低汞触媒制备装置的制作方法

本实用新型涉及低汞触媒制备设备领域，尤其涉及一种低汞触媒制备装置。

背景技术：

目前低汞触媒浸泡罐都是一个大的容纳罐，将低汞触媒填充进去之后静止加热浸泡，但是浸泡过程中会存在一个问题就是氯化汞溶液会出现分层现象，导致浸泡得到的低汞触媒存在质量差别过大的情况，影响使用效果。

另一方面浸泡得到的低汞触媒之前都是直接转移到阴凉处阴干，期间低汞触媒携带走一部分没有被吸附的氯化汞溶液，造成一定的损失和污染。

技术实现要素：

针对现有技术的不足，本实用新型提供一种低汞触媒制备装置，中间设置有回收循环装置，从下面再输入氯化汞溶液，从而保证在整个浸泡过程中，氯化汞的均匀度，并且提高吸附效率，得到高质量的低汞触媒，同时将低汞触媒和氯化汞溶液固液分离，回收一部分氯化汞溶液。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种低汞触媒制备装置，包括浸泡罐、溶液罐、循环装置、固液分离装置，浸泡罐两侧设置有溶液罐，循环装置将浸泡罐内部与溶液罐连通，固液分离装置与浸泡罐的下开口连通，循环装置包括引流管、分支管、分流装置、回流管、漏水孔、循环泵，两个分流装置设置在浸泡罐内部，一个分流装置设置在浸泡罐上部，且另一个分流装置设置在浸泡罐中间，分流装置包括弯折管和直管，弯折管和直管上设置有漏水孔，直管的两侧对称设置有弯折管，弯折管的一端与直管的一端连通，且向远离直管方向延伸至靠近浸泡罐内部后，向直管方向

弯折，然后继续延伸至于直管另一端连通，分流装置的两端分别通过分支管与浸泡罐两侧的引流管连通，引流管的另一端设置在溶液罐中，且靠近溶液罐底面，回流管设置在浸泡罐的底部，且与溶液罐连通，循环泵设置在分支管上，使得溶液罐中的溶液被泵入到分流装置中，溶液从回流管再回到溶液罐中，固液分离装置包括入料口、箱体、履带、出料口、集液口、集液腔、出液管，箱体上部开设有入料口，且下部设置有出料口和集液口，箱体的底面为倾斜面，且最低端设置有集液口，箱体内设置有向下倾斜的履带，履带低的一端与入料口相对应，且高的一端与出料口相对应，入料口与浸泡罐的下开口连通，集液口下端设置有集液腔，集液腔通过出液管与溶液罐连通。

最优的，所述固液分离装置还包括物料刷，物料刷设置在出料口上，物料刷一端与箱体底端固定连接，且毛刷端与履带下部回转部分接触，将履带上的物料扫入出料口。

最优的，还包括加热装置，加热装置包括锅炉、热气通道、进气管、出气管、气体循环泵、调节管，所述浸泡罐为双层外壁结构，且夹层中设置有螺旋向上的热气通道，锅炉通过进气管与热气通道的底端入口连通，热气通道的上端出口通过出气管与锅炉连通，浸泡罐的一侧设置有进气管和出气管，且相对的另一侧设置有调节管，调节管的一端与热气通道的底部连通，且另一端与热气通道的中部连通，调节管上设置有气体循环泵，使得热气通道底部的热气直接到达热气通道的中部。

最优的，所述弯折管和直管的下半部分均匀设置有至少两排漏水孔，所述直管中设置有挡板，挡板与直管内壁固定连接且留有过水缝隙，使得直管中的过水路径变成折返路径，折返路径长度与弯折管内路径长度一致。

由上述技术方案可知，本实用新型提供的低汞触媒制备装置，设置有循环

装置，且在浸泡罐中设置有分流管道，使得氯化汞溶液流动起来，一方面保证氯化汞的均匀度，另一方面加快活性炭吸附氯化汞的速率。然后浸泡罐连接分离罐，将低汞触媒与氯化汞溶液分离，全部回收没有被吸附的氯化汞溶液，加快后续阴干效率。

