一种SABC磨矿的总水平衡控制方法及装置与流程

本申请涉及磨矿工艺技术和控制技术领域，具体而言，涉及一种sabc磨矿的总水平衡控制方法及装置。

背景技术：

矿石中包含可利用的金属矿物，需要通过破碎、研磨、浮选等工艺回收利用。sabc磨矿工艺将直径＜300mm的矿石通过半自磨机破碎、球磨机研磨成μm级颗粒，通过和水混合形成矿浆产品后作为浮选工艺的原料。矿浆产品中不同粒级的含量直接影响到浮选工艺的指标。

sabc磨矿工艺流程图见图1，物流流向是：矿石直接进入半自磨机进行自磨，半自磨机的排矿产品进入振动筛进行筛选。振动筛的筛下产品为半自磨机合格粒级产品、直接送入泵池，泵池将矿浆打入到水力旋流器进行再分级，水力旋流器的溢流产品为最终磨矿产品；水力旋流器的底流产品，即产品粒级不合格的产品返回到球磨机进行细磨；球磨机的排矿产品进入泵池循环分级。振动筛的筛上大颗粒产品为半自磨机的粒级不合格产品，称为“顽石”，顽石通过皮带运输机运至顽石仓，顽石仓底部的给矿机将顽石送入圆锥破碎机破碎后，再利用皮带运输机返回到半自磨机给料皮带，与新矿石一起进入半自磨机再次破碎。因此，sabc磨矿工艺通常描述为半自磨闭路磨矿和球磨机闭路磨矿两个系统。

sabc磨矿工艺的产品质量指标是粒级分布，通常采用从粗到细的若干个粒级的含量来表示，比如：设定100目(150μm)、200目(74μm)、325目(45μm)、400目(38μm)四个产品粒级，则+100目、-100～+200目、-200～+325目、-325～+400目、-400目五个粒级范围内的矿浆质量含量，即为该矿浆产品的粒级分布。

sabc磨矿工艺的加水是为了形成矿浆产品，通常只在半自磨机入料端(称为半自磨机前给水)、振动筛上(称为筛上水)、泵池(称为泵池补加水)三个地方加水，来保障旋流器溢流产品粒级和浓度合格。三个加水点的水量控制通常是开环控制或独立闭环控制，三者之间不发生联系。

技术实现要素：

有鉴于此，本申请实施例的目的在于提供一种sabc磨矿的总水平衡控制方法及装置，可以提高细粒级矿浆产品在sabc磨矿流程中的流通速率，缩短细粒级矿浆的磨矿时间、减少过磨程度，达到提高矿浆产品质量、节省能耗的目的。

第一方面，本申请实施例提供了一种sabc磨矿的总水平衡控制方法，应用于sabc磨矿工艺系统，所述sabc磨矿工艺系统包括半自磨闭路磨矿系统、球磨机闭路sabc磨矿系统；所述半自磨闭路磨矿包括半自磨机、振动筛和泵池；所述球磨机闭路sabc磨矿系统包括球磨机；所述半自磨机的入料端、所述振动筛、所述泵池、所述球磨机的入料端和排料端上均设置有加水点，所述方法包括：

监测所述sabc磨矿工艺系统中各个加水点的瞬时加水量；

计算所述sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值；其中，所述各个加水点的瞬时总加水量等于各个加水点的瞬时加水量的总和；

在所述sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值大于设定阈值范围时，启动所述报警机制，同时，按照设定的调节步长降低所述半自磨闭路磨矿的给矿量，直至所述差值在所述设定阈值范围内，以使溢流产品符合矿浆浓度要求。

第二方面，本申请实施例还提供了一种sabc磨矿的总水平衡控制装置，应用于sabc磨矿工艺系统，所述sabc磨矿工艺系统包括半自磨闭路磨矿系统、球磨机闭路sabc磨矿系统和报警设备；所述半自磨闭路磨矿包括半自磨闭路磨矿系统、振动筛和泵池；所述球磨机闭路sabc磨矿系统包括球磨机；所述半自磨闭路磨矿系统的入料端、所述振动筛、所述泵池、所述球磨机的入料端和排料端上均设置有加水点，所述装置包括：

监控模块，用于监测所述sabc磨矿工艺系统中各个加水点的瞬时加水量；

计算模块，用于计算所述sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值；其中，所述各个加水点的瞬时总加水量等于各个加水点的瞬时加水量的总和；

