一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置的制作方法

[0001]
本实用新型涉及偏振分光棱镜技术领域，具体涉及一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置。


背景技术：

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偏振分光棱镜是一种用于分离光线的水平偏振和垂直偏振的光学元件偏振分光棱镜是通过在直角棱镜的斜面镀制多层膜结构，然后胶合成一个立方体结构，利用光线以布鲁斯特角入射时p偏振光透射率为1而s偏振光透射率小于1的性质，在光线以布鲁斯特角多次通过多层膜结构以后，达到使的p偏振分量完全透过，而绝大部分s偏振分量反射(至少90％以上)的一个光学元件。
[0003]
现在的光学元器件中的镜片在生产加工时会在打磨和抛光阶段留下较多的粉尘，采用超声波清洗的时候，粉尘的高速振动会给镜片表皮划伤，给镜片的光学性质带来影响。


技术实现要素：

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(一)要解决的技术问题
[0005]
为了克服现有技术不足，现提出一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置，解决现有光学元器件中的镜片在生产加工时会在打磨和抛光阶段留下较多的粉尘，采用超声波清洗的时候，粉尘的高速振动会给镜片表皮划伤，给镜片的光学性质带来影响的问题。
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(二)技术方案
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本实用新型通过如下技术方案实现：本实用新型提出了一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置，包括设备本体和清洗喷嘴，所述设备本体内部卡压有隔板，所述隔板一侧成型有高压清洗箱，所述隔板另一侧成型有超声波清洗箱，所述高压清洗箱顶部合页连接有盖板一，所述盖板一和所述高压清洗箱内壁上均插接有所述清洗喷嘴，所述清洗喷嘴一端插接有送液管道。
[0008]
通过采用上述技术方案，所述送液管道内嵌在设备本体的内壁中。
[0009]
进一步的，所述高压清洗箱内底部卡压有漏网，所述漏网上通过螺栓固定有基片夹板，所述超声波清洗箱顶部合页连接有盖板二。
[0010]
通过采用上述技术方案，所述漏网将清洗水源泄露至收纳装置中回收，所述基片夹板对基片形成一个边缘夹紧的作用，不会占据基片较多表面面积。
[0011]
进一步的，所述设备本体外部一侧壁上内嵌有两组排泄管，所述排泄管与所述高压清洗箱以及所述超声波清洗箱均连通。
[0012]
通过采用上述技术方案，所述排泄管用来排泄高压清洗箱和超声波清洗箱内的废液。
[0013]
进一步的，所述设备本体另一侧壁上通过螺栓固定有设备封装箱，所述设备封装箱顶部一侧壁上内嵌有操作台。
[0014]
进一步的，所述高压漏网正下方在所述设备本体内成型有储液槽，所述超声波清
洗箱内成型有换能板，所述换能板底部通过卡槽固定有超声波振动器。
[0015]
进一步的，所述设备封装箱内卡压有加压泵，所述加压泵一侧与所述超声波清洗箱通过管道连通有无泡清洗剂罐，所述加压泵顶部一侧通过管道连接有水箱。
[0016]
通过采用上述技术方案，所述无泡清洗剂是不含卤代烃的碱性清洗剂，易溶于水，主要用于清洗光学元件生产过程中表面粘附的抛光粉、指纹、油脂、灰尘，胶水，光学保护漆等污物，也可用作清洗流程中有机溶剂的漂洗剂。
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(三)有益效果
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本实用新型相对于现有技术，具有以下有益效果：
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为解决现有光学元器件中的镜片在生产加工时会在打磨和抛光阶段留下较多的粉尘，采用超声波清洗的时候，粉尘的高速振动会给镜片表皮划伤，给镜片的光学性质带来影响的问题，本实用新型通过设置高压清洗箱、清洗喷嘴以及无泡清洗剂罐，可预先通过高压水流冲洗掉基片上的颗粒粉尘，然后再经超声波清洗，可大大降低粉尘颗粒划伤基片的概率，同时又能在清洗剂的保护下，又进一步保护了基片。
