一种液晶玻璃等离子清洗机的制作方法

本实用新型涉及清洗机技术领域，具体是一种液晶玻璃等离子清洗机。

背景技术：

等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。

目前现有的等离子清洗机内部由于被多个隔板隔开，混合气体被电极板电离后无法均匀分布在每层隔板周围，这样会导致放置在每层隔板上的液晶玻璃在相同的时间内清洗不均匀，导致各层的液晶玻璃清洗的程度参差不齐，因此，本领域技术人员提供了一种液晶玻璃等离子清洗机，以解决上述背景技术中提出的问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种液晶玻璃等离子清洗机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种液晶玻璃等离子清洗机，包括机体、底仓和清洗室，所述机体内腔设置有底仓和清洗室，所述清洗室分布在底仓上方，所述底仓与清洗室一侧设置有挡板，所述挡板远离清洗室一侧设置有显示屏和控制板，所述显示屏设置于控制板上方，所述清洗室内腔设置有若干个均匀分布的隔板，所述隔板与清洗室内壁连接，所述隔板上下两端均设置有电极板,所述清洗室通过铰链转动连接有清洗室门，所述底仓内腔内腔一侧设置有真空泵，所述真空泵连接有第一气管，所述第一气管顶端穿过底仓并延伸至清洗室内腔，所述第一气管设置有若干个均匀分布的吸头，所述吸头分布于两个隔板之间，所述底仓内腔另一侧设置有气罐，所述气罐连接有第二气管，所述第二气管顶端穿过底仓顶端并延伸至清洗室内腔连接分流管，所述分流管设置有若干个均匀分布的出气口，所述出气口分布于两个隔板之间。

使用时，将待清洗的液晶玻璃放入清洗室内的隔板上，通过控制板控制气罐向清洗室内释放混合气体，并通过控制板启动真空泵和电极板，从而对清洗室内进行抽真空，通过真空泵不断抽气，使得压力值逐渐变小，真空度不断提高，分子间的间距被拉大，分子间作用力越来越小，利用等离子发生器产生的高压交变电场将混合气体激发、震荡形成具有高反应活性或高能量的等离子体，进而与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，最终由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁、活化、刻蚀等目的，等离子清洗并不会破坏被处理的材料或者产品的固有特性，因而不会影响液晶玻璃的正常使用，具有很好的保护效果。

作为本实用新型进一步的方案：所述机体底部设置有四个移动轮，四个移动轮呈矩形均匀分布。

通过设置移动轮，使得该清洗机便于移动，提高了便捷性。

作为本实用新型再进一步的方案：所述清洗室门中间部位设置有观察窗，所述观察窗为透明结构。

通过设置的观察窗，便于观察清洗室内的清洗情况。

作为本实用新型再进一步的方案：所述清洗室内壁设置有屏蔽层。

通过设置的屏蔽层，有效的防止了外界因素的干扰而影响清洗效果。

作为本实用新型再进一步的方案：所述电极板上设有多个电极孔，多个电极孔的孔径大小相等且均匀分布于电极板上。

通过电极板上设置的电极孔使得清洗机在工作时被电极板电离后的等离子体均匀分布在各层隔板周围，各层隔板上待清洗的液晶玻璃在相同的时间内能达到相同的清洗效果，提高了工作效率。

作为本实用新型再进一步的方案：所述控制板均与电极板、真空泵、气罐和显示屏电性连接。

通过控制板均与电极板、真空泵、气罐和显示屏电性连接，便于控制清洗机的运行。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、使用时，将待清洗的液晶玻璃放入清洗室内的隔板上，通过控制板控制气罐向清洗室内释放混合气体，并通过控制板启动真空泵和电极板，从而对清洗室内进行抽真空，通过真空泵不断抽气，使得压力值逐渐变小，从而使得真空度不断提高，分子间的间距被拉大，分子间作用力越来越小，利用等离子发生器产生的高压交变电场将混合气体激发、震荡形成具有高反应活性或高能量的等离子体，进而与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，最终由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁、活化、刻蚀等目的，等离子清洗并不会破坏被处理的材料或者产品的固有特性，因而不会影响液晶玻璃的正常使用，具有很好的保护效果。

2、通过设置的屏蔽层，有效的防止了外界因素的干扰而影响清洗效果，通过每层隔板之间设置吸头和出气口，使得清洗机在工作时混合气体能均匀的分布在清洗室的每层隔板周围，并通过电极板上设置的电极孔使得清洗机在工作时被电极板电离后的等离子体均匀分布在各层隔板周围，各层隔板上待清洗的液晶玻璃在相同的时间内能达到相同的清洗效果，提高了工作效率，本清洗机结构合理，实用性强，适合社会广泛使用。

