收尘设备的环流发生器的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种环流发生器，尤其涉及一种收尘设备的环流发生器。用于收尘系统中。
【背景技术】
[0002]选矿冶炼行业中，有很多设备可以产生大量的粉尘、烟气，如破碎机、压脱机、电解质清理机等。这些粉尘或烟气，不利于工作环境及环保水平的提升，也不利于工人的身心健康，既不环保，又增加了工人的工作难度，特别是在室内安装的设备，对空间的污染十分严重。
[0003]目前，为解决上述问题，常在产生粉尘、烟气的设备上安装收尘罩，以除去粉尘或烟气，但对于无法密封或不便于密封的设备来说，收尘的效果就不太理想，会出现粉尘或烟气泄露的现象，从而造成工作环境的污染。
【发明内容】
[0004]为了解决上述技术问题本实用新型提供一种收尘设备的环流发生器，目的是解决收尘系统中的粉尘或烟气从侧部泄露造成污染的问题，提高收尘效率，减少粉尘、烟气的扩散。
[0005]为达上述目的本实用新型收尘设备的环流发生器，由下述结构构成:至少四个气流发生管，在气流发生管上设有气流喷嘴，气流发生管上设有进气口，气流喷嘴喷出的气流形成环流。
[0006]所述的进气口设在气流发生管的端部。
[0007]所述的进气口设在气流发生管的底部。
[0008]所述的气流喷嘴为向设备弯曲并向收尘罩倾斜。
[0009]所述的气流喷嘴向收尘罩倾斜角度为5-10度。
[0010]气流发生管竖向放置，气流喷嘴设置2-10个。
[0011]设在非端部的气流生管上的气流喷嘴分别向相邻的两侧出气。
[0012]本实用新型的优点效果:环流发生器可产生旋转向上的环流，粉尘或烟气有一部分随环流发生器所产生的旋转向上环流一起被收尘罩吸走。可有效减少粉尘或烟气从侧部泄露，降低对周围环境的污染程度。
[0013]根据产生粉尘、烟气的设备尺寸，布置气流发生管和气流喷嘴，以在这些气流发生管的内部形成一个或多个环流。
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型的结构示意图；
[0015]图2为本实用新型的单个环流示意图；
[0016]图3为本实用新型的多个环流示意图。
[0017]图中:1、气流发生管；2、气流喷嘴；3、进气口。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
[0019]如图所示本实用新型收尘设备的环流发生器，由下述结构构成:至少四个气流发生管1，在气流发生管1上设有气流喷嘴2，气流发生管1上设有进气口 3，气流喷嘴2喷出的气流形成环流。
[0020]所述的进气口 3设在气流发生管的顶部。
[0021]所述的气流喷嘴2为向设备弯曲并向收尘罩倾斜。
[0022]所述的气流喷嘴2向收尘罩倾斜角度为5-10度。
[0023]气流发生管1竖向放置，气流喷嘴2设置2-10个。
[0024]当设在非端部的气流生管上的气流喷嘴分别向相邻的两侧出气，形成多个环流。
[0025]本实用新型气流从气流发生管1的一端进入后，经气流喷嘴2喷出，多个气流发生管1喷出后的气流，可在这些气流发生管1的内部形成环流，该环流沿逆时针或顺时针向上旋转。根据气流发生管1和气流喷嘴2的设置情况，可形成一个内部环流(如图2)或多个内部环流(如图3)。
【主权项】
1.收尘设备的环流发生器，其特征在于由下述结构构成:至少四个气流发生管，在气流发生管上设有气流喷嘴，气流发生管上设有进气口，气流喷嘴喷出的气流形成环流。2.根据权利要求1所述的收尘设备的环流发生器，其特征在于所述的进气口设在气流发生管的端部。3.根据权利要求2所述的收尘设备的环流发生器，其特征在于所述的进气口设在气流发生管的底部。4.根据权利要求1所述的收尘设备的环流发生器，其特征在于所述的气流喷嘴为向设备弯曲并向收尘罩倾斜，所述的设备为产生粉尘、烟气的设备；所述的收尘罩为产生粉尘、烟气的设备上安装的收尘罩。5.根据权利要求4所述的收尘设备的环流发生器，其特征在于所述的气流喷嘴向收尘罩倾斜角度为5-10度。6.根据权利要求1所述的收尘设备的环流发生器，其特征在于气流发生管竖向放置，气流喷嘴设置2-10个。7.根据权利要求6所述的收尘设备的环流发生器，其特征在于设在非端部的气流生管上的气流喷嘴分别向相邻的两侧出气。
【专利摘要】本实用新型涉及一种环流发生器，尤其涉及一种收尘设备的环流发生器。用于收尘系统中。由下述结构构成：至少四个气流发生管，在气流发生管上设有气流喷嘴，气流发生管上设有进气口，气流喷嘴喷出的气流形成环流。环流发生器可产生旋转向上的环流，粉尘或烟气有一部分随环流发生器所产生的旋转向上环流一起被收尘罩吸走。可有效减少粉尘或烟气从侧部泄露，降低对周围环境的污染程度。根据产生粉尘、烟气的设备尺寸，布置气流发生管和气流喷嘴，以在这些气流发生管的内部形成一个或多个环流。
【IPC分类】B08B15/04
【公开号】CN205020487
【申请号】CN201520621448
【发明人】丁大勇, 刘晓晨, 贾宇, 张国斌, 赵冰洋, 李斌, 李大博, 曹得志, 吕圣楠
【申请人】沈阳铝镁科技有限公司
【公开日】2016年2月10日
【申请日】2015年8月18日