导电棒去污设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及用于有色金属电解领域，具体而言，特别涉及一种可去除电解后的导电棒表面污垢的导电棒去污设备。
【背景技术】
[0002]导电棒是很多金属电解湿法冶炼中不可缺少的辅助材料，它的使用量大，价格较贵，所以需要循环使用。导电棒电解时表面容易附着一些杂质，影响电解的效果，所以在使用一定的时间后需要清理一下表面的杂质，以保证电解时产品的质量和电解的效果。目前，导电棒表面的清理都是采用晃棒机完成，它通过多根导电棒之间的直接或间接摩擦，去除表面的杂质，该方法噪声大，工作环境恶劣，工人的劳动强度高，并且难以实现设备的自动化。
【发明内容】
[0003]本发明旨在至少在一定程度上解决现有技术中的上述技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种可以清除电解后导电棒表面的污垢和氧化皮的导电棒去污设备。
[0004]根据本发明实施例的导电棒去污设备，包括:支撑座；旋转轴，所述旋转轴设在所述支撑座上，并可绕自身的轴线旋转，所述旋转轴上设有去污腔，所述去污腔在所述旋转轴的一端形成第一开口，所述去污腔在所述旋转轴的另一端形成第二开口，所述去污腔的内壁上设有延伸到所述第一开口和所述第二开口的螺旋片；刷头，所述刷头设在所述去污腔的内壁上；驱动器，所述驱动器与所述旋转轴连接，并驱动所述旋转轴旋转；以及给料装置，所述给料装置与所述第一开口或第二开口相对设置，所述给料装置将导电棒夹持住并推动所述导电棒穿过所述去污腔。
[0005]根据本发明的实施例的导电棒去污设备，导电棒伸入到去污腔内后，位于去污腔内的刷头可以通过与旋转轴一起旋转，实现对导电棒表面的污垢的清洁，清理下的污垢可以通过螺旋片的作用，自动的排出，由此，可以实现了生产工艺的自动化，减少了工人的劳动强度。
[0006]另外，根据本发明上述实施例的导电棒去污设备还可以具有如下附加的技术特征:
[0007]根据本发明的一个实施例，所述给料装置包括:支撑架；至少一组夹持辊，所述至少一组夹持辊可枢转地设在所述支撑架上；以及夹持辊驱动器，所述夹持辊驱动器与至少一组所述夹持辊连接以驱动至少一组所述夹持辊转动。
[0008]根据本发明的一个实施例，所述夹持辊为多组，相邻的两个夹持辊之间设有传动件。
[0009]根据本发明的一个实施例，所述旋转轴的侧壁上设有与所述去污腔连通的第三开口，所述刷头对应设置在所述第三开口处。
[0010]根据本发明的一个实施例，导电棒去污设备进一步包括固定装置，所述固定装置设在所述旋转轴的外侧壁上，且封闭所述第三开口，所述刷头设在所述固定装置上。
[0011]根据本发明的一个实施例，所述固定装置与所述刷头之间设有弹性件。
[0012]根据本发明的一个实施例，所述弹性件为弹簧。
[0013]根据本发明的一个实施例，所述固定装置通过螺栓锁紧在所述旋转轴上。
[0014]根据本发明的一个实施例，导电棒去污设备进一步包括辅助给料装置，所述辅助给料装置与所述第一开口和所述第二开口中的一个相对，所述给料装置与所述第一开口和第二开口中的另一个相对。
[0015]根据本发明的一个实施例，导电棒去污设备进一步包括底座，所述支撑座、所述给料装置以及所述辅助给料装置设在所述底座上。
[0016]本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
【附图说明】
[0017]图1是根据本发明的一个实施例的导电棒去污设备的结构示意图；
[0018]图2是根据本发明的一个实施例的导电棒去污设备的俯视图；
[0019]图3是根据本发明的一个实施例的导电棒去污设备的给料装置的结构示意图；
[0020]图4是根据本发明的一个实施例的导电棒去污设备的给料装置的俯视图。
[0021]附图标记:
[0022]导电棒去污设备100 ;支撑座10 ;旋转轴20 ;刷头30 ;驱动器40 ;给料装置50 ;去污腔201 ;第一开口 21 ;第二开口 22 ;螺旋片60 ;支撑架51 ;夹持辊52 ;夹持辊驱动器53 ；传动件54 ;弹性元件55 ;辅助给料装置70 ;底座80 ;第三开口 23 ;固定装置90 ;螺栓92 ;孔99 ο
【具体实施方式】
[0023]下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
[0024]在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底” “内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
[0025]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0026]在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0027]在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0028]下面参考附图描述根据本发明的实施例的导电棒去污设备100。
[0029]如图1、图2所示，根据本发明的实施例的导电棒去污设备100，包括:支撑座10、旋转轴20、刷头30、驱动器40以及给料装置50。
[0030]具体而言，旋转轴20可以设在支撑座10上，并可绕自身的轴线旋转，旋转轴20上设有去污腔201，去污腔201在旋转轴20的一端形成第一开口 21，去污腔201在旋转轴20的另一端形成第二开口 22，去污腔201的内壁上设有延伸到第一开口 21和第二开口 22的螺旋片60，螺旋片60可以将去污腔201内的污垢从第一开口 21和第二开口 22排出。
[0031]刷头30设在去污腔201的内壁上，可以随旋转轴20 —起旋转，刷头30可以对伸入到去污腔201内，并对导电棒的表面的污垢进行清洁。驱动器40可以与旋转轴20连接，并驱动旋转轴20旋转。给料装置50可以与第一开口 21或第二开口 22相对设置，给料装置50将导电棒夹持住并推动导电棒穿过去污腔20，以实现对导电棒的清洁。换