非晶体二氧化硅处理剂及用其处理污水的工艺和设备的制作方法

技术领域

本发明涉及一种非晶体二氧化硅处理剂及使用该处理剂处理污水的工艺和设备，属于环境保护工艺及设备技术领域。

背景技术：

随着人们生活水平的不断提高，以及城市建设步伐的加快，生活污水和工业废水的处理，已成为环境保护的重中之重，如不能及时有效处理，将严重威胁人类的生存环境。现有技术中的污水处理方法主要有下列两种：

一、化学絮凝法

该方法对重金属、磷、色度的去除效果较好，但对氨氮和有机物的去除效果则较差，并会因产生的大量污泥而造成二次污染。

二、生物法

生物法对有机污染物及氨氮、磷有良好的去除效果, 但对重金属、SS、色度及有毒、有害物质的去除效果较差，尤其在浓度和温度发生变化时，处理后的出水不能稳定达标，同时需要使用大量的化学絮凝剂才能完成污泥的脱水，这必然使脱水后的污泥不仅含有全部污染物，更含有毒、有害的化学絮凝剂，同样造成严重的二次污染。

因此，为使出水能够循环利用，实现污水资源化，达到零排放，并解决二次污染的问题，有必要研制新的污水处理剂以及相适应的处理设备和处理方法。

技术实现要素：

本发明的第一个目的在于提供一种非晶体二氧化硅处理剂。

本发明的第二个目的在于提供一种用非晶体二氧化硅处理剂处理污水的非晶体二氧化硅处理设备。

本发明的第三个目的在于提供一种使用非晶体二氧化硅处理剂处理污水的系统。

本发明的第四个目的在于提供一种用非晶体二氧化硅处理剂处理污水的方法。

本发明的第一个目的通过下列技术方案实现：一种非晶体二氧化硅处理剂，其特征在于它由非晶体二氧化硅与絮凝剂按下列质量比混合而得：非晶体二氧化硅 : 絮凝剂 = 6.5-7.9 : 3.5-2.1。

所述絮凝剂为聚合氯化铝、硫酸铝、三氯化铁、聚丙烯酰胺中的一种或几种，且几种的混合均为任意质量比，具体种类的选择视污水性质、污水主要成分的不同而具体确定。

所述絮凝剂还可为常用的无机絮凝剂或有机高分子絮凝剂，可根据不同的污水种类选择不同的絮凝剂。

所述非晶体二氧化硅通过下列方法制得：将硅藻土磨细至-0.074mm，加水混合成质量浓度为30-45%的矿浆,在130-200转/分的条件下擦洗20-25分钟,再加水稀释矿浆浓度至15-25%，在1440-2800转/分的条件下分散2-5分钟,同时按每吨原矿加入20-25克的量，加入分散剂，经一级分离，把硅藻土中的晶体二氧化硅杂质（石英砂等）分离去除；再经二级分离，使非晶体二氧化硅（硅藻）沉降，而硅藻土中的杂质：蒙托石、伊利石、高岭石、水涓云母则随水分离去除；沉降的非晶体二氧化硅（硅藻）经烘干后，得非晶体二氧化硅。

所述分散剂为六偏磷酸钠、偏硅酸钠、氢氧化钠中的一种或几种，且几种的混合均为任意质量比。

所述一级、二级分离用的设备为常规多级分离机。

所述非晶体二氧化硅为含结晶水的蛋白石组成的硅藻，化学成分是非晶体二氧化硅，其结构是纳米微孔。

所述非晶体二氧化硅中：非晶体二氧化硅比重为2.2-2.4，含量为65-85%，硅藻量占70-90%，晶体二氧化硅比重为2.6，含量为1-5%，铅≦50 PPM， 砷≦6 PPM，烧损量≦5%，pH值 6-8，紧堆密度≦0.45。

所述硅藻土是用本申请人于1996年12月10日申请的专利号为96117368.8,名称为“超低品位硅藻土纯物理选矿方法及设备”的发明专利，或者于2001年2月22日申请的专利号为01107179.6,名称为“超细微粒静电分离选矿方法及其系统”的发明专利生产的产品。

