专利名称：隔膜电解槽盐水补充装置的制作方法
技术领域：
本实用新型是对隔膜电解槽制取二氧化氯复合消毒剂时，精制盐水补充其电解中消耗氯化钠的装置，以免堵塞隔膜，装置属于二氧化氯发生器
1988年6月以来，我国市场上流行名称众多的二氧化氯复合消毒剂发生器(简称发生器，下同)，就所收集的产品简介知，都是二室隔膜电解槽，电解食盐(或工业盐)溶液，制取二氧化氯复合消毒剂，其盐溶液未经去杂精制，隔膜常被堵塞，不得不停运清洗隔膜。对比氯碱工业，发生器亦应设置盐水补充装置，补充电解中消耗的氯化钠，以避免堵塞隔膜。
本实用新型要解决的技术问题使盐水补充装置与发生器的电解槽对接构成互动闭合系统，并融合成一体，且使装置内的液位稳定，保障装置连续稳定地精制饱和盐水。为此采取以下技术方案采用氯碱工业的精制盐水工艺，设溶盐池(含投药反应)沉淀池、澄清池、中和池，各池间以溢流孔相连，孔高低有差，各池以顺序溢流的方式工作，当发生器的电解槽阴极室溢出含碱的部分溶液，输入溶盐池，溶盐、沉淀，并引发各池间的顺序溢流，到中和池，可得饱和精盐水；此盐水用泵提升到高位水箱，经高位水箱的精盐水输出口及其控制阀门，自流输入到发生器的电解槽(阳极室和阴极室)，电解槽的液位升高，使电解槽阴极室含氢氧化钠的溶液由溢流口溢出，经溶盐池的碱液输入口及其电动阀门，投入溶盐池溶盐，也投放了氢氧化钠，并引发盐水补充装置各池的顺序溢流，从而制备了精盐水，并补充到电解槽，这就构成了盐水补充装置与电解槽的对接互动闭合系统，
图1是盐水补充装置与电解槽对接互动闭合系统的流程图。
本实用新型的有益效果是结构简单紧凑，达到了盐水精制和补充电解槽精盐水的目的，实现盐水补充装置和电解槽融合成一体，降低成本，便于使用。
图2是盐水补充装置与电解槽对接互动的结构示意图，其中(a)是纵剖视图，(b)是俯视图。
图1中，盐水补充装置由溶液池(2)、沉淀池(3)、澄清池(4)、中和池(5)、提升泵(6)、高位水箱(8)等组成，籍溶盐池的碱溶液输入接口及其电动阀门(12)与电解槽阴极室(11)对接；籍高位水箱(8)的输出精盐水接口及其控制阀门(9)与电解槽的阳极室(10)阴极室(11)对接输出精盐水补充电解槽。当高位水箱给电解槽补充饱和精盐水时，电解槽(1)的液位升高，使阴极室(11)的溢流孔向溶盐池(2)的输入碱溶液接口(12)溢流，投入含氢氧化钠的溶液，溶盐并引发溶盐池(2)、沉淀池(3)、澄清池(4)、中和池(5)依序溢流，制取饱和精盐水，中和池(5)设置盐酸投入口(7)，调整PH值。然后用提升泵(6)把精盐水提升到高位水箱(8)，准备好再次向电解槽(1)补充精盐水。
图2中，盐水补充装置和电解槽(1)，置于同一个长方形塑料容器中，溶盐池(2)紧贴着阴极室(11)，溶盐池(2)的碱液输入接口(12)，与阴极室(11)的溢流口对接。溶盐池(2)沉淀池(3)、澄清池(4)、中和池(5)之间有溢流孔(13)相通，高度有差，可顺序溢流。各池位置设置与溢流顺序相适应。溶盐池(2)设有投盐口(14)，对应于中和池(5)的塑料容器顶盖(15)上设有盐酸投入口(7)，提升水泵采用小型潜水泵，经外接软管把精盐水输入高位水箱(8)。高位水箱(8)高出塑料容器顶盖(15)300mm，其精盐水经精盐水输出口及其控制阀门(9)(两个)，与电解槽(1)对接，补充精盐水。由此，实施了盐水补充装置与电解槽的对接互动闭合系统。
运行时，高位水箱(8)的精盐水输出接口两个控制阀门(9)分别定时开闭，精盐水定量自动输入电解槽(1)，槽的液位升高，阴极室(11)的溢流口溢出含氢氧化钠的部分溶液，经碱溶液输入接口(12)，投入溶盐池(2)，溶盐、沉淀，并引发装置中各池顺序溢流，实施盐水精制、盐水提升、补充电解槽。当阴极室溢流降低了电解槽的液位时，阴极室溢流终止，其溢出的含碱溶液量，与补充电解槽(1)的精盐水量相当，从而实现了盐水补充装置内部液量的稳定，保证装置能连续运行。
权利要求1.隔膜电解槽盐水补充装置由溶盐池(2)、沉淀池(3)、澄清池(4)、中和池(5)、提升水泵(6)、高位水箱(8)、碱液输入接口(12)、和精盐水输出接口(9)组成，其特征是各池(溶盐池、沉淀池、澄清池、中和池)之间设有溢流孔(13)，可依序溢流，把澄清饱和盐溶液汇集到中和池；装置的精盐水输出接口(9)和碱液输入接口(12)分别与电解槽的阳极室(10)阴极室(11)对接，把盐水补充装置和电解槽构成互动闭合系统。
2.如权利要求1所属的隔膜电解槽盐水补充装置，其特征是溶盐池(2)设有投盐口(14)，投放食盐(或工业盐)。
3.如权利要求1所属的隔膜电解槽盐水补充装置，其特征是中和池(5)接提升水泵(6)，设投料口(7)调节PH值。
4.如权利要求1所属的隔膜电解槽盐水补充装置，其特征是精盐水输出接口(9)设有控制阀门，分别用软管与阳极室(10)、阴极室(11)相接，补充其电解消耗的氯化钠。
5.如权利要求1所述的隔膜电解槽盐水补充装置，其特征是碱液输入接口(12)设有控制阀门，控制碱液投入量。
6.如权利要求1所述的隔膜电解槽盐水补充装置，其特征是盐水补充装置与电解槽紧邻融合成一体。
专利摘要隔膜电解槽盐水补充装置，利用阴极室含碱溶液，制取饱和精盐水，补充给二氧化氯复合消毒剂发生器在电解中消耗的氯化钠，以免隔膜被堵塞。装置属二氧化氯技术领域。装置的碱液输入接口，溢入阴极室的含碱溶液，溶盐、沉淀，制得饱和精盐水；精盐水由接口输出，流入电解槽，补充其在电解中消耗的氯化钠，且使电解槽液位升高，导致阴极室溢出含碱溶液，引发装置各池顺序溢流，这就构成了盐水补充装置与电解槽的互动闭合系统。此系统结构简单、紧凑，可与电解槽融合成一体，体积小，成本低，管理使用方便，可避免隔膜被堵塞，保障电解槽持续正常运行。
文档编号C25B15/00GK2526330SQ0125921
公开日2002年12月18日 申请日期2001年9月3日 优先权日2001年9月3日
发明者俞志梁, 杨力, 王灿, 李洁心, 刘冰, 俞方 申请人:杨力