激光经纬仪测量用反光膜装置的制作方法

文档序号:6032755阅读:221来源:国知局
专利名称:激光经纬仪测量用反光膜装置的制作方法
技术领域
本实用新型属于一种激光测量设备的附件,具体是激光经纬仪测量用的反光
膜装置o
背景技术
在实际工作中,大型工业设备,如轧钢机械,锻压机械,大型机床等,在 安装使用一段时间后,机架往往发生变生和基础的沉降等。因此就有必要对大 型设备进行必要的测量,以便制定更合理的生产工艺,也能为设备的维修,维 护和补救提供可靠的数据。这些测量工作目前均是通过激光经纬仪实现的。
测量时,测量大型设备的变形时,用反光棱镜紧贴在设备的表面,激光经 纬仪发射出激光照射在反光棱镜的中心点上,激光经棱镜中心点反射回激光测 量仪器,激光测量仪器经计算后,得出棱镜中心点到激光测量仪器中心的三维
坐标数据。
但现有的激光经讳仪的反光棱镜不能很好的与设备的工作面相接,定位精 度低,造成了测量结果的不准确,而且操作不方便,大大影响了工作效率,同 时也进一步的影响了测量精度。因此有必要对现有反光设备进行进一歩的改造 和创新。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种激光经纬仪测量用反光膜装置,采用反光膜 作为反光膜装置,对激光有很好的反射,通过磁铁块作为吸附大型设备的载体, 可很好的保证测量精度,操作非常简便。
本实用新型的技术方案如下
激光经纬仪测量用反光膜装置,其特征在于采用下列结构(1)、方形或矩 形磁块或磁片表面贴有反光膜;或者(2)、直角形磁块的两内侧表面分别贴有 反光膜。
本实用新型把反光薄膜粘贴固定在经过精密加工的磁性体上,在测量时把 磁性体直接吸附在被测大型设备的机架上,可很好的保证测量精度,操作非常
方便,效率较高,节省人力。

图1为本实用新型一种结构示意图。
图2为本实用新型另一种结构示意图。
图3为本实用新型再一种结构示意图。
具体实施方式
例l
参见图l。
激光经纬仪测量用反光膜装置,在立方体磁块1表面贴有反射膜2。当测量 大型设备正面时,用磁块1的底面吸附在测量面上,测量侧面时用磁块1的侧 面吸附。可方便固定,效率高,能很好的保证测量精度。 例2
参见图2。
激光经纬仪测量用反光膜装置,在磁片3表面贴有反射膜2。测量大型设备 正面时,将磁片3吸附在测量面上,以进行固定。 例3
参见图3。
激光经纬仪测量用反光膜装置,直角形磁块4的两内侧表面分别贴有反光膜 2。可用于大型设备正面和侧面的测量,也可用于间隙的测量。
权利要求1、激光经纬仪测量用反光膜装置,其特征在于采用下列结构(1)、方形或矩形磁块或磁片表面贴有反光膜;或者(2)、直角形磁块的两内侧表面分别贴有反光膜。
专利摘要本实用新型公开了一种激光经纬仪测量用反光膜装置,其特征在于采用下列结构(1)方形或矩形磁块或磁片表面贴有反光膜;或者(2)直角形磁块的两内侧表面分别贴有反光膜。本实用新型把反光薄膜粘贴固定在经过精密加工的磁性体上,在测量时把磁性体直接吸附在被测大型设备的机架上,可很好的保证测量精度,操作非常方便,效率较高,节省人力。
文档编号G01C1/00GK201191182SQ20082003395
公开日2009年2月4日 申请日期2008年3月27日 优先权日2008年3月27日
发明者胜 吴, 翔 李, 李长宏, 李黎明, 王道远, 程丙贵, 黄贞益 申请人:南京钢铁股份有限公司;安徽工业大学
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