控制调节模块，用于在所述sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值大于设定阈值范围时，控制所述报警设备报警，同时，按照设定的调节步长降低所述半自磨闭路磨矿的给矿量，直至所述差值在所述设定阈值范围内，以使溢流产品符合矿浆浓度要求。

本申请实施例提供的一种sabc磨矿的总水平衡控制方法及装置，通过监测sabc磨矿工艺系统中各个加水点的瞬时加水量，并计算sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值；在sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值大于设定阈值范围时，控制报警设备报警，同时，按照设定的调节步长降低半自磨闭路磨矿的给矿量，直至所述差值在所述设定阈值范围内，以使溢流产品符合矿浆浓度要求。这样，通过监测sabc磨矿工艺系统的总水平衡状态，当总水不平衡时，通过启动报警机制以及调节半自磨闭路磨矿的给矿量实现总水平衡调节，从而提高整个sabc磨矿工艺系统的处理效率。

为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1示出了本申请实施例所提供的一种sabc磨矿工艺流程图。

图2示出了本申请实施例所提供的一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图3示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图4示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图5示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图6示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图7示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图8示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图9示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图10示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图11示出了本申请实施例所提供的另一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图。

图12示出了本申请实施例所提供的一种sabc磨矿的总水平衡控制装置的结构示意图。

图13示出了本申请一实施例所提供的计算机设备40的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组成可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

图2示出了本申请实施例提供的一种sabc磨矿的总水平衡控制方法的流程图，如图2所示，本申请实施例提供了一种sabc磨矿的总水平衡控制方法，应用于sabc磨矿工艺系统，所述sabc磨矿工艺系统包括半自磨闭路磨矿系统、球磨机闭路sabc磨矿系统和控制系统，控制系统用于控制半自磨闭路磨矿系统和球磨机闭路sabc磨矿系统；所述半自磨闭路磨矿包括半自磨闭路磨矿系统、振动筛和泵池；所述球磨机闭路sabc磨矿系统包括球磨机；所述半自磨闭路磨矿系统的入料端、所述振动筛、所述泵池、所述球磨机的入料端和排料端上均设置有加水点，所述方法包括：

s101、监测所述sabc磨矿工艺系统中各个加水点的瞬时加水量。

s102、计算所述sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值；其中，所述各个加水点的瞬时总加水量等于各个加水点的瞬时加水量的总和。

s103、在所述sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值大于设定阈值范围时，启动报警机制，同时，按照设定的调节步长降低所述半自磨闭路磨矿的给矿量，直至所述差值在所述设定阈值范围内，以使溢流产品符合矿浆浓度要求。

结合步骤101至步骤103，监测所述sabc磨矿工艺系统中的总水量及各个加水点的加水量等，即所述sabc磨矿工艺系统的第一运行状态数据；

sabc磨矿总水平衡方法首先要基于第三水量调节机制进行调节，这里的第三水量调节机制是总水调节，总水调节是根据选矿工艺设定的溢流产品矿浆浓度和半自磨闭路磨矿系统的给矿量设定值计算出的总水量设定值qwt，单位：t/h。例如：半自磨闭路磨矿系统给矿量设定值为qoref，单位：t/h，溢流产品矿浆浓度设定值为d，单位：％，则总水设定值qwt为：

总水设定值qwt是sabc磨矿工艺各个加水点加水量设定值的总和。本方法中要求sabc磨矿工艺有5个加水点，即半自磨闭路磨矿系统入料端(称为半自磨闭路磨矿系统前给水)、振动筛上(称为筛上水)、泵池(称为泵池补加水)、球磨机入料端(称为球磨机前给水)、球磨机排料端(称为球磨机排矿水)，各个点的加水量设定值为qsag、qscr、qsump、qbf、qbc，即：

