技术特征：
技术总结
本发明公开了一种型材氧化着色工艺，氧化槽中硫酸135～165g/L、温度7～11℃；氧化电流从0.5～0.55A/dm2多阶递增至1～1.1A/dm2；相邻两阶的递增量为0.04～0.08A/dm2；着色槽中16～20g/L的H2SO4、13～17g/L的Sn2+、13～17g/L的Ni2+，着色槽温度15～25℃，电压15～22V，时间17～23min。多种氧化工艺叠加，氧化膜层形成多层不同硬度膜层，再以金属离子电解着色方法，使膜层底层硬外层较软，外层的线彭涨系数等于或接近基体的线彭涨系数，膜层硬度高耐磨，高温工作环境下膜层不裂，不退色。
技术研发人员：陈少鹏
受保护的技术使用者：珠海市美图金属科技有限公司
技术研发日：2018.05.02
技术公布日：2018.10.16