涂膜的形成方法与流程

文档序号:25998347发布日期:2021-07-23 21:13阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种涂膜的形成方法,其中,

所述涂膜的形成方法包括:将含有溶剂a、溶剂b及聚合物c的液体组合物i涂布于皮肤的工序,

该溶剂a的沸点低于99℃,该溶剂a的由下述式(1)所表示的相对于水的汉森溶解度参数的距离ra为36以下,

该溶剂b的沸点为150℃以上,该溶剂b的由下述式(1)所表示的相对于水的汉森溶解度参数的距离ra为40以上,

该溶剂b与该溶剂a相溶,且该聚合物c可溶于该溶剂a但不溶于该溶剂b,

ra=(4×δd2+δp2+δh2)0.5(1)

δd:汉森溶解度参数中的色散分量的溶剂与水的差;

δp:汉森溶解度参数中的偶极分量的溶剂与水的差;

δh:汉森溶解度参数中的氢键分量的溶剂与水的差。

2.根据权利要求1所述的涂膜的形成方法,其中,

进一步包括:向皮肤上的液体组合物i赋予含有水的液体ii的液滴的工序。

3.根据权利要求2所述的涂膜的形成方法,其中,

含有水的液体ii中的水的含量为50质量%以上。

4.根据权利要求2或3所述的涂膜的形成方法,其中,

液滴的赋予方法为使用雾化装置喷雾液滴的方法。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

溶剂a为选自乙醇、丙醇、异丙醇、叔丁醇中的至少一种。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

溶剂b包含50质量%以上的选自烃及硅油中的至少一种,该烃及硅油的重均分子量为150以上且1,000以下。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

聚合物c为离子性聚合物。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

聚合物c包含选自具有酸性基团的单体、具有碱性基团的单体、及甜菜碱单体中的至少一种作为单体结构单元。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

聚合物c含有:包含源自具有酸性基团的单体的结构单元的阴离子性聚合物ci;和选自包含源自具有碱性基团的单体的结构单元的阳离子性聚合物cii-1、阳离子性有机硅聚合物cii-2、及包含源自甜菜碱单体的结构单元的甜菜碱聚合物ciii中的至少一种。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

聚合物c含有:包含源自具有酸性基团的单体的结构单元的阴离子性聚合物ci;和包含源自甜菜碱单体的结构单元的甜菜碱聚合物ciii。

11.根据权利要求8~10中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

甜菜碱单体为选自羧基甜菜碱单体、磺基甜菜碱单体及磷酸甜菜碱单体中的至少一种。

12.根据权利要求1~11中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,液体组合物i的20℃时的粘度为1mpa·s以上且300mpa·s以下。

13.根据权利要求1~12中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

所形成的涂膜包含由聚合物c形成的一次颗粒,该一次颗粒的平均粒径为0.1μm以上且5μm以下。

14.根据权利要求1~13中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

所述涂膜为化妆涂膜。

15.根据权利要求1~14中任一项所述的涂膜的形成方法,其中,

所述涂膜为用于保护皮肤的涂膜。


技术总结
本发明涉及一种涂膜的形成方法,包括:将含有溶剂A、溶剂B及聚合物C的液体组合物I涂布于皮肤的工序,其中,该溶剂A的沸点低于99℃,该溶剂A相对于水的汉森溶解度参数的距离Ra为36以下,该溶剂B的沸点为150℃以上,该溶剂B相对于水的汉森溶解度参数的距离Ra为40以上,该溶剂B与该溶剂A相溶,且该聚合物C可溶于该溶剂A但不溶于该溶剂B。

技术研发人员:福田辉幸
受保护的技术使用者:花王株式会社
技术研发日:2019.11.22
技术公布日:2021.07.23
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