qwt＝qsag+qscr+qsump+qbf+qbc

在实际生产中，sabc磨矿工艺的瞬时总加水量为各个加水点的瞬时加水量之和，即：

单位时间段tsabc内，总水设定值qwt与瞬时总加水量之差的绝对值＞设定范围δew时，即：

控制系统进行“总水控制不合格”的生产故障报警，并且降低半自磨闭路磨矿系统的给矿量设定值qoref至达到溢流产品矿浆浓度要求。

单位时间段tsabc内的总水设定值qwt与瞬时总加水量之差的绝对值小于设定范围δew时，即：

控制系统“总水控制合格”，此时进入第二水量调节机制。

本申请实施例提供的一种sabc磨矿的总水平衡控制方法，通过监测sabc磨矿工艺系统中各个加水点的瞬时加水量，并计算sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值；在sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值大于设定阈值范围时，控制报警设备报警，同时，按照设定的调节步长降低半自磨闭路磨矿的给矿量，直至所述差值在所述设定阈值范围内，以使溢流产品符合矿浆浓度要求。这样，通过监测sabc磨矿工艺系统的总水平衡状态，当总水不平衡时，通过启动报警机制以及调节半自磨闭路磨矿的给矿量实现总水平衡调节，从而提高整个sabc磨矿工艺系统的处理效率。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制方法中，所述方法还包括：

若监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述半自磨闭路磨矿系统的第一运行状态数据偏离第一设定值，则根据第一水量调节机制对所述半自磨闭路磨矿系统进行补加水调节。

具体实施方式中，若监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述半自磨闭路磨矿系统的第一运行状态数据偏离第一设定值，则根据所述半自磨闭路磨矿中各个加水点的加水量优先级信息，对所述半自磨闭路磨矿进行补加水调节；其中，所述半自磨闭路磨矿中三个加水点加水量优先级自高而低依次为半自磨闭路磨矿系统、振动筛和泵池。

本申请实施例中，半自磨闭路磨矿系统的第一运行状态数据后包括半自磨机的给矿量功率电流入料端压力出料端压力筒体振动特征和顽石实时产量顽石皮带电流振动筛电流等。

根据所述第一运行状态数据与所述第一运行状态数据的第一设定值的偏离状况，确定第二水量调节机制。第二水量调节机制包括半自磨机前给水、筛上水和泵池补加水调节，调节所述的半自磨机入料端、振动筛上、泵池三个点的加水量，三个点加水量的优先级自高而低为半自磨机入料端、振动筛上、泵池。

其中，上述在监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述半自磨闭路磨矿系统的第一运行状态数据偏离第一设定值时，对所述半自磨闭路磨矿系统进行补加水调节的第一水量调节机制如下：

如图3所示，第一水量调节机的第一种调节方式包括如下步骤：

s201、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述半自磨机的实际功率值和筒体实际振动特征值。

s202、若所述半自磨机的实际功率值小于设定功率值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续增大，则减少所述半自磨机的入料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

s203、若所述半自磨机的实际功率值大于所述设定功率值且所述筒体实际振动特征值在所述预设时间段内持续减小，则增加所述半自磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

结合步骤201至步骤203，半自磨机给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，监测半自磨机功率(即半自磨闭路磨矿系统的实际功率值)、筒体振动特征(即筒体实际振动特征值)和半自磨机设定功率powersag(即上述设定功率值)，当且不断增加，则减少qsag、增加qsump；其中，qsag的减少的加水量和qsump增加的加水量相同。当且不断降低，则增加qsag、减少qsump。其中，qsag的增加的加水量和qsump减少的加水量相同。其中，上述tsabc指的是sabc工艺的磨矿时间，即一批矿石从加入到半自磨机的时刻tfeed作为起始时刻，到从旋流器溢流出来的时刻toverflow为截止时刻，tsabc＝tfeed-toverflow。

如图4所示，第一水量调节机的第二种调节方式包括如下步骤：

s301、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述半自磨机的入料端的第一实际压力值和筒体实际振动特征值。

s302、若所述半自磨机的入料端的第一实际压力值大于第一设定压力值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续增大，则增加所述半自磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

s303、若所述半自磨机的入料端的第一实际压力值小于第一设定压力值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续减小，则减少所述半自磨机的入料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

结合步骤301至步骤302，第一水量调节机制的第二种调节方式：半自磨机给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，监测半自磨机入料端压力(即上述第一实际压力值)、筒体振动特征(即筒体实际振动特征值)和半自磨机入料端设定压力prefeed(即第一设定压力值)，当且不断增加，则增加qsag、减少qsump；其中，qsag的增加的加水量和qsump减少的加水量相同。当且不断减少，则减少qsag、增加qsump。其中，qsag的减少的加水量和qsump增加的加水量相同。

