覆膜多孔陶瓷净水过滤管的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于高性能结构陶瓷领域，具体涉及一种覆膜多孔陶瓷净水过滤管。
【背景技术】
[0002]随着人们生活水平的提高和水质污染的日益严重，洁净水源日益匮乏，人们需要对水进行过滤、净化处理得到纯净的水源。目前，市场上多采用过滤网净水器进行水源处理，而该类净水器存在过滤效率低、难清洗再生，以及耗材更换频繁、易老化变质造成二次污染等缺陷，给使用者带来诸多不便。
[0003]多孔陶瓷是一种含有气孔的陶瓷材料，一般来说，气孔在多孔陶瓷体中所占的体积分数(显气孔率)在20%到95%之间。由于其本身具有的独特性能，多孔陶瓷已经在我们的日常生活和现代工业生产中得到广泛的应用，包括分离与过滤、催化剂及其载体、生物反应器、燃料电池材料、气体传感器、隔热材料、热交换器、生物医学材料等等。
【实用新型内容】
[0004]针对上述问题，本实用新型对过滤组织结构进行创新，提供一种覆膜多孔陶瓷净水过滤管，能有效解决现有净水器过滤效率低、难清洗再生、耗材更换频繁、易老化变质造成二次污染等问题。
[0005]为解决上述问题，本实用新型通过以下技术方案实现:
[0006]设计一种覆膜多孔陶瓷净水过滤管，其管体的一端开口，另一端封闭，其管壁(包括管体侧壁和封闭端)从外到内依次为微孔陶瓷膜和多孔陶瓷基体。
[0007]优选的，所述多孔陶瓷基体厚度为0.7?0.9mm，更优选0.8mm ;所述微孔陶瓷膜厚度均为0.2?0.4mm,更优选0.3mm。
[0008]优选的，所述多孔陶瓷基体的显气孔率为30?50%，更优选36.8%，孔径为10?100 μ mD
[0009]优选的，所述微孔陶瓷膜显气孔率为35?45%，孔径不大于2.5 μπι。
[0010]本实用新型具有以下积极有益效果:
[0011](I)本实用新型为孔梯度陶瓷结构，其中多孔陶瓷为基材，显气孔率达36.8%，微孔陶瓷复合烧结在多孔陶瓷基材表面，集吸附、表面过滤和深层过滤为一体，对细菌、病毒以及钙镁等重金属的过滤率不小于99.9% ;
[0012](2)本实用新型的微孔陶瓷膜浆料经真空除泡，与多孔陶瓷管一起共烧而成，晶相构成为堇青石-刚玉-莫来石相，其耐热性、化学稳定性、机械强度远优于过滤网及普通过滤膜；
[0013](3)将多根本实用新型净水过滤管组合起来，可进一步形成反清洗系统，实现净水器管件的清洗再生，无需频繁更换。
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型覆膜多孔陶瓷净水过滤管的截面结构示意图；
[0015]图中I为微孔陶瓷膜，2为多孔陶瓷基体。
【具体实施方式】
[0016]下面结合具体实施例及附图对本实用新型进一步详细说明，但本实用新型不限于这些实施例。
[0017]实施例1
[0018]—种覆膜多孔陶瓷净水过滤管，其管体的一端开口，另一端封闭，其管壁从外到内依次为微孔陶瓷膜I和多孔陶瓷基体2。所述多孔陶瓷基体2厚度为0.8mm，所述微孔陶瓷膜I厚度为0.3mm。所述多孔陶瓷基体2的显气孔率为36.8%，孔径为10?100 μm，所述微孔陶瓷膜I的显气孔率为40%，孔径不大于2.5 μπι。
[0019]本实施例管体为圆柱型，使用过程中，水从开口端进入，沿管道径向通过管体，并通过管壁渗透、过滤，排出洁净水。
[0020]本实用新型并不局限于上述【具体实施方式】，本领域技术人员还可据此做出多种变化，但任何与本实用新型等同或者类似的变化都应涵盖在本发明权利要求的范围内。
【主权项】
1.一种覆膜多孔陶瓷净水过滤管，特征在于:其管体的一端开口，另一端封闭，其管壁从外到内依次为微孔陶瓷膜和多孔陶瓷基体；所述多孔陶瓷基体的显气孔率为30?50%，孔径为10?100 μ m ;所述微孔陶瓷膜显气孔率为35?45%，孔径不大于2.5 μπι。2.根据权利要求1所述的覆膜多孔陶瓷净水过滤管，其特征在于:所述多孔陶瓷基体厚度为0.7?0.9mm，所述微孔陶瓷膜厚度均为0.2?0.4mm。3.根据权利要求2所述的覆膜多孔陶瓷净水过滤管，其特征在于:所述多孔陶瓷基体厚度为0.8mm，所述微孔陶瓷膜厚度为0.3mm。4.根据权利要求1所述的覆膜多孔陶瓷净水过滤管，其特征在于:所述多孔陶瓷基体的显气孔率为36.8%。
【专利摘要】本实用新型属于高性能结构陶瓷领域，具体涉及一种覆膜多孔陶瓷净水过滤管，其管体的一端开口，另一端封闭，其管壁从外到内依次为微孔陶瓷膜和多孔陶瓷基体。本实用新型对过滤组织结构进行创新，能有效解决现有净水器过滤效率低、难清洗再生、耗材更换频繁、易老化变质造成二次污染等问题。
【IPC分类】B01D69/04, B01D61/00, C02F1/44, B01D71/02
【公开号】CN204911244
【申请号】CN201520545586
【发明人】徐 明
【申请人】江西景科特陶有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年7月24日