喷雾塔支架的制作方法

文档序号:8987189阅读:170来源:国知局
喷雾塔支架的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种喷雾塔支架。
【背景技术】
[0002]目前,喷雾塔一般是上方直接连接喷料口的管道,下方直接连接收集出料的装置,而喷雾塔内由于喷射产生各种喷射的冲力,喷雾塔在各种冲力的作用下会产生偏离,喷雾塔与喷料口的管道的连接以及与收集出料的装置的连接产生松动偏移,影响工作效率。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的是为了克服以上的不足,提供一种功能实用,制作成本低、结构简单的喷雾塔支架。
[0004]本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:一种喷雾塔支架,所述喷雾塔支架包括固定圈和至少两个固定柱,固定圈上连接唆雾塔,固定圈包括后弧、左弧和右弧,后弧、左弧和右弧的厚度不便,根据喷雾塔的形状内径逐步减小,后弧通过固定旋转件与左弧、右弧连接,左弧上连接有左固定枝,左固定枝上连接有上固定圈,右弧上连接有右固定枝,右固定枝上连接有下固定圈,上固定圈与下固定圈之间设有固定销。
[0005]本实用新型的进一步改进在于:所述固定销为T字形。
[0006]本实用新型的进一步改进在于:所述上固定圈的内径外径与下固定圈的内径外径均相等。
[0007]本实用新型与现有技术相比具有以下优点:
[0008]本实用新型整体结构简单,制作成本低,功能实用,操作方便;本实用新型后弧、左弧和右弧的厚度不便,根据喷雾塔的形状内径逐步减小,能够使得固定圈对喷雾塔的固定更加的有效方便,增强了本实用新型的实用性;本实用新型上后弧通过固定旋转件与左弧、右弧连接,左弧与右弧可以自由转动,方便对喷雾塔进行拆解检修;本实用新型上固定圈与下固定圈之间设有固定销,固定销为T字形,方便固定销的固定取出,提高了工作效率。
[0009]【附图说明】:
[0010]图1为本实用新型的结构示意图;
[0011]图2为固定圈的结构示意图;
[0012]图3为固定圈的侧视图;
[0013]图中标号:1_固定柱、2_固定圈、3_喷雾塔、4_后弧、5_左弧、6_右弧、7_固定旋转件、8-左固定枝、9-右固定枝、10-上固定圈、11-下固定圈、12-固定销。
[0014]【具体实施方式】:
[0015]为了加深对本实用新型的理解,下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步详述,该实施例仅用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型保护范围的限定。
[0016]如图1至图3示出了本实用新型喷雾塔支架的一种实施方式,一种喷雾塔支架包括固定圈2和至少两个固定柱I,固定圈2上连接喂'雾塔3,固定圈2包括后弧4、左弧5和右弧6,后弧4通过固定旋转件7与左弧5、右弧6连接,左弧5上连接有左固定枝8,左固定枝8上连接有上固定圈10,右弧6上连接有右固定枝9,右固定枝9上连接有下固定圈11,上固定圈10的内径外径与下固定圈11的内径外径均相等,上固定圈10与下固定圈11之间设有固定销12,固定销12为T字形。本实用新型整体结构简单,制作成本低,功能实用,操作方便,固定更加的有效方便,方便对喷雾塔进行拆解检修,固定销能够更加方便的对固定圈进行固定分解,提高了工作效率。
[0017]以上所述仅为说明本实用新型的实施方式,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种喷雾塔支架,其特征在于:所述喷雾塔支架包括固定圈(2)和至少两个固定柱(1),所述固定圈(2)上连接喷雾塔(3),所述固定圈(2)包括后弧(4)、左弧(5)和右弧(6),所述后弧(4)通过固定旋转件(7)与左弧(5)、右弧(6)连接,所述左弧(5)上连接有左固定枝(8),所述左固定枝(8)上连接有上固定圈(10),所述右弧(6)上连接有右固定枝(9),所述右固定枝(9)上连接有下固定圈(11),所述上固定圈(10)与下固定圈(11)之间设有固定销(12)。2.根据权利要求1所述喷雾塔支架,其特征在于:所述固定销(12)为T字形。3.根据权利要求1所述喷雾塔支架,其特征在于:所述上固定圈(10)的内径外径与下固定圈(11)的内径外径均相等。
【专利摘要】本实用新型涉及一种喷雾塔支架,所述喷雾塔支架包括固定圈和至少两个固定柱,固定圈上连接喷雾塔,固定圈包括后弧、左弧和右弧,后弧通过固定旋转件与左弧、右弧连接,左弧上连接有左固定枝,左固定枝上连接有上固定圈,右弧上连接有右固定枝,右固定枝上连接有下固定圈,上固定圈与下固定圈之间设有固定销。本实用新型结构简单,制作成本低,功能实用,操作方便,提高了工作效率的优点。
【IPC分类】B05B15/06
【公开号】CN204638433
【申请号】CN201520158929
【发明人】李荣升
【申请人】泰州市振宇磁性材料有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年3月20日
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