一种污水厂MBR放空溢流平衡井系统的制作方法

文档序号:13996477阅读:588来源:国知局
一种污水厂MBR放空溢流平衡井系统的制作方法

本实用新型涉及污水厂MBR工艺领域,尤其涉及传统工艺污水厂改造为MBR工艺。



背景技术:

目前配水集水集泥井具有节约占地、配水集水水力均匀等优点,被广泛应用在传统工艺污水处理工程二沉池前端。包括由内只外嵌套设置的集泥井、配水井和集水井,中间集泥井集泥,并通过泥泵回流至生化池;外侧为配水井,进水通过配水井均匀进入周围膜池;最外侧为集水井,若干二沉池的出水通过集水井汇合统一输送至下一处理结构。

随着我国城市的发展以及水质要求的提高,为提高产水量、提升水质标准,传统工艺污水厂逐渐被改造为MBR(Membrane Bio-Reactor,MBR)工艺。但是由于MBR工艺进水出管道、污泥回流管道已改变位置,原来的配水、集水、集泥井被闲置。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于:提出一种污水厂MBR放空溢流平衡井系统,将传统污水处理厂原有配水集水集泥井进行改造,使其具有水量平衡,溢流、放空等功能。

本实用新型的目的通过下述技术方案来实现:

一种污水厂MBR放空溢流平衡井系统,包括膜池,还包括液位平衡井、溢流井和排空井,液位平衡井、溢流井和排空井从外至内嵌套设置,若干个膜池环绕液位平衡井外侧设置并通过液位平衡管与液位平衡井连通,各膜池还通过溢流管和膜池排空管与溢流井连通,膜池排空管上设有排空阀,溢流井和排空井之间通过连通孔洞连通,排空井设有外排的放空管道。

本专利将原有配水集水集泥井进行改造,配水井改造为液位平衡井,集水井改造为溢流井,集泥井改造为排空井。在膜池水位较高时,污水可以由膜池通过溢流管流到溢流井,实现溢流的功能。在需要放空膜池时,可打开膜池排空管上的排空阀,让污水流向溢流井,溢流井和排空井之间通过连通孔洞连通,最后通过放空管道外排。同时设置液位平衡管,通过液位平衡井将周围膜池连通,实现水位平衡的功能。

作为选择,膜池上连通溢流管的溢流入口位置设有包围溢流入口的溢流墙体,溢流墙体底面封闭顶面开口,且溢流墙体顶面高度低于膜池边缘。作为优选,溢流墙体高度低于膜池边缘300mm。该方案中,溢流墙体、溢流入口及溢流管实现膜池中水向溢流井的溢流:在膜池水位较高时,污水可以由膜池越过溢流墙体,依次经过溢流入口、溢流管进入溢流井。

作为选择,放空管道与厂坪污水管连通。该方案中,使膜池溢流污水及排空污水能够排至进水泵房。

前述本实用新型主方案及其各进一步选择方案可以自由组合以形成多个方案,均为本实用新型可采用并要求保护的方案;并且本实用新型,(各非冲突选择)选择之间以及和其他选择之间也可以自由组合。本领域技术人员在了解本发明方案后根据现有技术和公知常识可明了有多种组合,均为本实用新型所要保护的技术方案,在此不做穷举。

本实用新型的有益效果:通过对配水集水集泥井的改造,可以实现膜池放空、膜池溢流、膜池间液位平衡的功能。其中各膜池液位平衡了,可以使生化池流进膜池的的水量也大致平衡,避免进入膜池水量不均。

附图说明

图1是本实用新型实施例的平面结构示意图;

图2是图1的A-A剖视示意图;

图中,1、膜池排空管;2、溢流管;3、液位平衡管;4、液位平衡井;5、溢流井;6、排空井;7、放空管道;8、连通孔洞;9、溢流墙体;10、排空阀;11、膜池。

具体实施方式

下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步的说明。

参考图1、2所示,图中箭头为污水流向,一种污水厂MBR放空溢流平衡井系统,包括膜池11,还包括液位平衡井4、溢流井5和排空井6,以原污水处理厂的配水井为液位平衡井4,集水井为溢流井5,集泥井为排空井6,液位平衡井4、溢流井5和排空井6从外至内嵌套设置,若干个膜池11环绕液位平衡井4外侧设置并通过液位平衡管3与液位平衡井4连通,各膜池11还通过溢流管2和膜池排空管1与溢流井5连通,膜池排空管1上设有排空阀10,溢流井5和排空井6之间通过连通孔洞8连通,排空井6设有外排的放空管道7,放空管道7与厂坪污水管连通,使膜池11溢流污水及排空污水能够排至进水泵房。膜池11上连通溢流管2的溢流入口位置设有包围溢流入口的溢流墙体9,溢流墙体9底面封闭顶面开口,且溢流墙体9顶面高度低于膜池11边缘,优选溢流墙体9高度低于膜池11边缘300mm。

在膜池11水位较高时,污水可以由膜池11通过溢流管2流到溢流井5,实现溢流的功能。在需要放空膜池11时,可打开膜池排空管1上的排空阀10,让污水流向溢流井5,溢流井5和排空井6之间通过连通孔洞8连通,最后通过放空管道7外排。同时设置液位平衡管3,通过液位平衡井4将周围膜池11连通,实现水位平衡的功能。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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