附图说明

图1为一种液晶玻璃等离子清洗机的结构示意图。

图2为一种液晶玻璃等离子清洗机的侧视图。

图3为一种液晶玻璃等离子清洗机中电极板的结构示意图。

图中：1-机体、2-移动轮、3-底仓、4-清洗室、5-铰链、6-清洗室门、7-观察窗、8-屏蔽层、9-隔板、10-电极板、11-挡板、12-显示屏、13-控制板、14-真空泵、15-第一气管、16-吸头、17-气罐、18-第二气管、19-分流管、20-出气口、21-电极孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1～3，本实用新型实施例中，一种液晶玻璃等离子清洗机，包括机体1、底仓3和清洗室4，所述机体1内腔设置有底仓3和清洗室4，所述清洗室4分布在底仓3上方，所述底仓3与清洗室4一侧设置有挡板11，所述挡板11远离清洗室4一侧设置有显示屏12和控制板13，所述显示屏12设置于控制板13上方，所述清洗室4内腔设置有若干个均匀分布的隔板9，所述隔板9与清洗室4内壁连接，所述隔板9上下两端均设置有电极板10,所述清洗室4通过铰链5转动连接有清洗室门6，所述底仓3内腔内腔一侧设置有真空泵14，所述真空泵14连接有第一气管15，所述第一气管15顶端穿过底仓3并延伸至清洗室4内腔，所述第一气管15设置有若干个均匀分布的吸头16，所述吸头16分布于两个隔板9之间，所述底仓3内腔另一侧设置有气罐17，所述气罐17连接有第二气管18，所述第二气管18顶端穿过底仓3顶端并延伸至清洗室4内腔连接分流管19，所述分流管19设置有若干个均匀分布的出气口20，所述出气口20分布于两个隔板9之间。

使用时，将待清洗的液晶玻璃放入清洗室4内的隔板9上，通过控制板13控制气罐17向清洗室4内释放混合气体，并通过控制板13启动真空泵14和电极板10，从而对清洗室4内进行抽真空，通过真空泵14不断抽气，使得压力值逐渐变小，真空度不断提高，分子间的间距被拉大，分子间作用力越来越小，利用等离子发生器产生的高压交变电场将混合气体激发、震荡形成具有高反应活性或高能量的等离子体，进而与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，最终由工作气体流及真空泵14将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁、活化、刻蚀等目的，等离子清洗并不会破坏被处理的材料或者产品的固有特性，因而不会影响液晶玻璃的正常使用，具有很好的保护效果。

所述机体1底部设置有四个移动轮2，四个移动轮2呈矩形均匀分布。

通过设置移动轮2，使得该清洗机便于移动，提高了便捷性。

所述清洗室门6中间部位设置有观察窗7，所述观察窗7为透明结构。

通过设置的观察窗7，便于观察清洗室4内的清洗情况。

所述清洗室4内壁设置有屏蔽层8。

通过设置的屏蔽层8，有效的防止了外界因素的干扰而影响清洗效果。

所述电极板10上设有多个电极孔21，多个电极孔21的孔径大小相等且均匀分布于电极板10上。

通过电极板10上设置的电极孔21使得清洗机在工作时被电极板10电离后的等离子体均匀分布在各层隔板9周围，各层隔板9上待清洗的液晶玻璃在相同的时间内能达到相同的清洗效果，提高了工作效率。

所述控制板13均与电极板10、真空泵14、气罐17和显示屏12电性连接。

通过控制板13均与电极板10、真空泵14、气罐17和显示屏12电性连接，便于控制清洗机的运行。

本实用新型的工作原理是：

本实用新型涉及一种液晶玻璃等离子清洗机，使用时，将待清洗的液晶玻璃放入清洗室4内的隔板9上，通过控制板13控制气罐17向清洗室4内释放混合气体，并通过控制板13启动真空泵14和电极板10，从而对清洗室4内进行抽真空，通过真空泵14不断抽气，使得压力值逐渐变小，从而使得真空度不断提高，分子间的间距被拉大，分子间作用力越来越小，利用等离子发生器产生的高压交变电场将混合气体激发、震荡形成具有高反应活性或高能量的等离子体，进而与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，最终由工作气体流及真空泵14将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁、活化、刻蚀等目的，等离子清洗并不会破坏被处理的材料或者产品的固有特性，因而不会影响液晶玻璃的正常使用，具有很好的保护效果，通过设置的屏蔽层8，有效的防止了外界因素的干扰而影响清洗效果，通过每层隔板9之间设置吸头16和出气口20，使得清洗机在工作时混合气体能均匀的分布在清洗室的每层隔板周围，并通过电极板10上设置的电极孔21使得清洗机在工作时被电极板10电离后的等离子体均匀分布在各层隔板9周围，各层隔板9上待清洗的液晶玻璃在相同的时间内能达到相同的清洗效果，提高了工作效率，本清洗机结构合理，实用性强，适合社会广泛使用。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。