如图5所示，第一水量调节机的第三种调节方式包括如下步骤：

s401、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述半自磨机的出料端的第二实际压力值和筒体实际振动特征值。

s402、若所述半自磨机的出料端的第二实际压力值大于第二设定压力值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续增大，则增加所述半自磨机的出料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的出料端和所述泵池中调节的加水量相同。

s403、若所述半自磨机的出料端的第二实际压力值小于第二设定压力值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续增大，则减少所述半自磨机的出料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的出料端和所述泵池中调节的加水量相同。

结合步骤401至步骤403，第一水量调节机制的第三种调节方式：半自磨机给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，监测半自磨机的出料端压力(即第二实际压力值)、筒体振动特征(即筒体实际振动特征值)和半自磨机的出料端设定压力prechart(即第二设定压力值)，当且不断增加，则增加qsag、减少qsump；其中，qsag的增加的加水量和qsump减少的加水量相同。当且不断增加，则减少qsag、增加qsump。其中，qsag的减少的加水量和qsump增加的加水量相同。

如图6所示，第一水量调节机的第四种调节方式包括如下步骤：

s501、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述半自磨机的筒体实际振动特征值。

s502、若所述半自磨机的筒体实际振动特征值大于第一预设振动特征值，则增加所述半自磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

s503、若所述半自磨机的筒体实际振动特征值小于所述第一预设振动特征值，则减少所述半自磨机的入料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

结合步骤501至步骤503，第二水量调节机制的第四种调节方式：半自磨机给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，监测半自磨机筒体振动特征(即所述半自磨机的筒体实际振动特征值)和半自磨机筒体振动特征设定值vbrsag(即上述第一预设振动特征值)，当则增加qsag、减少qsump；其中，qsag的增加的加水量和qsump减少的加水量相同。当则减少qsag、增加qsump。其中，qsag的减少的加水量和qsump增加的加水量相同。

如图7所示，第一水量调节机的第五种调节方式包括如下步骤：

s601、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，预设时间段内顽石实时产量、顽石皮带电流值以及振动筛电流变化速率。

s602、若所述顽石实时产量的绝对值、所述顽石皮带电流值的绝对值以及所述振动筛电流变化速率的绝对值均持续增加，则增大所述振动筛的加水量，同时减小所述泵池中的加水量；其中，所述振动筛和所述泵池中调节的加水量相同。

s603、在增大所述振动筛的加水量，同时减小所述泵池中的加水量之后，若所述顽石实时产量的绝对值、顽石皮带电流值的绝对值以及所述振动筛电流变化速率的绝对值仍然持续增加，则生成用于提示用户更换振动筛的提示信息。

s604、若所述顽石实时产量的绝对值、顽石皮带电流值的绝对值以及所述振动筛电流变化速率的绝对值均持续减小，则减小所述振动筛的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述振动筛和所述泵池中调节的加水量相同。

结合步骤601至步骤604，第一水量调节机制的第五种调节方式：半自磨闭路磨矿系统给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，计算顽石实时产量顽石皮带电流振动筛电流的变化速率当当ε1、ε2、ε3的绝对值＞某一设定值且ε1、ε2、ε3的均持续为“+”，则系统判定为“通过率不足”，振动筛有堵塞的风险；当ε1、ε2、ε3的绝对值＞某一设定值且ε1、ε2、ε3的均持续为“-”，则系统判定为“通过率过量”，振动筛有磨损过大或者磨穿的风险；当ε1、ε2、ε3的绝对值＜某一设定值时，则系统判定为“通过率正常”。

当“通过率不足”的状态存在时，则增大振动筛上加水量qscr；由于保持qwt不变是首要原则，因此当增大qscr的同时、需要减少qsump，两者变化幅度相当。如增大振动筛上加水量qscr；仍不能改善“通过率不足”的状态，则需要更换振动筛。当“通过率过量”的状态存在时，则减少振动筛上加水量qscr；由于保持qwt不变是首要原则，因此当减少qscr的同时、需要增加qsump，两者变化幅度相当。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制方法中，所述方法还包括：

若监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述球磨机闭路sabc磨矿系统的第二运行状态数据偏离第二设定值，则根据第二水量调节机制对所述球磨机闭路sabc磨矿系统进行补加水调节。

若监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述球磨机闭路sabc磨矿系统的第二运行状态数据偏离所述第二设定值，则根据所述球磨机闭路sabc磨矿系统中各个加水点的加水量优先级信息，对所述球磨机闭路sabc磨矿工艺系统进行补加水调节；其中，所述半自磨闭路磨矿中三个加水点加水量优先级自高而低依次为所述球磨机的入料端、所述球磨机的排料端和泵池。

