专利名称：样品检验系统以及使用所述样品检验系统检验样品的方法
技术领域：
本发明涉及一种样品检验系统以及一种使用所述样品检验系统检验样品的方法， 且更明确地说，涉及一种用于精确地检验样品的样品检验系统以及一种使用所述样品检验系统检验样品的方法。
背景技术：
对于有效率的发光二极管(LED)来说，高光提取效率(发光效率)以及高内部量子效率为必要的。因此，一般来说，在衬底上形成多个2到3微米的凸-凹结构以通过所述凸-凹结构所致的光的折射以及不规则反射来改善光提取效率。可使用各种凸-凹结构 (例如，半球形或角锥形凸-凹结构)。
LED的发光效率很大程度上根据凸-凹结构的特征而变化。举例来说，LED的发光效率是通过凸-凹结构的缺陷、大小以及形状来确定。因此，当使用衬底来制造LED时，在于衬底上形成LED之前，先在衬底上形成凸-凹结构，且分析所述凸-凹结构的特征，例如， 缺陷、形状以及大小。
一般来说，使用光学系统来分析凸-凹结构，此是因为可在不切割样品的情况下获得三维图像。光学系统的实例包括共聚焦显微镜(confocal microscope)、白光扫描干涉仪(white light scanning interferometer, WSI)、相移干涉仪(phase shifting interferometer，PSI)、莫阿检验系统(Moire inspection system)以及斐索干涉仪 (Fizeau interferometer)。共聚焦显微镜、WSI、PSI以及斐索干涉仪具有约1纳米或低于1纳米的良好分辨率。然而，由于光学畸变，难以检验边缘或点形表面。举例来说，在形成有2到3微米的凸-凹结构的衬底的情况下，难以准确地观测到所述凸-凹结构的轮廓以提取信息(例如，缺陷的种类、数目以及大小)。此外，在形成有具有尖锐部分(例如，角锥形)的凸-凹结构的衬底的情况下，由于所述尖锐部分处的光学畸变，难以用光学系统检验所述衬底。因此，如图5(b)中所显示，在捕捉的图像上，可能切割了凸-凹结构的一些部分。即，尽管凸-凹结构是有缺陷的，但是难以准确地观测到并确定缺陷。另外，尽管在观测到有缺陷的凸-凹结构的情况下有必要修改凸-凹结构形成工艺，但是可能难以适当地修改凸-凹结构形成工艺，此是因为难以准确地观测到有缺陷的凸-凹结构。此情形可能会降低LED制造工艺的合格率。发明内容
本发明提供一种能够精确地检验样品的样品检验系统以及一种使用所述系统检验样品的方法。
本发明还提供一种能够精确地检验具有尖锐部分的样品的样品检验系统以及一种使用所述系统检验样品的方法。
本发明还提供一种包括光学显微镜以及扫描电子显微镜的检验系统，以及一种使用所述系统检验样品的方法。
根据示范性实施例，一种检验系统包括第一光学检验装置，其用以在宏观级或中观(meso)级下放大并观测样品；第二光学检验装置，其与所述第一光学检验装置通信且用以在微观级下放大并观测样品；扫描电子检验装置，其与所述第一光学检验装置以及所述第二光学检验装置通信且用以通过用电子束扫描样品而放大并观测所述样品；以及机器人臂，其用以将样品携带到所述第一光学检验装置、所述第二光学检验装置以及所述扫描电子检验装置。
所述扫描电子检验装置可从样品捕捉三维图像。
所述检验系统可进一步包括第一载台(stage)，其安置于对应于所述第一光学检验装置的下侧的位置处以用于支撑样品；第二载台，其安置于对应于所述第二光学检验装置的下侧的位置处以用于支撑样品；以及第三载台，其安置于对应于所述扫描电子检验装置的下侧的位置处。
所述检验系统可进一步包括用以水平地移动所述第一载台到所述第三载台的第一可水平移动部件到第三可水平移动部件。
