涂敷装置以及涂敷方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种涂敷装置以及涂敷方法，所述涂敷装置以及涂敷方法在构成通过连结部来连结喷嘴与固化机构的涂膜形成单元的情况下，能够适当确保喷嘴的行进速度(涂敷处理速度)而进行适当的涂敷处理，同时能够适当进行固化处理开始时刻的调整，另外也能够适当进行固化处理速度(固化处理时间)的调整。
【背景技术】
[0002]以往，已知有利用从喷嘴喷出的涂液对载置于工作台(平台)的基板进行涂敷的基板的涂敷装置(例如称为工作台涂敷机(日本注册商标)等)，其中的喷嘴被升降自如地支承在沿着喷嘴用行进导轨行进的喷嘴用支承柱上。作为在这种涂敷装置中具备用于使涂敷于基板的涂液固化的固化机构的涂敷装置，已知有专利文献1?3。
[0003]专利文献1的“图案形成方法以及图案形成装置”从喷出喷嘴前端的喷出口朝向基板喷出涂敷液，并且对刚刚涂敷于基板上的涂敷液从第一照射光源照射波长365nm的UV光。由此使涂敷液的表面固化。接着，从第二照射光源对刚才受到UV光照射的涂敷液照射更长波长(例如为385nm或395nm)的UV光。由于长波长的光进一步浸透至涂敷液的内部，因此促进内部的固化。照射光源经由头部的基底与注射器泵而与喷出喷嘴相连结。
[0004]专利文献2的“狭缝涂装式涂敷装置”具备保持基板的保持工作台和涂敷头，所述涂敷头与所述基板的被所述保持工作台保持的保持面相反一侧的涂敷面相对置且设有供液体流出的狭缝状的喷嘴开口，通过使所述基板与所述涂敷头在所述涂敷面的面方向上相对移动而向所述基板的所述涂敷面涂敷液体，所述狭缝涂装式涂敷装置设有加热机构，一边利用所述涂敷头向所述基板涂敷液体，一边利用加热机构对刚刚涂敷于该基板上的液体进行加热。
[0005]专利文献3涉及一种“薄膜形成装置以及薄膜形成方法”，其中的薄膜形成装置具备:对涂敷对象物进行吸附保持的吸附工作台；从喷墨式喷嘴向吸附保持于吸附工作台的涂敷对象物的表面喷出涂敷材料并且进行薄膜形成的多个涂敷头；以及使涂敷头在涂敷对象物的上方位置处移动的门架，在门架上还具备对涂敷对象物的表面进行加热的热源装置。热源装置经由门架与涂敷头连结起来。
[0006]在上述所有专利文献中，皆将使涂液固化、或加热液体或涂敷对象物的表面的照射光源、加热机构、热源装置以及排出喷嘴等隔着规定间隔连结固定。
[0007]专利文献1:日本特开2012-143691号公报
[0008]专利文献2:日本特开2005-218969号公报
[0009]专利文献3:日本特开2013-000656号公报
[0010]与上述专利文献相同，如图8所示，当由喷出涂液e进行涂敷处理的喷嘴f、照射UV光i等而对涂液e进行固化处理的固化机构g、以及将这些固化机构g与喷嘴f隔着恒定的间隔(图中，间隔LX:不变)连结固定的连结部h构成为了在载置于工作台a上的基板b处形成涂膜c而行进移动的涂膜形成单元d时，第一，无法对固化机构g与喷嘴f的间隔LX进行变更调整。
[0011]当间隔LX恒定不变时，来自喷嘴f的涂液喷出时刻与固化机构g到达至在该时刻喷出的涂液e的位置而开始固化处理的固化处理开始时刻的时间间隔是根据涂膜形成单元d的行进速度VX(喷嘴f以及固化机构g的移动速度也相同)而决定的恒定的时间(间隔LX/行进速度VX)。
[0012]涂膜形成单元d的行进速度VX通常基于涂敷处理而设定。关于涂敷处理，例如根据涂液e的种类(粘度、材质等)、膜厚等条件而具有优选的涂敷处理速度(行进速度VX)。另一方面，关于固化处理，与涂敷处理相同地，例如根据涂液e的种类、膜厚等条件而具有开始涂敷后的涂液e的固化处理的优选的固化处理开始时机。
[0013]当喷嘴f与固化机构g通过连结部h来连结且它们的间隔LX恒定不变时，如上所述从涂液喷出时刻到固化处理开始时刻的时间间隔由行进速度VX决定，因此，当以优先涂敷处理的行进速度VX来进行固化处理时，存在有固化处理开始时刻过早或过迟从而无法在恰当的固化处理开始时刻开始固化处理、进而无法适当地进行固化处理这样的问题。
[0014]与之相反，当优先固化处理而设定为与能够适当进行固化处理的时间间隔相适的行进速度VX时，需要根据基于固化处理的行进速度VX而从喷嘴f喷出涂液e，从而存在有喷出量等的控制变得繁琐、并且无法适当地进行涂敷处理这样的问题。