本发明的第二个目的通过下列技术方案完成：一种非晶体二氧化硅处理设备，包括带空腔的锥形壳体，其特征在于锥形壳体上部设有出水堰槽、底部设有排泥口，在空腔中心位置设有竖直进水管，该竖直进水管内部为一室，该竖直进水管的上端敞开、下端穿过锥形壳体底部向外延伸，在空腔中并位于竖直进水管外围设有筒体，该筒体与竖直进水管之间为二室，该筒体的上端与锥形壳体顶部相连，下端与锥形壳体底部保持间距，筒体与锥形壳体壁之间为澄清池，混有非晶体二氧化硅处理剂的污水先送入一室再进入二室、之后从二室进入澄清池，污水流速会随45⁰安息角的锥形壳体的截面积向上逐渐扩大的同时而逐渐降低，使非晶体二氧化硅处理剂在对污水中的污物进行吸附、絮凝的同时，在澄清池中形成非晶体二氧化硅的纳米微孔过滤层，从而高效过滤污染物与水，让滤过的水上升后经出水堰槽流出，而污染物形成的污泥则沉降到底部后由排泥口排出。

所述锥形壳体顶部设有堰槽，该堰槽包括大圈槽、中圈槽、小圈槽，在小圈槽与大圈槽之间设有径向长条槽，在中圈槽与大圈槽之间设有径向短条槽，且大圈槽、中圈槽、小圈槽、径向长条槽、径向短条槽相互连通，每条槽的两侧边均设为齿边。

所述锥形壳体壁的倾斜角为45-55度。

所述锥形壳体为圆锥形或多边锥形。

本发明的第三个目的通过下列技术方案完成：一种用非晶体二氧化硅处理剂处理污水的系统，包括调节池、格栅、旋流沉砂设备、厌氧池、好氧池、鼓风机、消毒设备，储泥池、储水池等常规设备，以及非晶体二氧化硅处理设备，相互间的设置位置以及与用非晶体二氧化硅处理剂处理污水的设备的设置位置，均视污水种类的不同而具体确定。

本发明的第四个目的通过下列技术方案完成：一种用非晶体二氧化硅处理剂处理污水的方法，包括对污水pH值进行调节、对污水中漂浮物和粗砂进行分离、对污水进行好氧和厌氧处理或/和对污水进行消毒杀菌处理的常规步骤，其特征在于还包括对污水进行的下列非晶体二氧化硅处理：

A、将污水送入非晶体二氧化硅处理设备之前，按每吨污水投放20-100克的量，向污水中投入非晶体二氧化硅处理剂，该非晶体二氧化硅处理剂由下列质量比的组分混合而得：非晶体二氧化硅 : 絮凝剂 = 6.5-7.9 : 3.5-2.1；

B、将混合有非晶体二氧化硅处理剂的污水，以2-3m/s的流速送入非晶体二氧化硅处理设备的竖直进水管即一室中，再进入竖直进水管与筒体之间的二室中，最后进入澄清池中，使污水流速随澄清池截面积的扩大而减慢至0.1-0.5mm/s，让非晶体二氧化硅处理剂在对污水中的污染物充分吸附、絮凝的同时，在澄清池中自然形成非晶体二氧化硅钠米微孔过滤层，从而过滤污染物和水,清水以0.1-0.5mm/s的上升速度上升后经过出水堰槽后从出水口溢出，污染物以0.5-1.5mm/s速度沉降至底部后，经排泥口排出。

所述污水在非晶体二氧化硅处理设备中的停留时间为3-5小时。

所述的非晶体二氧化硅处理至少为一次。

所述的对污水pH值进行调节，对污水中漂浮物和粗砂进行分离，对污水进行好氧、厌氧处理，对污水进行消毒、杀菌处理，以及对污水进行的非晶体二氧化硅处理的顺序，视不同污水处理具体确定。

