一种小型水浴锅的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于实验室设备技术领域，尤其涉及一种小型水浴锅。
【背景技术】
[0002]在化学实验室进行化学反应时，一些化学反应需要在特定的温度下进行，因此需要将反应器皿设置于水浴锅中进行反应，目前实验室使用的水浴锅的内胆大都是不锈钢板，不仅消耗大量的金属，而且耗电量大，容易烧爆裂，使用寿命短，且水温难以均匀，还不能定温定点的精确控温，因此水浴锅的选择尤其重要；在进行化学反应时，一些对于化学反应需要在特定的温度下进行，需要将反应器皿设置于水浴锅中进行反应，因此现在特别需要一种安全可靠，精确控温的水浴锅器材。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型提供一种小型水浴锅，可达到安全可靠，精确控温，占地面积小的有益效果。
[0004]本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:本实用新型提供一种小型水浴锅，包括水浴锅体、水浴锅盖和底座，所述水浴锅体内部设有保温层、加热腔、磁体托板和烧杯，所述保温层位于水浴锅体内部，所述加热腔位于保温层内部，所述磁体托板设置在加热腔的内部，所述烧杯位于磁体托板的上方，所述水浴锅盖位于水浴锅体上，所述扶手位于水浴锅盖上，所述底座位于加热腔的下方。
[0005]所述底座上设有温度控制器，所述温度控制器从左到右依次设有温度调节按钮、定时器和开关。
[0006]所述水浴锅体为碳化玻璃。
[0007]所述水浴锅体采用双层结构。
[0008]本实用新型的有益效果为:
[0009]1、本实用新型的设有水浴锅盖和保温层，可保持加热腔内传递出的温度，控制水温，可达到节能的效果。
[0010]2、本实用新型的设有温度调节按钮和定时器，可根据实验要求进行温度调解，并且可设定实验时间，无需实验人员一直看守。
[0011]3、本实用新型在水浴锅盖上方设有扶手，以便于水浴锅盖的拿起与放下。
[0012]4、本实用新型可以精确的将水浴锅内部的温度，且能保证恒温均匀，使用效率大大提尚。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型的内部结构图。
【具体实施方式】
[0014]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。
[0015]图中:1-水浴锅体，2-保温层，3-加热腔，4-底座，5-温度控制器，6_温度调节按钮，7-定时器，8_开关，9-磁体托板，10-烧杯，11-水浴锅盖，12-扶手。
[0016]水浴锅主要包括水浴锅体1、水浴锅盖11和底座4，水浴锅体I内部设有保温层2、加热腔3、磁体托板9和烧杯10，保温层2位于水浴锅体I内部，保持加热腔3内传递出的温度，控制水温，加热腔3位于保温层2内部，对液体进行加热，磁体托板9设置在加热腔3的内部，烧杯10位于磁体托板9的上方，水浴锅盖11位于水浴锅体I上，可进一步对起到保温作用，扶手12位于水浴锅盖11上，便于水浴锅盖11的拿起，底座4位于加热腔3的下方。
[0017]底座4上设有温度控制器5，温度控制器5从左到右依次设有温度调节按钮6、定时器7和开关8，其中温度调节按钮6和定时器7，可根据实验要求进行温度调解，并且可设定实验时间，无需实验人员一直看守。
[0018]利用本实用新型所述的技术方案，或本领域的技术人员在本实用新型技术方案的启发下，设计出类似的技术方案，而达到上述技术效果的，均是落入本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种小型水浴锅，其特征在于:包括水浴锅体、水浴锅盖和底座，所述水浴锅体内部设有保温层、加热腔、磁体托板和烧杯，所述保温层位于水浴锅体内部，所述加热腔位于保温层内部，所述磁体托板设置在加热腔的内部，所述烧杯位于磁体托板的上方，所述水浴锅盖位于水浴锅体上，所述水浴锅盖上部设有扶手，所述底座位于加热腔的下方。2.根据权利要求1所述的一种小型水浴锅，其特征在于:所述底座上设有温度控制器，所述温度控制器从左到右依次设有温度调节按钮、定时器和开关。3.根据权利要求1所述的一种小型水浴锅，其特征在于:所述水浴锅体为碳化玻璃。4.根据权利要求1所述的一种小型水浴锅，其特征在于:所述水浴锅体采用双层结构。
【专利摘要】本实用新型涉及一种小型水浴锅，所述水浴锅主要包括水浴锅体、水浴锅盖和底座，所述水浴锅体内部设有保温层、加热腔、磁体托板和烧杯，所述保温层位于水浴锅体内部，所述加热腔位于保温层内部，所述磁体托板设置在加热腔的内部，所述烧杯位于磁体托板的上方，所述水浴锅盖位于水浴锅体上，所述扶手位于水浴锅盖上，所述底座位于加热腔的下方，所述底座上设有温度控制器，所述温度控制器从左到右依次设有温度调节按钮、定时器和开关。因此本实用新型可达到安全可靠，精确控温，占地面积小的有益效果。
【IPC分类】B01L7/02
【公开号】CN204735238
【申请号】CN201520119103
【发明人】田东奎, 何磊
【申请人】天津法莫西医药科技有限公司
【公开日】2015年11月4日
【申请日】2015年2月28日