本申请实施例中，监测所述sabc磨矿工艺系统中的球磨闭路磨矿系统的第二运行状态数据，上述第二运行状态数据包括球磨机的功率电流旋流器给矿压力旋流器给矿浓度旋流器溢流浓度旋流器溢流粒度筒体振动特征

根据所述第二运行状态数据与所述第二运行状态数据的第二设定值的偏离状况，确定第二水量调节机制。第二水量调节机制包括泵池补加水、球磨机前给水、球磨机排矿水调节，调节所述的泵池、三个点的加水量，三个点加水量的优先级自高而低为球磨机入料端、球磨机排料端、泵池。

其中，上述在监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述球磨机闭路sabc磨矿系统的第二运行状态数据偏离第二设定值时，对所述球磨机闭路sabc磨矿系统进行补加水调节的第二水量调节机制如下：

如图8所示，第二水量调节机的第一种调节方式包括如下步骤：

s701、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述旋流器的给矿浓度值。

s702、若所述旋流器的给矿浓度大于预设给矿浓度值，则增加所述球磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

s703、若所述旋流器的给矿浓度小于预设给矿浓度值，则减少所述球磨机的入料端的加水量，同时，增加所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

结合步骤701至步骤703，第三水量调节机制的第一种可能方式是：半自磨机给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，监测旋流器给矿浓度(即上述旋流器的给矿浓度值)和旋流器给矿设定浓度dhycf(即上述预设给矿浓度值)，当则减小qsump、增加qbf；两者调整幅度相等；当则增加qsump、减小qbf；两者调整幅度相等。

如图9所示，第一水量调节机的第二种调节方式包括如下步骤：

s801、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，球磨机筒体的实际振动特征值。

s802、若所述球磨机筒体的实际振动特征值大于第二预设振动特征值，则增加球磨机入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

s803、若所述球磨机筒体的实际振动特征值小于第二预设振动特征值，则减少球磨机入料端的加水量且增加泵池的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

结合步骤801值步骤803，第二水量调节机制的第二种可能方式是：半自磨机给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，监测球磨机筒体振动特征(即球磨机筒体的实际振动特征值)和球磨机筒体振动特征允许值vbrball(即上述第二预设振动特征值)，当增加qbf、减小qsump；两者调整幅度相等；当减小qbf、增加qsump；两者调整幅度相等。

如图10所示，第二水量调节机的第三种调节方式包括如下步骤：

s901、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述旋流器的溢流浓度值。

s902、若所述旋流器的溢流浓度值大于预设溢流浓度值，则减小所述球磨机的入料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

s903、若所述旋流器的溢流浓度值小于预设溢流浓度值，则增加所述球磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

结合步骤901值步骤903，第二水量调节机制的第三种可能方式是：半自磨机给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，监测旋流器溢流浓度和旋流器溢流给定浓度dhyco，当则增加qsump、减小qbf，两者调整幅度相等；当则减少qsump、增加qbf，两者调整幅度相等。

如图11所示，第二水量调节机的第四种调节方式包括如下步骤：

s1001、监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述旋流器的溢流粒度值。

s1002、若所述旋流器的溢流粒度值大于预设溢流粒度值，则减少所述球磨机的入料端的加水量，同时增加所述球磨机的排料端的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述球磨机的排料端调节的加水量相同。

s1003、若所述旋流器的溢流粒度值大于所述预设溢流粒度值，则增加所述球磨机的入料端的加水量，同时减少所述球磨机的排料端的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述球磨机的排料端调节的加水量相同。

结合步骤1001值步骤1003，第二水量调节机制的第四种可能方式是：半自磨机给矿量稳定不变的条件下，在n*tsabc时间区间内(n的赋值根据sabc磨矿工艺实际状况进行选定)，监测旋流器溢流粒度和旋流器溢流给定粒度pshyco(即上述预设溢流粒度值)，当则减小qbf、增加qbc；两者调整幅度相等；当则增加qbf、减少qbc；两者调整幅度相等。

本申请实施例提供的一种sabc磨矿的总水平衡控制方法及装置，这样，通过监测sabc磨矿工艺系统的总水平衡状态，当总水不平衡时，通过启动报警机制、调节半自磨闭路磨矿的给矿量以及调节半自磨闭路磨矿和球磨机闭路sabc磨矿系统的给水量，实现总水平衡调节，从而提高整个sabc磨矿工艺系统的处理效率。