本发明具有下列优点和效果：

1、本发明提供的非晶体二氧化硅处理剂，为无毒、无害的污水处理剂，不仅具有静电聚合即物理絮凝的作用，絮凝污水中的污染物，并且非晶体二氧化硅巨大的纳米微孔的比表面积，能代替活性炭在污水处理中作深度吸附处理，使污水处理后无臭味；在处理器中形成的非晶体二氧化硅的纳米微孔过滤层能替代微孔膜过滤，高效过滤污染物；另外，非晶体二氧化硅在生物池中形成生物载体，使微生物在非晶体二氧化硅的纳米微孔表面富集的碳源上快速、高效繁殖；此外，非晶体二氧化硅还具有自动脱水的物理特性，在污泥脱水处理中无需添加有毒、有害的絮凝剂即可顺利脱水，不产生二次污染，污泥能回收循环再利用。

2、本发明提供的非晶体二氧化硅处理剂对COD的去除率为（COD- BOD）×80至90%，可以把可生化性比值＜0.3的污水提高为可生化性比值＞0.5；

3、本发明提供的非晶体二氧化硅处理剂处理工艺产生的污泥量较现有污水处理方法减少50%；尤其是污泥中含有非晶体二氧化硅，可从中回收非晶体二氧化硅再利用，不产生二次污染。

4、本发明提供的非晶体二氧化硅处理剂及用其处理污水的工艺和设备，设备简单，效率高，可以承建和改造生活污水、工业废水处理厂及垃圾渗滤液，制造生活污水及工业废水一体化处理设备。污水处理后出水达到并超过GB18918-2002一级A标准及国家规定的各排放标准，甚至达到地表水四、三类标准，实现污水资源化。处理后的污泥容易脱水，且无需添加任何化学絮凝剂，污泥可回收实现污泥资源化再利用。

附图说明

图1为本发明非晶体二氧化硅处理设备结构示意图；

图2为图1的俯视图；

图3为本发明处理城市生活污水系统图；

图4为本发明处理工业废水系统图；

图5为本发明处理高浓度废水和垃圾渗滤液系统图。

图1、图2中，1为非晶体二氧化硅处理设备的锥形壳体，11为出水口，12为锥形壳体，13为排污口，14为竖直进水管，其内为一室，15为筒体17下端的间隙，筒体17与竖直进水管14之间为二室18，16为堰槽，17为筒体，18为二室，19为澄清池，161为大圈槽，162为中圈槽，163为小圈槽，164为径向长条槽，165为径向短条槽。

图3中，1为非晶体二氧化硅处理设备，2为好氧池，4为调节池和粗、细格栅，5为循环水池，6为储泥池，7为鼓风机，8为消毒设备，9为出水叠水台景观或储水池， 20为非晶体二氧化硅处理剂下料机，21为缺氧池，22为旋流沉砂池，23为污泥脱水机。

图4中，1为非晶体二氧化硅处理设备，设置二台，2为好氧池，3为调节池，4为粗、细格栅，5为循环水池，6为储泥池，7为鼓风机，8为消毒设备，20为非晶体二氧化硅处理剂下料机，21、25为缺氧池。

图5中，1为非晶体二氧化硅处理设备，设置二台，2为好氧池，3为调节池，4为粗、细格栅，5为循环水池，6为储泥池，7为鼓风机，8为消毒设备，10为加入非晶体二氧化硅处理剂后的搅拌机，20为非晶体二氧化硅处理剂下料机，21为缺氧池，23为污泥脱水机，24板框压滤机。

上述图3、图4、图5系统中，除非晶体二氧化硅处理设备1是本发明的创新结构外，其余均为常规设备。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本发明做进一步描述。

