

图2为本发明的左视图;

图3为本发明中传动块的结构示意图;

图4为本发明中传动机构、蜗轮副和驱动螺杆的结构示意图。

具体实施方式

见图1至图4,本发明包括炉体1、炉盖2、电极3和电极升降装置;所述电极升降装置包括驱动装置4、升降立柱5和固定电极3的固定架;所述固定架滑动设置在升降立柱5上;所述升降立柱5固定设置在炉体1上;所述固定架包括滑套6、固定横梁7和传动块8;所述滑套6滑动套装在升降立柱5上,滑套6的左部外端面固定设有固定横梁7,固定横梁7的自由端固定设有电极3;所述滑套6的右部外端面设有传动块8,传动块8上设有沿升降方向延伸的螺纹通孔8-1;所述驱动装置4包括传动机构41、蜗轮副42、驱动螺杆43和卷扬机构44;所述传动机构41的输出轴与蜗轮副42的蜗杆42-1 固定连接;所述驱动螺杆43的一端与蜗轮副42的蜗轮42-2固定连接;所述驱动螺杆43穿过传动块8上的螺纹通孔8-1且与螺纹通孔8-1传动配合;所述卷扬机构44包括第一导轮44-1、第二导轮44-2、卷扬盘44-3和钢丝绳44-4;所述卷扬盘44-3固定设置在蜗轮副42的蜗杆42-1的自由端且与蜗杆42-1同轴;所述第一导轮44-1设置在升降立柱5的尾端,第二导轮44-2设置在升降立柱5的头部;所述钢丝绳44-4的一端固定设置在卷扬盘44-3上,另一端穿过第一导轮44-1、第二导轮44-2与固定横梁7的中部固定连接。

所述滑套6的底部相对设有左压轮6-1和右压轮6-2。

所述升降立柱5上设有沿升降方向延伸的凹槽;所述升降立柱5的横截面呈C型;所述第一导轮44-1和第二导轮44-2设置在升降立柱5的凹槽内。

以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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