如图12所示，本申请实施例还提供了一种sabc磨矿的总水平衡控制装置，应用于sabc磨矿工艺系统，所述sabc磨矿工艺系统包括半自磨闭路磨矿系统、球磨机闭路sabc磨矿系统和报警设备；所述半自磨闭路磨矿包括半自磨闭路磨矿系统、振动筛和泵池；所述球磨机闭路sabc磨矿系统包括球磨机；所述半自磨闭路磨矿系统的入料端、所述振动筛、所述泵池、所述球磨机的入料端和排料端上均设置有加水点，所述装置包括：

监控模块10，用于监测所述sabc磨矿工艺系统中各个加水点的瞬时加水量；

计算模块20，用于计算所述sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值；其中，所述各个加水点的瞬时总加水量等于各个加水点的瞬时加水量的总和；

控制调节模块30，用于在所述sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值大于设定阈值范围时，控制所述报警设备报警，同时，按照设定的调节步长降低所述半自磨闭路磨矿的给矿量，直至所述差值在所述设定阈值范围内，以使溢流产品符合矿浆浓度要求。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，还用于在监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述半自磨闭路磨矿系统的第一运行状态数据偏离第一设定值时，根据第一水量调节机制对所述半自磨闭路磨矿系统进行补加水调节。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述半自磨机的实际功率值和筒体实际振动特征值；

若所述半自磨机的实际功率值小于设定功率值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续增大，则减少所述半自磨机的入料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同；

若所述半自磨机的实际功率值大于所述设定功率值且所述筒体实际振动特征值在所述预设时间段内持续减小，则增加所述半自磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述半自磨机的入料端的第一实际压力值和筒体实际振动特征值；

若所述半自磨机的入料端的第一实际压力值大于第一设定压力值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续增大，则增加所述半自磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同；

若所述半自磨机的入料端的第一实际压力值小于第一设定压力值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续减小，则减少所述半自磨机的入料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述半自磨机的出料端的第二实际压力值和筒体实际振动特征值；

若所述半自磨机的出料端的第二实际压力值大于第二设定压力值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续增大，则增加所述半自磨机的出料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的出料端和所述泵池中调节的加水量相同；

若所述半自磨机的出料端的第二实际压力值小于第二设定压力值且所述筒体实际振动特征值在预设时间段内持续增大，则减少所述半自磨机的出料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的出料端和所述泵池中调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述半自磨机的筒体实际振动特征值；

若所述半自磨机的筒体实际振动特征值大于第一预设振动特征值，则增加所述半自磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同；

若所述半自磨机的筒体实际振动特征值小于所述第一预设振动特征值，则减少所述半自磨机的入料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述半自磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，预设时间段内所述顽石实时产量、所述顽石皮带电流值以及振动筛电流变化速率；

若所述顽石实时产量的绝对值、所述顽石皮带电流值的绝对值以及所述振动筛电流变化速率的绝对值均持续增加，则增大所述振动筛的加水量，同时减小所述泵池中的加水量；其中，所述振动筛和所述泵池中调节的加水量相同；

在增大所述振动筛的加水量，同时减小所述泵池中的加水量之后，若所述顽石实时产量的绝对值、顽石皮带电流值的绝对值以及所述振动筛电流变化速率的绝对值仍然持续增加，则生成用于提示用户更换振动筛的提示信息；

若所述顽石实时产量的绝对值、顽石皮带电流值的绝对值以及所述振动筛电流变化速率的绝对值均持续减小，则减小所述振动筛的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述振动筛和所述泵池中调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

若监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述半自磨闭路磨矿系统的第一运行状态数据偏离第一设定值，则根据所述半自磨闭路磨矿中各个加水点的加水量优先级信息，对所述半自磨闭路磨矿进行补加水调节；其中，所述半自磨闭路磨矿中三个加水点加水量优先级自高而低依次为半自磨机、振动筛和泵池。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，还用于：

若监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述球磨机闭路sabc磨矿系统的第二运行状态数据偏离第二设定值，则根据第二水量调节机制对所述球磨机闭路sabc磨矿系统进行补加水调节。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述旋流器的给矿浓度值；

若所述旋流器的给矿浓度大于预设给矿浓度值，则增加所述球磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同；

若所述旋流器的给矿浓度小于预设给矿浓度值，则减少所述球磨机的入料端的加水量，同时，增加所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，球磨机筒体的实际振动特征值；