实施例1

非晶体二氧化硅处理剂l按下列配比配制：非晶体二氧化硅:聚合氯化铝=7:3。

非晶体二氧化硅处理剂11按下列配比配制：非晶体二氧化硅: 硫酸铝=6.5: 3.5。

非晶体二氧化硅处理剂12按下列配比配制：非晶体二氧化硅: 三氯化铁=6.9: 3.1。

非晶体二氧化硅处理剂2按下列配比配制：非晶体二氧化硅:硫酸铝=7.9:2.1。

非晶体二氧化硅处理剂21按下列配比配制：非晶体二氧化硅: 聚合氯化铝=7.1:2.9。

非晶体二氧化硅处理剂22按下列配比配制：非晶体二氧化硅: 三氯化铁=7.5:2.5。

非晶体二氧化硅处理剂3按下列配比配制：非晶体二氧化硅 : 聚丙烯酰胺+聚合氯化铝=6.5:3.5；其中：聚丙烯酰胺0.1+聚合氯化铝3.4。

非晶体二氧化硅处理剂31按下列配比配制：非晶体二氧化硅 : 聚丙烯酰胺+三氯化铁=6.9:3.1；其中：聚丙烯酰胺0.3+聚合氯化铝2.8。

非晶体二氧化硅处理剂32按下列配比配制：非晶体二氧化硅 : 硫酸铝+聚合氯化铝=7:3；其中：聚丙烯酰胺0.5+聚合氯化铝2.5。

上述非晶体二氧化硅经过下列方法制得：将硅藻原土变细至-0.074mm，加水擦洗制成30-45%浓矿浆,在130-200转/分的ZCX型擦洗机内擦洗,再加水稀释矿浆至15-25%浓度，送入1440-2800转/分的XQT高速分散机内,同时按原矿重量加入专用分散剂。经常规的一级分离设备（由多层斜板构成），把硅藻原土中的晶体二氧化硅杂质（石英砂等）分离去除；在常规的二级分离设备（由多级分离板构成），把非晶体二氧化硅（硅藻）沉降在分离板上，把硅藻原土中的蒙托石、伊利石、高岭石、水涓云母等杂质分离去除；把沉降在分离板上的非晶体二氧化硅（硅藻）烘干，在分级机上进行干法分级；获得非晶体二氧化硅。

所述非晶体二氧化硅是含结晶水的蛋白石的硅藻，其结构是由非晶体二氧化硅组成的纳米微孔。

所述非晶体二氧化硅中的非晶体二氧化硅（比重为2.2-2.4），65-85%，硅藻量占70-90%，其他杂质为：晶体二氧化硅（比重为2.6），占1-5%，铅≦50 PPM， 砷≦6 PPM，烧损量≦5%，pH值 6-8，紧堆密度≦0.45。

所述硅藻土是用本申请人于1996年12月10日申请的专利号为96117368.8、名称为“超低品位硅藻土纯物理选矿方法及设备”的发明专利，或者于2001年2月22日申请的专利号为01107179.6、名称为“超细微粒静电分离选矿方法及其系统”的发明专利生产的产品。

实施例2

本发明提供的非晶体二氧化硅处理设备1，包括带空腔的锥形壳体12，锥形壳体12上部设有出水堰槽16、底部设有排泥口13，在空腔中心位置设有竖直进水管14，该竖直进水管14内部为一室，该竖直进水管14的上端敞开、下端穿过锥形壳体12底部向外延伸，在空腔中并位于竖直进水管14外围设有筒体17，该筒体17与竖直进水管14之间为二室，该筒体17的上端与锥形壳体12顶部相连，下端与锥形壳体1底部保持间距15，筒体17与锥形壳体12壁之间为澄清池19，如图1，所述锥形壳体12顶部的出水堰槽16包括大圈槽161、中圈槽162、小圈槽163，在小圈槽163与大圈槽161之间设有八根径向长条槽164，在中圈槽162与大圈槽161之间设有八根径向短条槽165，且大圈槽161、中圈槽162、小圈槽163、径向长条槽164、径向短条槽165相互连通，每条槽的两侧边均设为齿边。所述锥形壳体1壁的倾斜角为45度。所述锥形壳体1为圆锥形。

实施例3

用非晶体二氧化硅处理剂及用其处理污水的工艺和设备处理生活污水，如图3：

该生活污水的成份如下：CODcr220-420mg/L ,BOD₅ 110-230mg/L,

SS 220-410mg/L,总氮 33-50mg/L,氨氮26-41mg/L,总磷2-6mg/L，pH值6-9；

A、将污水提升至调节池4中，用格栅去除漂浮物，通过旋流沉砂池22去除粗砂后，污水进入缺氧池21；

B、将步骤A的污水在缺氧池21中停留3小时，用推流器把污水送入好氧池2，在好氧池2中用鼓风机7曝气，停留6小时；好氧池2以100%的混合液回流比回流至缺氧池21；

