本发明涉及氧化铝生产加工技术领域，特别涉及一种分解槽自动碱煮系统。
背景技术：
当前氧化铝生产当中分解槽的清理主要分为两种方式：碱煮或者人工清理，相比较于人工清理的高危险性、高劳动强度，碱液、结疤都可直接运用于氧化铝生产，不需要进行任何处理，碱煮清理具有物料浪费程度低、见效快、危险程度低等优势，以逐渐成为分解槽结疤的主要清理方式，当前分解槽碱煮方式较为原始，需要人工测量温度，碱液高度等数据，且碱煮进程不易确定，给生产造成很大的不便，轻则蒸汽浪费增加生产成本，重则分解槽体碱煮过度造成碱脆影响分解槽主体结构。
技术实现要素：
本发明为解决上述存在的问题，提供了一种分解槽自动碱煮系统，其解决技术问题的技术方案是：
分解槽自动碱煮系统，包括分解槽、换热加热罐、液碱储槽和控制系统，所述分解槽内有搅拌装置，搅拌装置连接有电机，上部连通有碱液进入管道A，下部连通有碱液流出管道D，槽壁安装有温控装置，管道D上安装有自动阀门和碱液泵；管道A将分解槽和换热加热罐连通，管道A安装有流量计、压力装置和温控装置；所述换热加热罐上部连接有管道B，换热加热罐罐壁上设有压力装置和温控装置，换热加热罐管道B上安装有自动阀门和流量计，底部连接有管道E，中部连接有管道C，管道C将换热加热罐和液碱储槽连通，管道C上安装有自动阀门和碱液泵；所述控制系统控制电机、温控装置、自动阀门、流量计、压力装置、碱液泵。
优选地，所述电机位于分解槽顶盖上。
优选地，所述管道B和管道D上分别还安装有手动阀门。
优选地，所述分解槽外壁有移动式红外感温装置。
优选地，所述分解槽外壁上、下均有温控装置。
优选地，所述自动阀门为电磁阀。
优选地，所述控制系统包括DCS控制系统、变频器。
优选地，所述换热加热罐为管式换热加热罐。
优选地，所述温控装置内有温度探头。
本发明具有以下有益效果：
本发明具有物料浪费程度低，碱液、结疤都可直接运用于氧化铝生产，不需要进行任何处理，碱煮的温度、蒸汽量及压力均可控，见效快、危险程度低等优势，自动化程度高，达到降低工人劳动强度，安全高效、节能降耗。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
图中：1. 分解槽，11.搅拌装置，12.电机，2. 换热加热罐，3. 液碱储槽，41.管道A，42.管道B，43.管道C，44.管道D，45.管道E，5.流量计，6.温控装置，7.手动阀门，8.自动阀门，9.压力装置，10.碱液泵。
具体实施方式
下面将结合本发明的附图，对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。
分解槽自动碱煮系统，包括分解槽1、换热加热罐2、液碱储槽3和控制系统，所述分解槽1内有搅拌装置11，搅拌装置11连接有电机12，上部连通有碱液进入管道A41，下部连通有碱液流出管道D44，槽壁安装有温控装置6，管道D上安装有自动阀门8和碱液泵10；管道A41将分解槽1和换热加热罐2连通，管道A41安装有流量计5、压力装置9和温控装置6；所述换热加热罐2上部连接有管道B42，换热加热罐2管壁上设有压力装置9和温控装置6，换热加热罐2管道B42上安装有自动阀门8和流量计5，底部连接有管道E45，中部连接有管道C43，管道C43将换热加热罐2和液碱储槽3连通，管道C43上安装有自动阀门8和碱液泵10；所述控制系统控制电机12、温控装置6、自动阀门8、流量计5、压力装置9和碱液泵10。
优选地，所述电机12位于分解槽1顶盖上。
优选地，所述管道B42和管道D44上分别还安装有手动阀门7。
优选地，所述分解槽1外壁有移动式红外感温装置。
优选地，所述分解槽外壁上、下均有温控装置。
优选地，所述自动阀门8为电磁阀。
优选地，所述控制系统5包括DCS控制系统、变频器和自动控制连锁装置。
优选地，所述换热加热罐2为管式换热加热罐。
优选地，所述温控装置6内有温度探头。
实施例
以一个分解槽为例，实际生产中可根据需要建设若干个组群，在原有碱煮管道化的流程中添加一系列的温控装置6、压力装置9、流量计5，为碱液泵10添加变频器并将碱出口阀门更换为自动阀门8，换热加热罐2蒸汽进口阀门更换为自动阀门。
将上述温控装置6、压力装置9、流量计5的测点数据、自动阀门8、变频器控制数据统一引入分解控制系统内，并添加自动控制连锁装置。
增加一台红外线感温装置，以便于观察分解槽内结疤分布情况。
碱液经过管式换热加热罐2加热以后送入分解槽1，由分解槽搅拌装置11的带动下冲刷分解槽1槽壁上的结疤，根据分解槽内碱液温度控制管道B42上新蒸气的加入量，蒸汽通入管式换热加热罐2，碱液在内部的管道内，蒸汽在管道外加热管道内碱液，冷凝后由管道E45排走。
经红外线感温装置测定，分解槽碱煮完毕后，碱液泵10将分解槽1内废碱液送蒸发工序，分解槽1并入正常生产。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。