[0015]第二，喷嘴f的移动速度与固化机构g的移动速度成为相同速度VX，无法对涂敷处理速度与固化处理速度进行变更调整。关于涂敷处理，如上所述地具有优选的涂敷处理速度。另一方面，关于固化处理也同样地根据涂液的种类、膜厚等而具有优选的固化处理速度。
[0016]当单位时间内的固化处理能量恒定时，在固化处理速度较迟的情况下，固化处理时间变长，从而对涂液e施加的固化处理能量变大，在固化处理速度较快的情况下，固化处理时间变短从而固化处理能量变小。
[0017]当优先涂敷处理而设定移动速度(涂膜形成单元的行进速度VX)时，由于固化机构g只能以相同的速度移动，因此无法适当地确保固化处理速度(固化处理时间)，存在有固化处理能量变得过多或不足而无法适当地进行固化处理这样的问题。与之相反，当优先固化处理时，与第一情况同样地存在有无法适当地进行涂敷处理这样的问题。
[0018]综上所述，在将固化机构g与喷嘴f通过连结部h隔着恒定不变的间隔LX进行连结固定的涂膜形成单元d中，存在难以形成膜厚、膜质等均匀且品质较高的涂膜这样的课题。
【发明内容】
[0019]【发明要解决的课题】
[0020]本发明是鉴于上述以往的课题而作出的，其目的在于提供一种涂敷装置以及涂敷方法，该涂敷装置以及涂敷方法在构成通过连结部连结喷嘴与固化机构的涂膜形成单元的情况下，能够适当地确保喷嘴的行进速度(涂敷处理速度)而进行适当的涂敷处理，同时能够适当地进行固化处理开始时刻的调整，另外也能够适当地进行固化处理速度(固化处理时间)的调整。
[0021]【用于解决课题的方案】
[0022]本发明所涉及的涂敷装置使喷出涂液的喷嘴与使涂液固化的固化机构经由连结部连结而成的涂膜形成单元沿基板的长度方向行进移动，在利用该喷嘴对基板进行涂敷处理之后，利用该固化机构对涂敷于基板的涂液进行固化处理，所述涂敷装置的特征在于，在所述连结部具备对所述喷嘴与所述固化机构的水平方向间隔进行调整的调整机构。
[0023]所述涂敷装置的特征在于，所述调整机构具备用于使所述固化机构相对于所述喷嘴进行相对移动的驱动机构。
[0024]所述涂敷装置的特征在于，所述调整机构是使所述固化机构能够沿着基板的长度方向滑动的滑动机构。
[0025]所述涂敷装置的特征在于，所述调整机构是使所述固化机构能够沿着基板面回旋的回旋机构。
[0026]所述涂敷装置的特征在于，所述固化机构在基板的宽度方向上排列多个，所述连结部为了将这些固化机构独立地与所述喷嘴连结而设有多个。
[0027]本发明所涉及的涂敷方法的特征在于，该涂敷方法使用具备上述调整机构的涂敷装置，在利用所述调整机构设定所述喷嘴与所述固化机构的水平方向间隔之后，使所述涂膜形成单元行进移动，进行利用该喷嘴的涂敷处理与利用该固化机构的固化处理。
[0028]本发明所涉及的涂敷方法的特征在于，该涂敷方法使用具备具有上述驱动机构的调整机构的涂敷装置，在使所述涂膜形成单元行进移动而进行利用所述喷嘴的涂敷处理时,一边通过所述驱动机构使所述固化机构相对于该喷嘴相对移动,一边进行固化处理。
[0029]【发明效果】
[0030]在本发明所涉及的涂敷装置以及涂敷方法中，在构成通过连结部连结喷嘴与固化机构而成的涂膜形成单元的情况下，能够适当地确保喷嘴的行进速度(涂敷处理速度)而进行适当的涂敷处理，同时能够适当地进行固化处理开始时刻的调整，另外也能够适当地进行固化处理速度(固化处理时间)的调整。
【附图说明】
[0031]图1是表示本发明的涂敷装置的第一实施方式的立体图。
[0032]图2是图1所示的涂敷装置的俯视图。
[0033]图3是表示利用图1所示的涂敷装置在基板上形成涂膜的状态的侧视图。
[0034]图4是说明本发明的涂敷方法的优选实施方式的概略说明图。
[0035]图5是表示第一实施方式的变形例的涂敷装置的俯视图。
[0036]图6是表示本发明的涂敷装置的第二实施方式的俯视图。
[0037]图7是图6中的A方向向视局部放大图。
[0038]图8是说明【背景技术】的说明图。
[0039]符号说明
[0040]1涂敷装置
[0041]2 基板
[0042]2a涂敷始端
[0043]2b涂敷终端
[0044]3工作台
[0045]4 基台
[0046]5行进导轨
[0047]6涂膜形成单元
[0048]7行进体
[0049]7a 柱部
[0050]7b 梁部
[0051]7c前进行进方向前表面
[0052]7d升降用狭缝
[0053]7e前进行进方向后表面
[0054]8 喷嘴