叠片式过滤装置的制作方法

文档序号:12381439阅读:251来源:国知局

本实用新型属于过滤器领域,尤其涉及一种叠片式过滤装置。



背景技术:

目前,过滤器是用来对含有杂质的液体进行过滤的装置,特别在农业灌溉领域,需要对水中的大颗粒物进行过滤,从而得到较为纯净的灌溉用水。现有的叠片式过滤器在结构上基本上是由壳体、叠片、叠片支架等主要零部件构成。虽然过滤方法有很多,但由于叠片结构设计的不合理,导致整体设备过滤效果差,无法达到对灌溉用水进行精确过滤的目的,同时传统的叠片式过滤器容易造成设备堵塞,导致过滤效率下降,给设备安全造成隐患。

过滤器一般分为网式过滤器和叠片式过滤器两种。传统过滤器一般为不锈钢网式过滤器,为表层过滤,纳污能力差,寿命短,另外当过滤介质为强腐蚀性时,不锈钢材料易发生反应不满足要求。特别是应用在航天领域时,现有技术的网式过滤器会与卫星双组元推进系统中的强腐蚀性氧化剂反应,且不满足长寿命的使用要求。因此,需要一种纳污能力强、流阻低、长寿命、且抗腐蚀性强的过滤器。



技术实现要素:

为解决上述问题,本实用新型公开了叠片式过滤装置,具有较强的除污能力,能够精确对进出水进行过滤,克服了设备在过滤过程中容易堵塞的弊端,能够有效提高过滤效率,同时能够自动进行反冲洗工序,无需拆卸,具有低流阻的能力。

为了达到以上目的,本实用新型提供如下技术方案:叠片式过滤装置,包括壳体,包括进水通道、出水通道、反洗通道、排污通道、调节阀,调节阀包括第一调节阀与第二调节阀,壳体分别与第一调节阀、第二调节阀相连,第一调节阀分别与进水通道、排污通道相连,第二调节阀分别与出水通道、反洗通道相连,壳体内部设置有若干叠片,叠片分布在壳体的内部,叠片的下部设置有分流仓,分流仓将进水通道和出水通道相隔离。

作为本实用新型的一种优选方案,所述调节阀内部设置有隔板、过滤网、调节装置,所述隔板设置在调节阀与进水通道、出水通道的出口处,所述调节装置上连接有过滤网,所述调节装置能够调节水流的走向。

作为本实用新型的一种优选方案,所述叠片采用螺旋式结构。

作为本实用新型的一种优选方案,所述进水通道与出水通道与壳体间设置有止回阀。

与现有技术相比,本实用新型具备的有益效果:本实用新型通过叠片对设备进行过滤冲洗,将利用片壁和凹槽来聚集及截取杂物,片槽的复合内截面提供了类似于在砂石过滤器中产生的三维过滤,过滤效率高,同时在过滤过程中能够进行反冲洗,多个通道设计使过滤器具备低流阻、强纳污的能力,同时具备较好的结构强度。

附图说明

图1为叠片式过滤装置的结构示意图。

附图标记列表:1-进水通道、2-出水通道、3-壳体、4-第一调节阀、5-第二调节阀、6-排污通道、7-反洗通道。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式,进一步阐明本实用新型,应理解下述具体实施方式仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。需要说明的是,下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向,词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

如图1所示的叠片式过滤装置,包括壳体3,包括进水通道1、出水通道2、反洗通道7、排污通道6、调节阀,调节阀包括第一调节阀4与第二调节阀5,壳体3分别与第一调节阀4、第二调节阀5相连,第一调节阀4分别与进水通道1、排污通道6相连,第二调节阀5分别与出水通道2、反洗通道7相连,壳体3内部设置有若干叠片,叠片分布在壳体3的内部,叠片的下部设置有分流仓,分流仓将进水通道1和出水通道2相隔离。

优选的,调节阀内部设置有隔板、过滤网、调节装置,隔板设置在调节阀与进水通道1、出水通道2的出口处,调节装置上连接有过滤网,调节装置能够调节水流的走向。

优选的,叠片采用螺旋式结构。

优选的,进水通道1与出水通道2与壳体3间设置有止回阀。

在进行过滤的过程中,叠片式过滤器正常工作时,叠片是被锁紧的,进水通道1连接的进水口将需要过滤的水输送至进水通道1,进水通道1的隔板有效缓解水流对隔板后的过滤网的冲击力,水流通过过滤网将水输送至分流仓,分流仓将水输送至壳体3的顶端,水进入叠片进行过滤,通过用片壁和凹槽来聚集及截取杂物。片槽的复合内截面提供了类似于在砂石过滤器中产生的三维过滤,同时能够根据其中的设备进行有效过滤,经过过滤的水进入分流仓内部,从而将水流输送至出水通道2,所述出水通道2上的第二调节阀5能够将水输送出去。当设备内部由于反洗时将过滤孔隙完全打开,加上离心喷射作用,达到了其他过滤器无法达到的清洗效果,保证设备能够持续有效的运行,并能够根据效果进行设备清洗,保证设备的有效运行,提高工作效率。

本实用新型方案所公开的技术手段不仅限于上述实施方式所公开的技术手段,还包括由以上技术特征任意组合所组成的技术方案。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

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