专利名称：氧化沟盘式曝气装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种对污水进行生化处理的曝气设备，特别适用于氧化沟专用曝气设备。
目前，氧化沟的曝气设备多数采用倒伞形表曝机或曝气转刷，这就使得氧化沟占地面积较大，氧化沟的深度一般只能在3.0～3.5米，使氧化沟工艺的推广应用受到一定的限制。
本实用新型的目的是设计一种新型的氧化沟盘式曝气装置，其结构简单，用于氧化沟工艺能耗省、水平推力大及充氧量大。
本实用新型的氧化沟盘式曝气装置，由两个半圆盘体和圆盘轴心组成，盘体上设有加强肋，加强肋间设有减轻自重的缺口，其特征是在圆盘体上呈放射状规则地密布排列梯形斜棱柱锥体凸起小块，各排梯形小块之间设有大量的圆形小凹，梯形小块的顶面设有小圆凹。
所述的梯形斜棱柱锥体小块的最佳尺寸为24×20毫米，圆形小凹的深度为3～6毫米。
本实用新型的氧化沟盘式曝气装置的工作原理是，曝气转盘旋转时，主要依靠梯形斜棱柱锥体凸起块推动水流向前，同时将水扬出水面形成液膜，水珠与大气接触将空气中的氧溶入水中，同时所有圆形小凹内的空气，也将其所含的氧传输到水中使之充氧。设置在梯形小凸块顶面上的小圆凹增加扬水液膜，水珠的溶氧，提高了传氧效率本实用新型的氧化沟盘式曝气装置，由于转盘直径大，梯形斜棱柱锥体凸起小块构造尺寸与现有转盘不同，与设置在氧化沟内的淹没导流板配套使用，可改变水流流速的竖同分布，因而可较大的提高对水的推力，就可将氧化沟的水深由3.0米提高到5.0米；提高水深可以节约占地和工程造价，同时还扩大了氧化沟的使用范围由于圆形小凹采用了较一般转盘大的深度，又特别在梯形小凸块顶面增设了小圆凹，提高了传氧效率，无论是单个盘的充氧能力，还是充氧效率(单位电能充氧量)均已超过国外先进的同类产品。
本实用新型的氧化沟盘式曝气装置的主要技术性能为充氧能力1.65KG/H，最高充氧效率2.38KGO2/KW.H转速N＝49～60转分节电25％。
本实用新型的氧化沟盘式曝气装置，适用对污水进行生化处理的曝气设备。
以下结合附图及实施例对氧化沟盘式曝气装置做进一步描述。
图1为氧化沟盘式曝气装置的结构图图2为
图1的A-A剖面图图3为氧化沟盘式曝气装置局部放大图如图所示，一种氧化沟盘式曝气装置，由两个半圆盘体1和圆盘轴心2组成，盘体上设有加强肋3，加强肋间设有减轻自重的缺口4，其特征是在圆盘体上呈放射状规则地密布排列梯形斜棱柱锥体凸起小块5，各排梯形小块之间设有大量的圆形小凹6，梯形小块的顶面设有小圆凹7所述的梯形斜棱柱锥体凸起小块的尺寸为24×20毫米，圆形小凹的深度为4毫米。
权利要求1.一种氧化沟盘式曝气装置，由两个半圆盘体和圆盘轴心组成，盘体上设有加强肋，加强肋间设有减轻自重的缺口，其特征是在圆盘体上呈放射状规则地密布排列梯形斜棱柱锥体凸起小块，各排梯形小块之间设有大量的圆形小凹，梯形斜棱柱锥体小块的顶面设有小圆凹。
2.如权利要求1所述的氧化沟盘式曝气装置，其特征是所述的梯形斜棱柱锥体凸起小块的最佳尺寸为24×20毫米，圆形小凹的深度为3～6毫米。
专利摘要一种氧化沟盘式曝气装置，由两个半圆盘体和圆盘轴心组成，其特征是在圆盘体上呈放射状规则地密布排列梯形斜棱柱锥体凸起小块，各排梯形小块之间设有大量的圆形小凹，梯形小块的顶面设有小圆凹。本实用新型与设置在氧化沟内的淹没导流板配套使用，可改变小流流速的竖向分布，氧化沟的水深由3.0米提高到5.0米；传氧效率可超过国外先进的同类产品。本实用新型的氧化沟盘式曝气装置，适用对污水进行生化处理的曝气设备。
文档编号C02F3/08GK2230316SQ9520120
公开日1996年7月3日 申请日期1995年1月20日 优先权日1995年1月20日
发明者许泽美, 朱瑞麟 申请人:中国市政工程西北设计研究院, 北京中联水工业工程咨询开发公司