若所述球磨机筒体的实际振动特征值大于第二预设振动特征值，则增加球磨机入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同；

若所述球磨机筒体的实际振动特征值小于第二预设振动特征值，则减少球磨机入料端的加水量且增加泵池的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述旋流器的溢流浓度值；

若所述旋流器的溢流浓度值大于预设溢流浓度值，则减小所述球磨机的入料端的加水量，同时增加所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同；

若所述旋流器的溢流浓度值小于预设溢流浓度值，则增加所述球磨机的入料端的加水量，同时减少所述泵池中的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述泵池中调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

监测在所述半自磨机的预设给矿量条件下，所述旋流器的溢流粒度值；

若所述旋流器的溢流粒度值大于溢流粒度值，则减少所述球磨机的入料端的加水量，同时增加所述球磨机的排料端的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述球磨机的排料端调节的加水量相同；

若所述旋流器的溢流粒度值大于溢流粒度值，则增加所述球磨机的入料端的加水量，同时减少所述球磨机的排料端的加水量；其中，所述球磨机的入料端和所述球磨机的排料端调节的加水量相同。

进一步的，本申请实施例提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置，控制调节模块30，具体用于：

若监测到所述sabc磨矿工艺系统中所述球磨机闭路sabc磨矿系统的第二运行状态数据偏离所述第二设定值，则根据所述球磨机闭路sabc磨矿系统中各个加水点的加水量优先级信息，对所述球磨机闭路sabc磨矿工艺系统进行补加水调节；其中，所述半自磨闭路磨矿中三个加水点加水量优先级自高而低依次为所述球磨机的入料端、所述球磨机的排料端和泵池。

本申请实施例提供的一种sabc磨矿的总水平衡控制装置，通过监测sabc磨矿工艺系统中各个加水点的瞬时加水量，并计算sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值；在sabc磨矿工艺系统中总水设定值与各个加水点的瞬时总加水量的差值大于设定阈值范围时，控制报警设备报警，同时，按照设定的调节步长降低半自磨闭路磨矿的给矿量，直至所述差值在所述设定阈值范围内，以使溢流产品符合矿浆浓度要求。这样，通过监测sabc磨矿工艺系统的总水平衡状态，当总水不平衡时，通过启动报警机制以及调节半自磨闭路磨矿的给矿量实现总水平衡调节，从而提高整个sabc磨矿工艺系统的处理效率。

图13为本申请一实施例提供的计算机设备40的结构示意图，如图13所示，用于执行上述sabc磨矿的总水平衡控制方法，该设备包括存储器401、处理器402及存储在该存储器401上并可在该处理器402上运行的计算机程序，其中，上述处理器402执行上述计算机程序时实现上述sabc磨矿的总水平衡控制方法的步骤。

具体地，上述存储器401和处理器402能够为通用的存储器和处理器，这里不做具体限定，当处理器402运行存储器401存储的计算机程序时，能够执行上述sabc磨矿的总水平衡控制方法。

对应于上述sabc磨矿的总水平衡控制方法，本申请实施例还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器运行时执行上述sabc磨矿的总水平衡控制方法的步骤。

具体地，该存储介质能够为通用的存储介质，如移动磁盘、硬盘等，该存储介质上的计算机程序被运行时，能够执行上述sabc磨矿的总水平衡控制方法。

本申请实施例所提供的sabc磨矿的总水平衡控制装置可以为设备上的特定硬件或者安装于设备上的软件或固件等。本申请实施例所提供的装置，其实现原理及产生的技术效果和前述方法实施例相同，为简要描述，装置实施例部分未提及之处，可参考前述方法实施例中相应内容。所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，前述描述的系统、装置和单元的具体工作过程，均可以参考上述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。

在本申请所提供的实施例中，应该理解到，所揭露装置和方法，可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，又例如，多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些通信接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本申请提供的实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。

所述功能如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本申请的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机，服务器，或者网络设备等)执行本申请各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：u盘、移动硬盘、只读存储器(rom，read-onlymemory)、随机存取存储器(ram，randomaccessmemory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释，此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

最后应说明的是：以上所述实施例，仅为本申请的具体实施方式，用以说明本申请的技术方案，而非对其限制，本申请的保护范围并不局限于此，尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改或可轻易想到变化，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改、变化或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请实施例技术方案的精神和范围。都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。