专利名称：一种基坑排水构造的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种基坑排水构造，适用于基础领域。
背景技术：
高层建筑深基坑降排水工程在建筑工程中占有重要位置，因此深基坑工程降排水施工亦成为基坑工程中的一个难点，也是保证深基础施工质量的关键。工程实践中高层建筑基坑降排水构造不合理导致事故不乏少见。
实用新型内容本实用新型解决的技术问题是提供一种基坑排水构造，解决传统基坑排水不畅的问题。本实用新型包括集水井、排水沟、挡墙、护坡。基坑护坡内侧做排水沟，排水沟宽度为20 30cm，排水沟坡度为2%，集水井布置在基坑四角或每隔30 40m设置，集水井底面比排水沟低0. 5m，排水沟内侧设置挡墙，挡墙采用砖砌筑，宽度为240mm。本实用新型简单实用。
图I基坑排水构造不意图，图2排水沟不意图。附图标记I、集水井，2、排水沟，3、挡墙，4、护坡。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行详细描述。图I为基坑排水构造示意图，图2为排水沟示意图。本实用新型包括集水井I、排水沟2、挡墙3、护坡4。基坑护坡4内侧做排水沟2，排水沟2宽度为25cm，排水沟2坡度为2%，集水井I布置在基坑四角或每隔40m设置，集水井I底面比排水沟2低0. 5m，排水沟2内侧设置挡墙3，挡墙3采用砖砌筑，宽度为240_。
权利要求1. 一种基坑排水构造，其特征是包括集水井、排水沟、挡墙、护坡，基坑护坡内侧做排水沟，排水沟宽度为20 30cm，排水沟坡度为2%，集水井布置在基坑四角或每隔30 40m设置，集水井底面比排水沟低O. 5m，排水沟内侧设置挡墙，挡墙采用砖砌筑，宽度为240mm。
专利摘要本实用新型公开了一种基坑排水构造，其特征是包括集水井、排水沟、挡墙、护坡。基坑护坡内侧做排水沟，排水沟宽度为20～30cm，排水沟坡度为2％，集水井布置在基坑四角或每隔30～40m设置，集水井底面比排水沟低0.5m，排水沟内侧设置挡墙，挡墙采用砖砌筑，宽度为240mm。本实用新型简单实用。
文档编号E02D19/08GK202530465SQ201220117220
公开日2012年11月14日 申请日期2012年3月17日 优先权日2012年3月17日
发明者孔蕾蕾 申请人:孔蕾蕾