用于电积镍生产的真空度控制装置制造方法

文档序号:5284336阅读:267来源:国知局
用于电积镍生产的真空度控制装置制造方法
【专利摘要】本实用新型的目的是提供一种用于电积镍生产的真空度控制装置,以解决现有技术中生产电积镍时氯气浓度检测不方便使真空度不能及时调节的问题,它包括主管,所述主管上设有至少一组外排管,所述外排管包括支管一和支管二,所述主管的端部依次设有取样阀、真空调节阀,本实用新型操作方便、简单,根据检测的氯气浓度及时通过真空调节阀调节真空度大小,从而控制含氯废气及阳极液流速,使电积槽的真空度均衡一致,提高电积镍的质量;通过设置支管一和支管二,使含氯废气及阳极液流动顺畅,不堵塞,氯气不外溢;在支管一和支管二分别设置密封件,提高了密封性能。
【专利说明】用于电积镍生产的真空度控制装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及氯化电积镍生产领域,具体涉及一种用于电积镍生产的真空度控制装置。
【背景技术】
[0002]氯化电积镍生产过程中阳极产生的含氯气体通过真空系统收集至余氯吸收处理。通常,一台液环式真空泵要配套几十台电积槽,每台槽分配的真空度将不均衡,有的电积槽真空度小,导致阳极液循环不好,含氯废气外排不及时,槽面氯气逸散,操作环境差,影响电积镍质量。
[0003]为了判断电积槽内阳极组件是否完好,真空泵运行是否正常,氯气浓度是否达标,需经常取样化验分析,通常是在管道上钻孔取样,每次取样后需把孔洞修补好,操作不方便,同时取样不及时造成生产效率低。
实用新型内容
[0004]本实用新型的目的是提供一种用于电积镍生产的真空度控制装置,以解决现有技术中生产电积镍时氯气浓度检测不方便使真空度不能及时调节的问题。
[0005]为此本实用新型采用如下技术方案:一种用于电积镍生产的真空度控制装置,包括主管,所述主管上设有至少一组外排管,所述外排管包括支管一和支管二,所述主管的端部依次设有取样阀、真空调节阀。
[0006]进一步地,所述支管一和支管二的端部均设有密封件。
[0007]本实用新型的有益效果是:操作方便、简单,根据检测的氯气浓度及时通过真空调节阀调节真空度大小,从而控制含氯废气及阳极液流速,使电积槽的真空度均衡一致,提高电积镍的质量;通过设置支管一和支管二,使含氯废气及阳极液流动顺畅,不堵塞,氯气不外溢;在支管一和支管二分别设置密封件,提高了密封性能。
【专利附图】

【附图说明】
[0008]图1是本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]下面结合附图对本实用新型做进一步详细说明。
[0010]如图1所示,一种用于电积镍生产的真空度控制装置,包括主管,主管5上设有至少一组外排管,外排管包括支管一 I和支管二 2,主管5的端部依次设有取样阀6、真空调节阀7。
[0011]支管一 I和支管二 2的端部均设有密封件3,进一步提高了密封性能。
[0012]电积镍生产过程中产生的含氯废气在液环式真空泵作用下通过支管一 I进入主管5,阳极液通过支管二 2进入主管5中,只要打开取样阀6就能随时方便的对氯气浓度进行检测,根据检测的氯气浓度及时通过真空调节阀7调节真空度大小,从而控制含氯废气及阳极液流速,使电积槽的真空度均衡一致,保证氯气浓度,提高电积镍的质量。
【权利要求】
1.一种用于电积镍生产的真空度控制装置,包括主管,其特征在于:所述主管(5)上设有至少一组外排管,所述外排管包括支管一(I)和支管二(2),所述主管(5)的端部依次设有取样阀(6)、真空调节阀(7)。
2.根据权利要求1所述的用于电积镍生产的真空度控制装置,其特征在于:所述支管一(I)和支管二( 2 )的端部均设有密封件(3 )。
【文档编号】C25C7/00GK203715741SQ201420089240
【公开日】2014年7月16日 申请日期:2014年2月28日 优先权日:2014年2月28日
【发明者】辛怀达, 郑军福, 周通, 刘航, 王德祥, 丁庆华, 曹康学, 来进平 申请人:金川集团股份有限公司
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