电镀飞靶清洗设备的制作方法

技术特征：

1.电镀飞靶清洗设备，其特征在于，包括储水槽、设于所述储水槽上的暂存板及设于所述暂存板外侧的清洗装置，所述清洗装置包括置物装置、导流装置、喷流通道及压紧装置，所述置物装置与所述暂存板平行间隔设置，所述喷流通道与所述导流装置的内部连通，且所述喷流通道的起始端至伸出端朝所述暂存板方向倾斜延伸，所述压紧装置的一端固定于所述置物装置上，另一端设于所述导流管上用于压紧所述导流装置于所述置物装置上。

2.根据权利要求1所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，所述喷流通道与所述置物装置的上表面之间具有第一倾斜角，所述倾斜角大于等于20°且小于等于60°。

3.根据权利要求1所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，所述喷流通道为间隔设置的多个，两相邻所述喷流通道之间的间隔距离为大于等于150mm且小于等于250mm。

4.根据权利要求1所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，所述喷流通道为喷嘴，且所述喷流通道的喷流速度为0.1~0.2米/秒。

5.根据权利要求1所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，所述喷流通道包括与所述导流装置内部连通的至少两个间隔设置的导流孔，两个所述导流孔的起始端至伸出端朝相互远离的方向倾斜延伸。

6.根据权利要求4所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，两个所述导流孔之间的夹角大于等于30°且小于等于60°。

7.根据权利要求4所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，所述喷流通道还包括设于所述导流孔的出水端内的堵环，所述堵环的内圈靠近所述导流装置的一端的直径小于其另一端的直径。

8.根据权利要求1所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，所述置物装置包括置物本体及自所述置物本体的上表面向内凹陷形成的置物槽，所述导流装置嵌设于所述置物槽内。

9.根据权利要求1所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，所述压紧装置包括连接端及与所述连接端转动连接的压紧端，所述连接端包括一端固设于所述置物装置上的连接杆及设于所述连接杆的另一端的转接头，所述压紧端包括部分包裹于所述转接头外部并能绕所述转接头转动的套设部及连接于所述套设部外表面的压紧部。

10.根据权利要求1所述的电镀飞靶清洗设备，其特征在于，还包括控制箱、与所述控制箱电性连接且用于控制所述导流装置通断的控制阀及与所述控制箱通信连接的感应装置，所述感应装置设于所述储水槽的上方，通过感应装置感应所述暂存板之间上的工件，以发出信号给所述控制箱，所述控制箱触发所述控制阀以控制所述导流装置通断。