本发明涉及环丙羧酸技术领域，尤其涉及一种环丙羧酸合成用原料烘干装置。
背景技术：
环丙羧酸是一种化学物质，分子式是c13h9clfno3。为类黄色或类白色粉末，光照下或暴露于湿空气中容易变黄。一般用作新型喹啉类抗菌药物环丙沙星的中间体。
传统的环丙羧酸在进行合成前，需要对合成的原料进行烘干处理，烘干过程中，原料容易堆积在一起，导致位于底端的原料烘干效果差，为此，我们提出了一种环丙羧酸合成用原料烘干装置。
技术实现要素：
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种环丙羧酸合成用原料烘干装置。
为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：
一种环丙羧酸合成用原料烘干装置，包括烘干箱，所述烘干箱的一侧内壁焊接有固定板，固定板的一侧侧壁开设有凹槽，凹槽的一侧侧壁滑动连接有滑块，滑块的顶端安装有与凹槽顶端侧壁连接的弹簧，滑块的一侧侧壁铰接有过滤网，过滤网的另一端与烘干箱内壁铰接，滑块的底端焊接有三角板，三角板的下方安装有与凹槽侧壁连接的驱动电机，驱动电机的输出端连接有转轴，转轴远离驱动电机的一端焊接有转盘，转盘的侧壁沿其轴向阵列方向焊接有锥形板，烘干箱的顶端内壁和底端内壁焊接有固定箱，固定箱的两侧内壁之间连接有加热丝，加热丝的一侧安装有与固定箱内壁连接的风机，固定箱的一侧侧壁沿其长度方向开设有通孔，且通孔与烘干箱内部连通。
优选的，所述烘干箱的一侧侧壁开设有通道，通道的一侧侧壁铰接有转板，转板的一侧侧壁焊接有限位板，限位板的一侧侧壁连接有插销。
优选的，所述烘干箱的顶端连接有竖截面为漏斗形的进料管，且进料管与烘干箱内部连通。
优选的，所述烘干箱的一侧侧壁开设有插孔，且插孔与插销卡接。
优选的，所述过滤网靠近滑块的一侧侧壁顶端焊接有挡板，挡板与固定板之间平行设置，且挡板的竖截面为长条形。
本发明的有益效果：
通过设置的烘干箱、固定板、凹槽、滑块、弹簧、三角板、转轴、转盘、锥形板、驱动电机、过滤网、挡板、固定箱、加热丝、风机、通孔、进料管、转板、限位板、插销，能够快速对环丙羧酸合成用原料进行烘干处理，不仅能够同时对原料两面烘干，而且能够在烘干中对原料进行抖动，使原料受热均匀，提高了烘干效果和效率，并且操作简单，生产成本低，有很高的经济性，适合大规模的推广。
附图说明
图1为本发明提出的一种环丙羧酸合成用原料烘干装置的结构示意图；
图2为本发明提出的一种环丙羧酸合成用原料烘干装置的a部分结构示意图；
图3为本发明提出的一种环丙羧酸合成用原料烘干装置的烘干箱一侧侧壁结构示意图。
图中：1烘干箱、2固定板、3凹槽、4滑块、5弹簧、6三角板、7转轴、8转盘、9锥形板、10过滤网、11固定箱、12加热丝、13风机、14通孔、15挡板、16进料管、17转板、18限位板、19插销。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-3，一种环丙羧酸合成用原料烘干装置，包括烘干箱1，烘干箱1的一侧内壁焊接有固定板2，固定板2的一侧侧壁开设有凹槽3，凹槽3的一侧侧壁滑动连接有滑块4，滑块4的顶端安装有与凹槽3顶端侧壁连接的弹簧5，滑块4的一侧侧壁铰接有过滤网10，过滤网10的另一端与烘干箱1内壁铰接，滑块4的底端焊接有三角板6，三角板6的下方安装有与凹槽3侧壁连接的驱动电机，驱动电机的输出端连接有转轴7，转轴7远离驱动电机的一端焊接有转盘8，转盘8的侧壁沿其轴向阵列方向焊接有锥形板9，烘干箱1的顶端内壁和底端内壁焊接有固定箱11，固定箱11的两侧内壁之间连接有加热丝12，加热丝12的一侧安装有与固定箱11内壁连接的风机13，固定箱11的一侧侧壁沿其长度方向开设有通孔14，且通孔14与烘干箱1内部连通。
烘干箱1的一侧侧壁开设有通道，通道的一侧侧壁铰接有转板17，转板17的一侧侧壁焊接有限位板18，限位板18的一侧侧壁连接有插销19，烘干箱1的顶端连接有竖截面为漏斗形的进料管16，且进料管16与烘干箱1内部连通，烘干箱1的一侧侧壁开设有插孔，且插孔与插销19卡接，过滤网10靠近滑块4的一侧侧壁顶端焊接有挡板15，挡板15与固定板2之间平行设置，且挡板15的竖截面为长条形。
工作原理：将原料从进料管16倒入，启动驱动电机、加热丝12和风机13，驱动电机带动转轴7，转轴7带动转盘8，转盘8带动锥形板9进行旋转，锥形板9旋转过程中挤压三角板6，使三角板6上下移动，三角板6带动滑块4进行上下移动，滑块4带动过滤网10进行上下抖动，过滤网10带动表面的原料进行抖动，与此同时，风机13将热风吹到原料表面，对原料进行烘干，通过设置的挡板15，能够有效防止原料进入凹槽3内部，烘干完成后，打开转板17，取出原料，该设计简单快捷，操作简单，生产成本低，有很高的经济性，适合大规模的推广。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。