C、在步骤Ｂ好氧池２出水进入非晶体二氧化硅处理设备１之前，泵前用非晶体二氧化硅处理剂下料机20，按每吨污水投放30克的量，投放非晶体二氧化硅处理剂1到好氧池２的出水中；

D、将步骤C的混合有非晶体二氧化硅处理剂1的污水，以2m/s的流速经一室进水管14送入二室18中、再进入澄清池19，使污水流速随澄清池19截面积的扩大而减慢至0.4mm/s，让非晶体二氧化硅处理剂在非晶体二氧化硅处理器１对污水中的污染物充分吸附、絮凝的同时，在澄清池19中自然形成非晶体二氧化硅钠米微孔过滤层，从而过滤污染物和清水分开,清水以0.4mm/s的上升速度上升后经堰槽16从出水口11溢出，污染物以1mm/s速度沉降至底部后经排泥口13排出；污水在非晶体二氧化硅处理设备1中停留时间总共为3.3小时；

E、将步骤D的出水从出水叠水台景观9排出后，送入消毒设备8进行消毒、灭菌处理，或直接送入储水池15储存；

F、将步骤D排出的污泥100%回流至缺氧池21，使缺氧池21浓度增高至10000mg/L时开始排泥，缺氧池21中的浓度降低至7000mg/L时停止排泥，30天以上排一次污泥，污泥量比其他工艺减少50%；

G、步骤F放出的泥中，因非晶体二氧化硅具有静电聚合（物理絮凝）作用，具有自动脱水的物理特性，污泥脱水时不加有毒有害的絮凝剂，污泥经脱水设备23脱水回收后可循环再利用。

处理后出水达到GB18918-2002一级A标准，COD_cr＜50mg/L ,BOD₅＜10mg/L, SS＜10mg/L,总氮＜15mg /L,氨氮＜5mg/L,总磷＜0.5mg/L,pH值7。

实施例4

用非晶体二氧化硅处理剂及用其处理污水的工艺和设备处理低浓度生活污水，如图3：

该生活污水的成份如下：COD_cr 88mg/L ,BOD₅ 42mg/L, SS 32mg/L,总氮26.884mg/L,氨氮7.424mg/L,总磷0.966mg/L,PH值7.6；

A、将污水提升至调节池4中，用格栅去除漂浮物，通过旋流沉砂池22去除粗砂后，污水进入缺氧池21；

B、将步骤A的污水在缺氧池21中停留2小时，用推流器把污水送入好氧池2，在好氧池中用鼓风机7曝气，停留4小时，好氧池2以100%的混合液回流比回流至缺氧池21；

C、在步骤Ｂ好氧池２出水进入非晶体二氧化硅处理设备１之前，泵前用非晶体二氧化硅处理剂下料机20，按每吨污水投放15克的量，投放非晶体二氧化硅处理剂2到好氧池２出水中；

D、将步骤C的混合有非晶体二氧化硅处理剂2的污水，以3m/s的流速经一室进水管14送入二室18中、再进入澄清池19，使污水流速随澄清池19截面积的扩大而减慢至0.2mm/s，让非晶体二氧化硅处理剂在非晶体二氧化硅处理器１中对污水中的污染物充分吸附、絮凝的同时，在澄清池19中自然形成非晶体二氧化硅钠米微孔过滤层，从而过滤污染物和清水分开,清水以0.2mm/s的上升速度上升后经出水堰槽16从出水口11溢出，污染物以0.5mm/s速度沉降至底部后经排泥口13排出；污水在非晶体二氧化硅处理器1中停留时间总共为3.3小时；

E、将步骤D的出水从出水叠水台景观9排出后，送入消毒设备8进行消毒、灭菌处理，或直接送入储水池15储存；

F、将步骤D排出的污泥100%回流至缺氧池21，使缺氧池21浓度增高至10000mg/L时开始排泥，缺氧池21中的浓度降低至7000mg/L时停止排泥，30天以上排一次污泥，污泥量比其他工艺减少50%；