附图说明

附图 1 是低汞触媒制备装置的结构示意图。

附图 2 是低汞触媒制备装置的浸泡罐的俯视图。

附图 3 是低汞触媒制备装置的浸泡罐另一个角度的剖视图。

图中：浸泡罐 10、溶液罐 20、循环装置 30、引流管 31、分支管 32、分流装置 33、弯折管 330、直管 331、回流管 34、循环泵 35、固液分离装置 40、入料口 41、箱体 42、履带 43、出料口 44、集液口 45、集液腔 46、出液管 47、物料刷 48、加热装置 50、锅炉 51、热气通道 52、进气管 53、出气管 54、气体循环泵 55、调节管 56。

具体实施方式

结合本实用新型的附图，对实用新型实施例的技术方案做进一步的详细阐述。

参照附图 1 所示，一种低汞触媒制备装置，包括浸泡罐 10、溶液罐 20、循环装置 30、固液分离装置 40，浸泡罐 10 两侧设置有溶液罐 20，循环装置 30 将浸泡罐 10 内部与溶液罐 20 连通，固液分离装置 40 与浸泡罐 10 的下开口连通。

循环装置 30 包括引流管 31、分支管 32、分流装置 33、回流管 34、漏水孔、循环泵 35，两个分流装置 33 设置在浸泡罐 10 内部，一个分流装置 33 设置在浸泡罐 10 上部，且另一个分流装置 33 设置在浸泡罐 10 中间，分流装置 33 包括弯折管 330 和直管 331，弯折管 330 和直管 331 上设置有漏水孔，直管 331 的两侧对称设置有弯折管 330，弯折管 330 的一端与直管 331 的一端连通，且向远离直管 331 方向延伸至靠近浸泡罐 10 内部后，向直管 331 方向弯折，然后继续延伸至于直管 331 另一端连通，弯折管 330 和直管 331 的下半部分均匀设置有至少两排漏水孔，所述直管 331 中设置有挡板，挡板与直管 331 内壁固定连接且留有过水缝隙，使得直管 331 中的过水路径变成折返路径，折返路径长度与弯折管 330 内路径长度一致。分流装置 33 的两端分别通过分支管 32 与浸泡罐 10 两侧的引流管 31 连通，引流管 31 的另一端设置在溶液罐 20 中，且靠近溶液罐20 底面，回流管 34 设置在浸泡罐 10 的底部，且与溶液罐 20 连通，循环泵 35 设置在分支管 32 上，使得溶液罐 20 中的溶液被泵入到分流装置 33 中，溶液从回流管 34 再回到溶液罐 20 中。

固液分离装置 40 包括入料口 41、箱体 42、履带 43、出料口 44、集液口 45、集液腔 46、出液管 47、物料刷 48，箱体 42 上部开设有入料口 41，且下部设置有出料口 44 和集液口 45，箱体 42 的底面为倾斜面，且最低端设置有集液口 45，箱体 42 内设置有向下倾斜的履带 43，履带 43 低的一端与入料口 41 相对应，且高的一端与出料口44 相对应，物料刷 48 设置在出料口 44 上，物料刷 48 一端与箱体 42 底端固定连接，且毛刷端与履带 43 下部回转部分接触，将履带 43 上的物料扫入出料口 44，入料口 41 与浸泡罐 10 的下开口连通，集液口 45 下端设置有集液腔 46，集液腔 46 通过出液管 47 与溶液罐 20 连通。

参照附图 2 和附图 3 所示，加热装置 50 包括锅炉 51、热气通道 52、进气管 53、出气管 54、气体循环泵 55、调节管 56，所述浸泡罐 10 为双层外壁结构，且夹层中设置有螺旋向上的热气通道 52，锅炉 51 通过进气管 53 与热气通道 52 的底端入口连通，热气通道 52 的上端出口通过出气管 54 与锅炉 51 连通，浸泡罐 10 的一侧设置有进气管 53 和出气管 54，且相对的另一侧设置有调节管 56，调节管 56 的一端与热气通道 52 的底部连通，且另一端与热气通道 52 的中部连通，调节管 56 上设置有气体循环泵 55，使得热气通道 52 底部的热气直接到达热气通道 52 的中部。

本实用新型提供的低汞触媒制备装置，设置有循环装置30，且在浸泡罐 10 中设置有分流管道，使得氯化汞溶液流动起来，一方面保证氯化汞的均匀度，另一方面加快活性炭吸附氯化汞的速率。加热装置 50 使得浸泡罐 10 的受热更均匀，不存在上下温差过大的情况。然后浸泡罐 10 连接分离罐，将低汞触媒与氯化汞溶液分离，全部回收没有被吸附的氯化汞溶液，加快后续阴干效率。