脱铜反应装置的制作方法

本实用新型涉及蚀铜废液回收技术领域，尤其涉及脱铜反应装置。

背景技术：

蚀铜废液是蚀刻液在蚀刻机上作用完成后形成的废液，里面主要包含铜离子、氨氮离子和氯离子等成分，一般由环保部门统一收集，专业处理。若不经处理直入江河湖泊，会破坏环境，破坏生态平衡，危及人类生存。现有的处理蚀铜废液的工艺中，包括了将蚀铜废液加入到反应装置中，然后添加脱铜助剂，调节其ph值，得到含有碱式氯化铜沉淀的溶液。现有技术中，通常是将蚀铜废液和脱铜助剂加入到容器罐中，然后进行搅拌，待两者反应完全后再排出。这样的处理装置较为简单，蚀铜废液和脱铜助剂之间的反应很难彻底反应完全，且反应速率很低。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提出一种有助于提高蚀铜废液和脱铜助剂反应速率的脱铜反应装置。

为实现上述目的，本发明提出一种脱铜反应装置，包括反应罐、罐盖、曝气管和搅拌装置，所述罐盖盖设在所反应罐上；

所述罐盖开设有搅拌轴接口孔、压缩空气入口孔和进料口；

述搅拌装置包括搅拌轴、搅拌桨和电机，所述电机设置在所述罐盖上面，所述搅拌轴设置在所述反应罐内，所述搅拌轴的下端设置有所述搅拌桨，所述搅拌轴的上端通过所述搅拌轴接口孔与所述电机的输出轴传动连接；

所述曝气管设置在所述反应罐内，且通过所述压缩空气入口孔与外部供气设备连接，所述曝气管开设有若干排气孔。

优选地，所述反应罐底部设有出料口。

优选地，还包括加强圈，所述加强圈套设有所述反应罐上。

优选地，所述反应罐上方外表面对称设置有两个固定部。

优选地，所述固定部下方设有第一加强筋，所述第一加强筋固定在所述反应罐外表面和所述固定部下表面。

优选地，所述反应罐底部直径大于罐身直径，所述底部上表面设置有第二加强筋，所述第二加强筋侧面与所述反应罐外表面固定连接。

优选地，所述罐盖还开设有观察孔。

优选地，所述罐盖还开设有废气出口孔。

优选地，所述罐盖还开设有探针插入口。

优选地，所述曝气管为环形管道。

本实用新型脱铜反应装置，通过设置所述搅拌装置以及用于输送压缩空气的所述曝气管可以使蚀铜废液和脱铜助剂混合更均匀、加快两者的反应速率，提高效率；在所述反应罐底部设置出料口，方便反应后排出物料；所述加强圈、所述固定部、所述第一加强筋和所述第二加强筋的设置时反应装置更加实用；所述罐盖上开设有观察孔，方便观察，开设有废气出气孔，方便排出废气，开设有探针插入口，方便插入ph/orp探头；所述曝气管设置为环形管道，使气体排放更均匀。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型反应罐俯视结构示意图；

图3为本实用新型罐盖俯视结构示意图。

附图标号说明：

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

在本实用新型一实施例中，如图1至图3所示，脱铜反应装置，包括反应罐1、罐盖2、曝气管3和搅拌装置4，所述罐盖2盖设在所反应罐1上；

所述罐盖2开设有搅拌轴接口孔21、压缩空气入口孔22和进料口23；

所述搅拌装置4包括搅拌轴42、搅拌桨43和电机41，所述电机41设置在所述罐盖2上面，所述搅拌轴42设置在所述反应罐1内，所述搅拌轴42的下端设置有所述搅拌桨43，所述搅拌轴42的上端通过所述搅拌轴接口孔21与所述电机41的输出轴传动连接；

所述曝气管3设置在所述反应罐1内，且通过所述压缩空气入口孔22与外部供气设备连接，所述曝气管3开设有若干排气孔31。

本实施例中，所述反应罐1为圆柱形，用于容纳蚀铜废液和脱铜助剂，让两者在所述反应罐1内反应，脱除蚀铜废液里的铜，所述罐盖2盖设在所述反应罐1上。所述搅拌装置4包括电机41、搅拌轴42和搅拌桨43，所述搅拌桨43固定在所述搅拌轴42底端，所述搅拌桨43和所述搅拌轴42均位于所述反应罐1内，所述电机41设置在所述罐盖2上方，然后所述搅拌轴42上端通过所述搅拌轴接口孔21与所述电机41的输出端连接。搅拌时，所述电机41运作，带动所述搅拌轴42旋转，进而带动所述搅拌桨43旋转，以搅拌蚀铜废液和脱铜助剂，使两者可以更快、更完全地反应。所述罐盖2上开设有进料口23，主要用于脱铜助剂的投放。所述曝气管3设置在所述反应罐1内，且通过所述压缩空气入口孔22与外部供气设备连接，外部供气设备将压缩空气输入至所述曝气管3内，由于所述曝气管3上开设有若干排气孔31，所以，压缩空气便从所述排气孔31内排出至所述反应罐1内，往所述反应罐1内充入空气，使蚀铜废液和脱铜助剂混合更加均匀。