G、步骤F放出的泥中，因非晶体二氧化硅具有静电聚合（物理絮凝）作用，具有自动脱水的物理特性，污泥脱水时不加有毒有害的絮凝剂，污泥经脱水设备23脱水回收后可循环再利用。

处理后出水达到GB18918-2002一级A标准，COD_cr ＜16mg/L，BOD₅＜5.5mg/L，SS＜9mg/L，总氮＜2.814mg/L，氨氮＜0.16mg/L，总磷＜0.374mg/L，PH值7.8。

实施例5

用非晶体二氧化硅处理剂处理工业废水，如图4：

该工业废水的成份如下：CODcr＞1000mg/L ,BOD₅ ＜200mg/L,

SS ＞1000mg/L,总氮60mg/L,氨氮＞40mg/L,总磷＞6mg/L，pH值＜6或＞8；

A、将工业废水提升至调节池4中，用格栅去除漂浮物，污水进入pH调节池3，用石灰调节pH至7-8；

B、从pH调节池3进入第一个非晶体二氧化硅处理设备1之前, 泵前用非晶体二氧化硅处理剂下料机20，按每吨污水投放50克的量投入非晶体二氧化硅处理剂3；

C、将步骤B的混合有非晶体二氧化硅处理剂3的污水，以3m/s的流速经一室进水管14送入二室18中、再进入澄清池19，使污水流速随澄清池19截面积的扩大而减慢至0.4mm/s，让非晶体二氧化硅处理剂在非晶体二氧化硅处理器１中对污水中的污染物充分吸附、絮凝的同时，在澄清池19中自然形成非晶体二氧化硅钠米微孔过滤层，从而过滤污染物和清水分开,清水以0.4mm/s的上升速度上升后经出水堰槽16从出水口11溢出，污染物以1.5mm/s速度沉降至底部后经排泥口13排出；污水在非晶体二氧化硅处理器1中停留时间总共为5小时；

D、将步骤C的出水送入厌氧池25，厌氧池25出水进入厌氧池21，在厌氧池21中停留3-5小时，用推流器把污水送入好氧池2，在好氧池中用鼓风机7曝气，停留6-10小时;好氧池2以100%的混合液回流比回流至缺氧池21；

E、步骤Ｄ的好氧池出水在进入第二个非晶体二氧化硅处理设备1之前, 按每吨污水投放50克的量投入非晶体二氧化硅处理剂3；

Ｆ、将步骤E的混合有非晶体二氧化硅处理剂3的工业废水，以3m/s的流速经一室进水管14送入二室18中、再进入澄清池19，使污水流速随澄清池19截面积的扩大而减慢至0.4mm/s，让非晶体二氧化硅处理剂在第二个非晶体二氧化硅处理器１中对污水中的污染物充分吸附、絮凝的同时，在澄清池19中自然形成非晶体二氧化硅钠米微孔过滤层，从而过滤污染物和清水分开,清水以0.4mm/s的上升速度上升后经出水堰槽16从出水口11溢出，污染物以1.5mm/s速度沉降至底部后经排泥口13排出；污水在第二个非晶体二氧化硅处理器1中停留时间总共为５小时；

Ｇ、将步骤F的出水经消毒设备8进行消毒、灭菌后，送入储水池9，从储水池9排放或回用；

H、将步骤F排出的所有污泥100%回流至缺氧池21，缺氧池21中的浓度增高至10000mg/L时开始排泥，缺氧池21中的浓度降低至7000mg/L时停止排泥，污泥量比其他工艺减少50%；

I、步骤H放出的泥中，因非晶体二氧化硅具有静电聚合（物理絮凝）作用，具有自动脱水的物理特性，污泥脱水时不加有毒有害的絮凝剂，污泥经脱水设备23脱水回收后可循环再利用。

