氯化石蜡生产用冷却吸收塔的制作方法

文档序号:8328662阅读:387来源:国知局
氯化石蜡生产用冷却吸收塔的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔,属于石蜡加工设备领域。
【背景技术】
[0002]氯化石蜡的制备方法目前包括热氯化法、催化法和光催化法三种。上述三种方法,当氯气与石蜡在反应塔中反应后,将会产生2%?10%未反应的氯气,这些氯气需要在后续的工艺过程中进行处理和吸收,在处理和吸收的过程中需要大量的吸收液,然而,由于吸收塔内吸收液分布不合理,造成吸收液没有充分利用,加长利用泵进行吸收液循环的时间,造成能源浪费。

【发明内容】

[0003]本发明的目的是提供一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔。
[0004]一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔,所述吸收塔包括塔体,通过设有塔内的至少一个隔板将塔体分为若干腔体,在每个腔体的上方设有喷淋总管,所述喷淋总管上设有若干喷嘴;所述隔板上设有若干通孔,且在隔板上覆盖气液分离膜;每个腔体所在塔体的侧壁均设有液体排出口。
[0005]本发明所述氯化石蜡生产用冷却吸收塔优选所述吸收塔包括塔体,通过设有塔内的至少两个隔板将塔体分为若干腔体。
[0006]本发明所述氯化石蜡生产用冷却吸收塔优选所述喷淋总管连接喷淋液入口管。
[0007]本发明所述氯化石蜡生产用冷却吸收塔优选所述塔体的下部设有气体入口。
[0008]本发明所述氯化石蜡生产用冷却吸收塔优选所述塔体的底部设有卸料口。
[0009]本发明所述氯化石蜡生产用冷却吸收塔优选所述塔体的顶部设有气体出口。
[0010]本发明一个优选的技术方案为:
[0011]一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔,所述吸收塔包括塔体,通过设有塔内的至少两个隔板将塔体分为若干腔体。在每个腔体的上方设有喷淋总管,所述喷淋总管上设有若干喷嘴;所述隔板上设有若干通孔,且在隔板上覆盖气液分离膜;每个腔体所在塔体的侧壁均设有液体排出口。
[0012]本发明的有益效果:本发明提供一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔,该吸收塔通过设有塔内的至少一个隔板将塔体分为若干腔体,在每个腔体的上方设有喷淋总管,所述喷淋总管上设有若干喷嘴;所述隔板上设有若干通孔,且在隔板上覆盖气液分离膜。本发明通过隔板将吸收塔分为若干空腔使得吸收塔内吸收液合理分布,同时在隔板上设有气液分离膜,使得充分利用的吸收液可及时排出吸收塔,节省了能源消耗。
【附图说明】
[0013]图1为一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔的示意图。
【具体实施方式】
[0014]下述非限制性实施例可以使本领域的普通技术人员更全面地理解本发明,但不以任何方式限制本发明。
[0015]实施例1
[0016]一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔,所述吸收塔包括塔体1,通过设有塔内的两个隔板2将塔体I分为三个腔体,在每个腔体的上方设有喷淋总管7,所述喷淋总管7上设有若干喷嘴4 ;所述隔板2上设有若干通孔,且在隔板2上覆盖气液分离膜3 ;每个腔体所在塔体I的侧壁均设有液体排出口 5。所述喷淋总管连接喷淋液入口管6。所述塔体I的下部设有气体入口 9。所述塔体I的底部设有卸料口 10。所述塔体I的顶部设有气体出口 8。
【主权项】
1.一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔,其特征在于:所述吸收塔包括塔体(I),通过设有塔内的至少一个隔板(2)将塔体(I)分为若干腔体,在每个腔体的上方设有喷淋总管(7),所述喷淋总管(7)上设有若干喷嘴(4);所述隔板(2)上设有若干通孔,且在隔板(2)上覆盖气液分离膜(3);每个腔体所在塔体(I)的侧壁均设有液体排出口(5)。
2.根据权利要求1所述的吸收塔,其特征在于:所述吸收塔包括塔体(I),通过设有塔内的至少两个隔板(2)将塔体(I)分为若干腔体。
3.根据权利要求1所述的吸收塔,其特征在于:所述喷淋总管连接喷淋液入口管(6)。
4.根据权利要求1所述的吸收塔,其特征在于:所述塔体(I)的下部设有气体入口(9)。
5.根据权利要求1所述的吸收塔,其特征在于:所述塔体(I)的底部设有卸料口(10)。
6.根据权利要求1所述的吸收塔,其特征在于:所述塔体(I)的顶部设有气体出口(8)。
【专利摘要】本发明涉及一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔,属于石蜡加工设备领域。本发明提供一种氯化石蜡生产用冷却吸收塔,该吸收塔通过设有塔内的至少一个隔板将塔体分为若干腔体,在每个腔体的上方设有喷淋总管,所述喷淋总管上设有若干喷嘴;所述隔板上设有若干通孔,且在隔板上覆盖气液分离膜。本发明通过隔板将吸收塔分为若干空腔使得吸收塔内吸收液合理分布,同时在隔板上设有气液分离膜,使得充分利用的吸收液可及时排出吸收塔,节省了能源消耗。
【IPC分类】B01D53-18
【公开号】CN104645788
【申请号】CN201310604234
【发明人】刘新涛, 姜维喜, 陈剑英, 卞福香, 穆道旭
【申请人】大连隆星新材料有限公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2013年11月22日
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