技术特征：
技术总结
本发明公开了一种基于PS小球纳米掩模的聚酰亚胺纳米结构的制备方法，属于微纳结构制备领域。该方法将PS小球和含硅聚酰亚胺薄膜结合起来，将单层PS小球与聚酰亚胺薄膜复合，通过RIE刻蚀调整PS小球之间的尺寸，再以PS小球为掩膜版，使用四氟化碳气体对含硅的聚酰亚胺进行RIE刻蚀，利用四氟化碳气体对硅的刻蚀速率远远大于对PS胶体球的刻蚀速率，实现聚酰亚胺薄膜纳米结构制备。本发明首次提出了一种基于PS小球为掩模的聚酰亚胺纳米结构全参数可控制备方法，尤其是在聚酰亚胺薄膜的纳米结构全尺寸可控制备，这对基于聚酰亚胺薄膜的柔性微器件加工有重要的指导作用。
技术研发人员：何洋;吕湘连;苑伟政;王颖;卢江波;楼之源
受保护的技术使用者：西北工业大学
技术研发日：2017.12.29
技术公布日：2018.08.03