处理后出水达到GB18918-2002一级A标准，COD_cr＜50mg/L ,BOD₅＜10mg/L, SS＜10mg/L,总氮＜15mg /L,氨氮＜5mg/L,总磷＜0.5mg/L,pH值6-9。

实施例6

用非晶体二氧化硅处理剂处理垃圾渗滤液，如图5：

该垃圾渗滤液的成份如下：COD_cr 11400mg/L，BOD₅ 5350mg/L，SS 788mg/L,氨氮5350mg/L，细菌总数1500，粪大肠菌360

A、将垃圾渗滤液提升至调节池4中，按每吨垃圾渗滤液加入0.1公斤（100ppm）的量，在垃圾渗滤液中加入非晶体氧化硅处理剂4，之后送入板框式压滤机24压滤；

B、将步骤A的垃圾渗滤液送入pH调节池3 ，调节pH到8.5，用非晶体二氧化硅处理设备1的出水稀释至COD＜2000mg/L；

C、步骤Ｂ的pH调节池3出水在进入第一台非晶体二氧化硅处理设备１前，泵前用非晶体二氧化硅处理剂下料机20按每吨垃圾渗滤液加入0.1公斤（100ppm）的量，在垃圾渗滤液中加入非晶体氧化硅处理剂4；

D、将步骤C的混合有非晶体二氧化硅处理剂4的垃圾渗滤液，以2m/s的流速经一室进水管14送入二室18中、再进入澄清池19，使污水流速随澄清池19截面积的扩大而减慢至0.1mm/s，让非晶体二氧化硅处理剂在非晶体二氧化硅处理器１中对污水中的污染物充分吸附、絮凝的同时，在澄清池19中自然形成非晶体二氧化硅钠米微孔过滤层，从而过滤污染物和污水分开,污水以0.1mm/s的上升速度上升后经出水堰槽16从出水口11进入厌氧池，污染物以1mm/s速度沉降至底部后经排泥口13排出；污水在非晶体二氧化硅处理器1中停留时间总共为5小时；

E、步骤D的出水送入厌氧池21中停留12小时后，经推流器把混合液送入好氧池2，在好氧池2中用鼓风机7曝气，停留12小时，好氧池以100%的混合液回流比回流至缺氧池，经过好氧处理后的混合液用提升泵压入第二个非晶体二氧化硅处理设备１；

F、步骤F混合液在用提升泵压入第二个非晶体二氧化硅处理器１前，按每吨垃圾渗滤液加入0.1公斤（100ppm）的量，将非晶体二氧化硅处理剂4加入到垃圾渗滤液中；

G、将步骤F的混合有非晶体二氧化硅处理剂4的垃圾渗滤液，以2m/s的流速经一室进水管14送入二室18中、再进入澄清池19，使污水流速随澄清池19截面积的扩大而减慢至0.1mm/s，让非晶体二氧化硅处理剂在非晶体二氧化硅处理器１中对污水中的污染物再充分吸附、絮凝的同时，在澄清池19中自然形成非晶体二氧化硅钠米微孔过滤层，从而过滤污染物和污水分开,污水以0.1mm/s的上升速度上升后经出水堰槽16从出水口11溢出，污染物以1mm/s速度沉降至底部后经排泥口13排出；污水在非晶体二氧化硅处理器1中停留时间总共为5小时；

H、将步骤G的出水送入消毒设备8进行消毒、灭菌后，送入储水池9，回用到相应步骤中；

I、将步骤H排出的污泥100%回流至缺氧池21，生物池中的浓度增高至10000mg/L时开始排泥，生物池中的浓度降低至7000mg/L时停止排泥，污泥量比其他工艺减少50%；

J、步骤H放出的泥中，因非晶体二氧化硅具有静电聚合（物理絮凝）作用，具有自动脱水的物理特性，污泥脱水时不加有毒有害的絮凝剂，污泥经脱水设备23脱水回收后可循环再利用。

处理后出水达到《生活垃圾填埋污染控制标准》GB16889-1997二级标准，COD_cr24.2mg/L ,BOD₅8.8mg/L, SS 8mg/L,氨氮23.4mg/L, 细菌总数0，粪大肠菌≤50。