一种光刻胶的更换装置的制作方法

1.本实用新型涉及集成电路制造领域，特别涉及一种光刻胶的更换装置。


背景技术：

2.光刻工艺是利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到衬底上。光刻工艺是集成电路制造过程中的关键步骤之一，在整个集成电路制造过程中被多次使用，其稳定性和可靠性对产品的质量有重要影响。
3.在光刻工艺中，光刻胶涂布的厚度和均匀性直接影响到光刻工艺的稳定性和可靠性，而当光刻胶内含有气泡时，将影响到光刻胶涂布的厚度和均匀性。光刻胶更换时，联通光刻胶瓶与缓冲罐的移送管路中存在气泡，缓冲罐内也存在气泡，因此，需要进行排气泡的工作，以免因气泡的存在最终影响产品的质量。
4.更换光刻胶时，光刻胶从光刻胶瓶内被移送至缓冲罐的过程中，移送管路内的气泡被排放至缓冲罐内并位于缓冲罐的顶部，缓冲罐内的光刻胶逐渐增加的过程中，缓冲罐内原本存在的气泡随光刻胶的液面一并上升至缓冲罐的顶部，此时，打开缓冲罐顶部的排液管路，利用缓冲罐内部的压强大于排液管路的压强，将气泡排出缓冲罐至排液管路。
5.图1示出了现有技术中缓冲罐1的结构，缓冲罐1内部的顶面为平面结构，并在其顶面设置有移送管路2和排液管路3，光刻胶自移送管路2进入缓冲罐1，气泡从排液管路3被排出缓冲罐1，由于顶面为平面结构，因此，想要将气泡全部排完，需要的时间较长，会对产能造成一定的影响；另外，由于排气泡的过程中，光刻胶也会被排出，因此，还会造成光刻胶的浪费，增加工艺成本。


