一种立式底装料真空炉设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及真空炉技术领域，特别是涉及一种立式底装料真空炉设备；本实用新型设备可用于包括高压气淬在内的热处理工艺。
【背景技术】
[0002]立式真空炉用途广泛，可用于进行包括高压气淬在内的热处理工艺，具有其底部装料的特点，适用于各种不同的工件，特别是细长工件的热处理。在立式真空炉运行时，炉门下方属于危险区域，应禁止有人活动。特别对于高压气淬炉的情况，由于炉内压力较高，如果炉门下方有人活动，一旦发生事故，后果不堪设想。现有的立式底装料真空炉炉门下方缺少安全防护措施，存在不同程度的安全隐患。
【发明内容】
[0003]为解决上述问题，本实用新型提供一种带翻转式风门的真空炉，包含炉体、真空系统、平台、炉门、支撑臂、升降装置；真空系统与炉体连接，用于对炉体进行抽空；升降装置安装在平台上，升降装置上安装有支撑臂，升降装置带动支撑臂支撑炉门实现上下升降动作；平台下部装有光栅装置；另外，平台下部还装有实体防护，该实体防护可以是防护网、围栏，或是其它防护装置。
[0004]所述的支撑臂为2个。
[0005]所述的光栅装置为I个以上，该光栅装置可发射光束形成光栅，在立式底装料真空炉设备工作过程中，当有人员进入炉门下方的危险区域触动光栅时，会启动报警，可避免在发生意外时对人员造成人身伤害。
[0006]本实用新型与现有技术相比有益效果是:在设备运行时，在有人员进入炉门下方的危险区域的情况下，会启动报警，可避免人员在意外发生时受到人身伤害，降低安全隐串
■/Q1、O
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的示意图；
[0008]图2是本实用新型中光栅装置的分布示意图。
[0009]图中:1.炉体，2.真空系统，3.炉门，4.平台，5、8.升降装置，6、9.支撑臂，7.光栅装置，10、11、12.防护网，13.光栅。
【具体实施方式】
[0010]下面结合附图，对本实用新型作进一步说明:
[0011]如图所示，该立式底装料真空炉设备包含炉体1、真空系统2、平台4、炉门3、支撑臂6和9、升降装置5和8 ;真空系统2与炉体I连接，用于对炉体I进行抽空；升降装置5和8安装在平台上，升降装置5、8上分别安装有支撑臂6和9，可带动支撑臂6和9支撑炉门3实现上下升降动作；平台4下部装有光栅装置7。
[0012]所述的光栅装置7可以为I个或I个以上，图2为光栅装置为I个的实施方式的示意图。如图2所示，在平台4下部的三个侧面分别安装有铁制的防护网10、11、12，在另一侧安装有光栅装置7，该光栅装置7可发射光束形成光栅13。光栅装置7启动时，光栅13和防护网10、11、12会围护炉门下方的危险区域。
[0013]在该实用新型的工作过程:
[0014]首先，炉门3处于图1中的点画线所示的下降位置，装料完毕后，启动升降装置5、8进行上升动作，从而带动支撑臂6、9支撑炉门3上升直至炉门3关闭，关闭升降装置5。此时，启动光栅装置7，光栅装置7发射光束形成光栅13，与防护网10、11、12围护炉门下方的危险区域。当有人员进入炉门3下方的危险区域时，会触动光栅，启动报警，可避免在发生意外时对人员造成人身伤害，降低安全隐患。启动真空系统2，对炉体I进行抽空，然后真空炉进行常规的处理工作。
[0015]当处理结束，需要打开炉门时，首先关闭光栅装置7，启动升降装置5、8进行下降动作，从而带动支撑臂6、9支撑炉门3下降，直至炉门3处于下降位置，关闭升降装置5。
【主权项】
1.一种立式底装料真空炉设备，其特征在于:所述的立式底装料真空炉设备包含炉体、真空系统、平台、炉门、支撑臂、升降装置；真空系统与炉体连接，用于对炉体进行抽空；升降装置安装在平台上，升降装置上安装有支撑臂，升降装置带动支撑臂支撑炉门实现上下升降动作；所述的平台下部装有光栅装置。
2.根据权利要求1所述的一种立式底装料真空炉设备，其特征在于:所述的支撑臂为2个。
3.根据权利要求1所述的一种立式底装料真空炉设备，其特征在于:所述的光栅装置为I个以上。
【专利摘要】本实用新型公开一种立式底装料真空炉设备，涉及真空炉技术领域，包含炉体、真空系统、平台、炉门、支撑臂、升降装置；真空系统与炉体连接，用于对炉体进行抽空；升降装置安装在平台上，升降装置上安装有支撑臂，升降装置带动支撑臂支撑炉门实现上下升降动作；平台下部装有光栅装置；另外，平台下部还装有实体防护，该实体防护可以是防护网、围栏，或是其它防护装置。该光栅装置可发射光束形成光栅，在立式底装料真空炉设备工作过程中，当有人员进入炉门下方的危险区域触动光栅时，会启动报警，可避免在发生意外时对人员造成人身伤害，降低安全隐患。
【IPC分类】F27D21-04
【公开号】CN204612510
【申请号】CN201520204827
【发明人】马贺, 段永利
【申请人】爱发科中北真空（沈阳）有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年4月8日