附图说明
[0020]
图1是本实用新型所述一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置的结构示意图；
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图2是本实用新型所述一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置中高压清洗箱的俯视图；
[0022]
图3是本实用新型所述一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置中设备本体的左剖面图；
[0023]
图4是本实用新型所述一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置中设备封装箱的正剖面图。
[0024]
附图标记说明如下：
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1、设备本体；2、高压清洗箱；3、超声波清洗箱；4、操作台；5、设备封装箱；6、清洗喷嘴；7、盖板一；8、盖板二；9、基片夹板；10、漏网；11、储液槽；12、水箱；13、换能板；14、超声波振动器；15、排泄管；16、加压泵；17、送液管道；18、无泡清洗剂罐；19、隔板。
具体实施方式
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为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0027]
如图1-4图所示，本实施例中的一种偏振分光棱镜基片无痕清洗装置，包括设备本体1和清洗喷嘴6，设备本体1内部卡压有隔板19，隔板19一侧成型有高压清洗箱2，隔板19另一侧成型有超声波清洗箱3，高压清洗箱2顶部合页连接有盖板一7，盖板一7和高压清洗箱2内壁上均插接有清洗喷嘴6，清洗喷嘴6一端插接有送液管道17，送液管道17内嵌在设备本体1的内壁中。
[0028]
高压清洗箱2内底部卡压有漏网10，漏网10上通过螺栓固定有基片夹板9，超声波清洗箱3顶部合页连接有盖板二8，漏网10将清洗水源泄露至收纳装置中回收，基片夹板9对基片形成一个边缘夹紧的作用，不会占据基片较多表面面积。
[0029]
设备本体1外部一侧壁上内嵌有两组排泄管15，排泄管15与高压清洗箱2以及超声波清洗箱3均连通，排泄管15用来排泄高压清洗箱2和超声波清洗箱3内的废液。
[0030]
设备本体1另一侧壁上通过螺栓固定有设备封装箱5，设备封装箱5顶部一侧壁上内嵌有操作台4。
[0031]
高压漏网10正下方在设备本体1内成型有储液槽11，超声波清洗箱3内成型有换能板13，换能板13底部通过卡槽固定有超声波振动器14。
[0032]
设备封装箱5内卡压有加压泵16，加压泵16一侧与超声波清洗箱3通过管道连通有无泡清洗剂罐18，加压泵16顶部一侧通过管道连接有水箱12，无泡清洗剂是不含卤代烃的碱性清洗剂，易溶于水，主要用于清洗光学元件生产过程中表面粘附的抛光粉、指纹、油脂、灰尘，胶水，光学保护漆等污物，也可用作清洗流程中有机溶剂的漂洗剂。
[0033]
本实施例的具体实施过程如下：首先给水箱12内注满清洗的洁净水源，然后把基片放置在基片夹板9上进行固定，通过操作台4启动加压泵16将水源压入到送液管道17中，从清洗喷嘴6中喷出，高压水柱从各个方向喷打在基片上，能够快速将基片上的粉尘颗粒清理脱落，避免在后续清理过程中粉尘颗粒黏在基片上摩擦，造成基片的划伤，清洗完成后，取出基片放入到超声波清洗箱3内，启动超声波振动器14在换能板13的作用下带动内部的清洁水源振动，对基片上的杂质进行细化清理，期间，可从无泡清洗剂罐18中往超声波清洗箱3内滴入适量的清洗剂，加速粉尘的凝聚，避免再次粘附在基片上，提高清洗效果的同时也保护了基片，最后再放入到高压清洗箱2内做最后的清洁。
[0034]
上面所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的构思和范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思的前提下，本领域普通人员对本实用新型的技术方案做出的各种变型和改进，均应落入到本实用新型的保护范围，本实用新型请求保护的技术内容，已经全部记载在权利要求书中。