技术实现要素：

6.本实用新型要解决的技术问题是提供一种光刻胶的更换装置，能实现缩短气泡排放时间，减少光刻胶的浪费。
7.为解决上述技术问题，本实用新型提供的一种光刻胶的更换装置，包括光刻胶瓶、缓冲罐，所述光刻胶瓶与所述缓冲罐通过移送管路联通；
8.所述缓冲罐的内顶面包括相接的斜面部、平面部，所述斜面部与所述平面部相接的一侧在竖直方向高于与所述缓冲罐的内侧壁相交的一侧；
9.所述平面部设置有排液管路；
10.所述斜面部将所述缓冲罐内的气泡汇聚于所述平面部并自所述排液管路排出。
11.较佳地，所述排液管路与厂务端排液主管路联通。
12.较佳地，所述排液管路设置有控制阀以打开或关闭所述排液管路。
13.较佳地，所述缓冲罐的内部压强大于所述厂务端排液主管路的内部压强。
14.较佳地，所述光刻胶瓶的瓶口设置有密封塞，所述密封塞与所述光刻胶瓶的瓶口密封连接；
15.所述密封塞开设有第一孔、第二孔；
16.所述移送管路贯穿所述第一孔插入所述光刻胶瓶的内部，并延伸至所述光刻胶瓶的底部。
17.所述第二孔连接有惰性气体管路以向所述光刻胶瓶内充入惰性气体。
18.较佳地，所述移送管路与所述第一孔的孔壁形成密封连接。
19.较佳地，所述惰性气体管路与所述第二孔的孔壁形成密封连接。
20.较佳地，所述斜面部沿竖直方向开设有通孔，所述移送管路自所述通孔插入所述缓冲罐内。
21.较佳地，所述缓冲罐连接有喷嘴。
22.较佳地，所述缓冲罐的底面设置有输送管路，所述缓冲罐通过所述输送管路与所述喷嘴连接。
23.本实用新型将缓冲罐的顶面设置为平面部和斜面部的结构，在光刻胶更换过程中，气泡随斜面部逐渐汇聚于平面部，并自平面部设置的排液管路被排放至厂务端排液主管路，节省了排气泡时间，有利于产能提升，且减少了排气泡过程中光刻胶的浪费。
附图说明
24.为了更清楚地说明本实用新型的技术方案，下面对本实用新型所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
25.图1是现有技术中一光刻胶的更换装置的缓冲罐结构示意图；
26.图2是本实用新型的光刻胶的更换装置一实施例的结构示意图；
27.图3是本实用新型的光刻胶的更换装置一实施例的缓冲罐顶部结构示意图；
28.图4是本实用新型的光刻胶的更换装置一实施例的光刻胶瓶的密封塞结构示意图。
29.图中，1-缓冲罐；2-移送管路；3-排液管路；10-光刻胶瓶；20-缓冲罐；30-移送管路；40-排液管路；50-惰性气体管路；60-喷嘴；70-输送管路；101-密封塞；102-第一孔；103-第二孔；201-斜面部；202-平面部；401-控制阀。
具体实施方式
30.下面将结合附图，对本实用新型中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
31.参考图2和图3，示出了本实用新型的一种光刻胶的更换装置，包括光刻胶瓶10、缓冲罐20，所述光刻胶瓶10与所述缓冲罐20通过移送管路30联通；
32.所述缓冲罐20的内顶面包括相接的斜面部201、平面部202，所述斜面部201与所述平面部202相接的一侧在竖直方向高于与所述缓冲罐20的内侧壁相交的一侧；
33.所述平面部202设置有排液管路40；
34.所述斜面部201将所述缓冲罐20内的气泡汇聚于所述平面部202并自所述排液管
路40排出。
35.本实用新型实施例中，将缓冲罐20内部的顶面设置为同时具有斜面部201和平面部202，并将排液管路40设置于平面部202，在光刻胶更换过程中，缓冲罐20内的气泡沿斜面逐渐汇聚于平面部202，并自排液管路40排出。与现有技术相比，平面部202的面积更小，气泡更集中，也更容易被排出，节省了排气泡时间，有利于产能提升，且减少了排气泡过程中光刻胶的浪费。
36.较佳地，所述排液管路40与厂务端排液主管路联通。
37.较佳地，所述排液管路40设置有控制阀401以打开或关闭所述排液管路40。
38.较佳地，所述缓冲罐20的内部压强大于所述厂务端排液主管路的内部压强。
39.本实用新型实施例中，排液管路40与厂务端的排液主管路联通，一般来说，需要设置厂务端排液主管路的内部压强低于缓冲罐20的内部压强，以便气泡的排出；排气泡的工作一般在光刻胶更换过程中进行，因此，需要在排液管路40设置控制阀401，需要排气泡时，打开控制阀401进行气泡排出流程，当气泡排出完毕，关闭控制阀401，以便进行后续光刻胶涂布流程。
40.较佳地，所述光刻胶瓶10的瓶口设置有密封塞101，所述密封塞101与所述光刻胶瓶10的瓶口密封连接；
41.参考图4，所述密封塞101开设有第一孔102、第二孔103；
42.所述移送管路30贯穿所述第一孔102插入所述光刻胶瓶10的内部，并延伸至所述光刻胶瓶10的底部。
43.所述第二孔103连接有惰性气体管路50以向所述光刻胶瓶10内充入惰性气体。
44.较佳地，所述移送管路30与所述第一孔102的孔壁形成密封连接。
45.较佳地，所述惰性气体管路50与所述第二孔103的孔壁形成密封连接。
46.本实用新型实施例中，光刻胶从光刻胶瓶10向缓冲罐20内的移送过程为：通过贯穿第二孔103的惰性气体管路50向呈有光刻胶的光刻胶瓶10内充入惰性气体，惰性气体充入过程中，光刻胶瓶10内的气压逐渐增大，当光刻胶瓶10内的气压大于缓冲罐20内的气压时，光刻胶会通过移送管路30被移送至缓冲罐20内。可理解地，整个过程中，对光刻机瓶的气密性要求较高，因此，为了保障光刻胶瓶10的整体气密性，需要设置密封塞101与光刻胶瓶10的瓶口处密封连接、移送管路30与第一孔102的孔壁密封连接、惰性气体管路50与第二孔103的孔壁密封连接。需要说明的是，本实用新型实施例中，惰性气体可以是氮气，也可以是氩气，或其他不与光刻胶产生化学反应的其他惰性气体，但较为常用的是氮气。
47.较佳地，所述斜面部沿竖直方向开设通孔，所述移送管路30自所述通孔插入所述缓冲罐20内。
48.较佳地，所述缓冲罐20连接有喷嘴60。
49.较佳地，所述缓冲罐20的底面设置有输送管路70，所述缓冲罐20通过所述输送管路70与所述喷嘴60连接。
50.本实用新型实施例中，移送管路30通过在斜面上开设的通孔插入缓冲罐20内以向缓冲罐20内移送光刻胶；另外，排气泡完成后，光刻胶从设置于其底面的输送管路70流出，并最终喷嘴60喷出，均匀地涂布于衬底材料的表面以备进行其他工序，此处不再赘述。
51.综上所述，本实用新型将缓冲罐的顶面设置为平面部和斜面部的结构，在光刻胶
更换过程中，气泡随斜面部逐渐汇聚于平面部，并自平面部设置的排液管路被排放至厂务端排液主管路，节省了排气泡时间，有利于产能提升，且减少了排气泡过程中光刻胶的浪费。
52.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型保护的范围之内。