进一步地，所述反应罐1底部设有出料口11。所述出料口11用于排出反应后的物料，所述出料口11与阀门连接，通过控制阀门的闭合，来控制所述出料口11的闭合，从而控制物料的排除；阀门与离心泵连接，离心泵将所述反应罐1内生成的含有碱式氯化铜沉淀的溶液输出至外部装置内，或者直接输送至压滤机上进行压滤。设置有所述出料口11方便物料的排出，设置在所述调反应罐1底部侧面，可以利用底部位置压强较大的情况，加快物料的排出，方便使用，提高效率。

进一步地，还包括加强圈5，所述加强圈5套设有所述反应罐1上。所述加强圈5可以增加所述反应罐1结构的稳定性，避免所述反应罐1膨胀、爆裂。

进一步地，所述反应罐1上方外表面还对称设置有两个固定部12。所述固定部用于固定搅拌支架(图中未示出)，所述电机41的重量较重，若直接将其放置在所述罐盖2上，则容易压坏所述罐盖2，所以，在实际应用中，一般会将所述电机41用搅拌支架架起来，避免将重力压在所述罐盖2上。所述固定部12则用来固定搅拌支架，这样不仅能避免所述电机41将重力压在所述罐盖2上，还能避免由于所述电机41运作、振动，使所述搅拌装置4产生偏移，不能正常地工作。

进一步地，所述固定部12下方设有第一加强筋13，所述第一加强筋13固定在所述反应罐1外表面和所述固定部12下表面。由于所述搅拌装置4重量较大，将其用搅拌支架固定时，所述固定部12需承受较大的重量，所以设置所述第一加强筋13可以给所述固定部12提供一定的支撑，增加其结构稳定性。

进一步地，所述反应罐1底部直径大于罐身直径，所述底部上表面设置有第二加强筋14，所述第二加强筋14侧面与所述反应罐1外表面固定连接。所述反应罐1底部直径设置为大于罐身直径，可以增加所述反应罐1放置后的平稳性，而且还可用于承载所述第二加强筋14。所述第二加强筋14的设置可增加所述反应罐1的结构强度，更优地，所述第二加强筋14可设置为多个，且均匀分布、围绕所述反应罐1设置，使其结构更加稳固。

进一步地，所述罐盖2还开设有观察孔24。所述观察孔24主要用于工作人员透过其观察所述反应罐1内部实况，当然也可以通过所述观察孔24进行取样或者补充物料。

进一步地，所述罐盖2还开设有废气出口孔25。如前面所述，在工作过程中，需要往所述反应罐1内通过压缩空气，以提高蚀铜废液和脱铜助剂的反应效率，在这过程中，部分压缩空气会溶于溶液中，但较大一部分的空气会从溶液中溢出，所以这就会增加所述反应罐1内的压力，为了避免所述反应罐1内的压力过大，造成所述反应罐1膨胀、爆裂，因此需要及时排出没有溶于溶液中的气体，因此设置所述废气出口孔25的作用就是排出所述反应罐1内的废气。

进一步地，所述罐盖2还开设有探针插入口26。所述探针插入口26用于ph/orp计的探头插入所述反应罐1内，以使ph/orp计可以检测所述反应罐1内溶液的ph值和opr值，方便工作人员判断所述反应罐1内溶液的反应进度。

进一步地，所述曝气管3为环形管道。所述反应罐1为圆柱形，将所述气体分布管15设计为环形管道，环设在所述反应罐1内壁，可以尽可能增大空气的分布面积，增大孔气与所述反应罐1内液体的接触范围，提高反应效率。当然，所述气体分布管15还可以为直线管或分段式气体分布管。更优地，所述曝气管3设置在所述反应罐1下半部分位置，由于空气的密度较小，所以往所述反应罐1内充入空气后，空气会往上走，所以将所述曝气管3设置在下半部分位置可以使空气排入所述反应罐1后，能更大面积的接触溶液。所述曝气管3为环形管道，则所述排气孔31便环绕环形管道下表面设置，这样可以增大空气的分布面积。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。