一种云母氧化铁干法加工方法与流程

本发明涉及云母氧化铁加工技术领域，尤其涉及一种云母氧化铁干法加工方法。

背景技术：

云母氧化铁，是自然界中一种特殊的以三氧化二铁为主要化学成分的铁矿石，其结晶状态类似云母，结构为鳞片状，灰黑色，有金属光泽。由于其特有的鳞片状结构特征，通过粉碎、超细加工、分选制备的氧化铁灰(呈浅灰或深灰色)、氧化铁红(呈铁锈红)主要用作防腐涂料的颜填料。传统的云母氧化铁粉碎工艺复杂，粉碎效果不好，粒度范围比较宽，且会破坏云母氧化铁的片状结构。

技术实现要素：

针对上述技术问题，本发明的目的在于提供一种云母氧化铁干法加工方法，以缩短加工工艺流程，降低生产成本，实现同时生产氧化铁红和氧化铁灰的目的。

本发明采用的技术方案是：

一种云母氧化铁干法加工方法，包括原料储存装置，所述原料储存装置通过管道依次与超级涡流磨主机、超细分级机、旋风分级机、布袋除尘器和风机相连，所述加工方法包括以下步骤：

(1)原料镜铁矿粉经过干燥后，通过给料机进入所述超级涡流磨主机进行粉碎，调节所述给料机的给料速度为20～30kg/min，所述超级涡流磨主机的转速设定为2510～2632r/min；

(2)设定风机的转速为1043～1245r/min，粉碎后的物料在气流的带动下进入所述超细分级机，调节所述超细分级机的分级粒度并进行二次分级，所述超细分级机的转速设定为2200～2300r/min，粗的产品1从所述超细分级机下部的出料口排出；

(3)细粉产品从步骤(2)中所述超细分级机进入所述旋风分级机中进行分离，从所述分旋风分级机下部的出料口排出产品2；

(4)粒度过细的微粉产品从步骤(3)中所述分旋风分级机的上部出口进入布袋除尘器，由所述布袋除尘器收集产品3。

本发明所述的云母氧化铁干法加工方法，其中，步骤(1)中调节所述给料机的给料速度为30kg/min，所述超级涡流磨主机的转速设定为2632r/min。

本发明所述的云母氧化铁干法加工方法，其中，步骤(2)中设定所述风机的转速为1043r/min，所述超细分级机的转速设定为2200r/min。

本发明有益效果：

本发明所述的云母氧化铁干法加工方法，通过优化操作参数，使制备出的云母氧化铁产品片状结构含量多、平均粒度更细、粒度范围较窄，并能够实现同时生产氧化铁红和氧化铁灰的目的。

附图说明

图1为本发明所述的云母氧化铁干法加工方法的流程图。

下面将结合具体实施例和附图对本发明作进一步说明。

具体实施方式

以安徽铜陵镜铁矿粉为原料，选矿后含铁量大于65(质量分数)。

如图1所示，一种云母氧化铁干法加工方法，包括原料储存装置，所述原料储存装置通过管道依次与超级涡流磨主机、超细分级机、旋风分级机、布袋除尘器和风机相连，所述加工方法包括以下步骤：

(2)原料镜铁矿粉经过干燥后，通过给料机进入所述超级涡流磨主机进行粉碎，调节所述给料机的给料速度为30kg/min，所述超级涡流磨主机的转速设定为2632r/min；

(2)设定风机的转速为1043r/min，粉碎后的物料在气流的带动下进入超细分级机，调节所述超细分级机的分级粒度并进行二次分级，所述超细分级机的转速设定为2200r/min，粗的产品1从所述超细分级机下部的出料口排出；

(3)细粉产品从步骤(2)中所述超细分级机进入旋风分级机中进行分离，从所述分旋风分级机下部的出料口排出产品2；

(4)粒度过细的微粉产品从步骤(3)中所述分旋风分级机的上部出口进入所述布袋除尘器，由所述布袋除尘器收集产品3。

采用本实施例方法得到的产品1、产品2和产品3的粒度特征和基本物性分别如表1和表2所示。

表1产品1、产品2和产品3的粒度分布

表2产品1、产品2和产品3的基本物性

如表1和表2所示，在产率上，产品1的产率为49.92％，属于主要产品，产品2的产率为39.23％，产品3的产率仅为10.86％；在粒度上，不同分级产品1、产品2和产品3对325目标准筛的通过率均接近100％，均达到了国家标准(粒度大于45μm的颗粒的质量分数不大于1.0％，粒度分布也比较均匀。偏红相水平越大，说明该云铁产品的颜色越偏红，则该产品中的红色云母氧化铁越多，由表2可知，产品1的偏红相水平最低，产品2的偏红相水平也较低，产品3的偏红相水平最高，这与工艺中的分级理论是相符的。理论上，布袋除尘器收集的产品3的粒度最小，红色云母氧化铁(红相)最多，产品2中的红相成分居中，粗产品1中的红相成分最少，另外，产品1仍然能保持着较完整的片状结构，产品2的片状结构也较完整，产品3的片状结构破坏最为严重。综上所述，产品1性能最好；产品2的性能也比较理想，云母氧化铁产品的粒度和粒度分布已经达到了相对较好的水平。

以上所述的实施例仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述，并非对本发明的范围进行限定，在不脱离本发明设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本发明的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本发明权利要求书确定的保护范围内。