根据另一示范性实施例，提供一种使用检验系统检验样品的方法，所述检验系统包括第一光学检验装置，其用以在宏观级或中观级下放大并观测所述样品；第二光学检验装置，其用以在微观级下放大并观测所述样品；以及扫描电子检验装置，其用以放大并观测所述样品。所述方法包括通过使用所述第一光学检验装置完全检验所述样品；确定所述样品是否有缺陷；在确定所述样品并非有缺陷的情况下，终止所述样品的检验；以及在确定所述样品有缺陷的情况下，根据所述样品的表面形状使用所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置检验所述样品。
在使用所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置检验所述样品之前，所述方法可进一步包括确定所述样品的表面形状。
所述样品可能在其一侧上具有多个凸-凹结构。
如果所述样品具有尖锐部分，那么可在使用所述第一光学检验装置检验所述样品之后使用所述扫描电子检验装置检验所述样品。
如果所述样品并不具有尖锐部分，那么可在使用所述第一光学检验装置检验所述样品之后使用所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置检验所述样品。
如果使用所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置检验所述样品，那么便可放大并观测所述样品的一部分。
所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置可从所述第一光学检验装置接收关于所述样品的缺陷的位置信息以便基于所述位置信息而放大所述样品。
可从结合附图所进行的以下描述来更详细地理解示范性实施例，在附图中
图1为说明根据示范性实施例的检验系统的框图。
图2为说明根据示范性实施例的光学检验单元的视图。
图3为说明根据示范性实施例的扫描电子检验单元的视图。
图4(a)为说明在衬底上形成有多个半球形凸-凹结构的第一样品的截面图，且图 4(b)为使用第二光学显微镜从第一样品截取的截面大尺度图像。
图5(a)为说明在衬底上形成有多个角锥形凸-凹结构的第二样品的截面图，图 5(b)为使用第二光学显微镜从第二样品截取的截面大尺度图像，且图5(c)为使用扫描电子显微镜(scanning electron microscope, SEM)从第二样品截取的截面大尺度图像。
图6为解释根据示范性实施例的使用检验系统检验第一样品以及第二样品的方法的流程图。
具体实施方式
在下文中，将参看附图详细地描述特定实施例。然而，本发明可以不同形式来体现且不应被解释为限于本文中所阐述的实施例。实情为，提供这些实施例是为了使得本揭示可为详尽的以及完整的，且将本发明的范畴完全地传达给所属领域的技术人员。
图1为说明根据示范性实施例的检验系统的框图。图2为说明根据示范性实施例的光学检验单元的视图。图3为说明根据示范性实施例的扫描电子检验单元的视图。
根据实施例，可使用检验系统来在放大尺度上(从宏观级或中观级到微观级)检验样品(S)以实现对样品(S)的精确检验。在实施例中，将以预定间隔形成有多个凸-凹结构的衬底(例如，晶片)用作样品(S)。“样品(S)的表面”这个措辞的意思是衬底的表面以及多个凸-凹结构的表面。然而，样品(S)不限于此情形。即，可将各种物件用作样品 ⑶。
参看图1，实施例的检验系统包括光学检验单元100、扫描电子检验单元200以及机器人臂300。光学检验单元100包括第一光学检验装置170，其用以在宏观级或中观级下通过使用光放大并观测样品( 的表面；以及第二光学检验装置180，其用以在微观级下放大并观测样品(S)。扫描电子检验单元200用以通过用电子束扫描样品(S)而检验样品 (S)0机器人臂300用以携带样品(S)。另外，检验系统进一步包括第一卡匣410，第一卡匣 410中含有待检验的样品(S)；第二卡匣420，其用以含有观测到缺陷的样品(S)；以及第三卡匣430，其用以含有未观测到缺陷的样品(S)。机器人臂300将样品(S)从第一卡匣410 携带到第一光学检验装置170、第二光学检验装置180以及扫描电子检验单元200。另外， 机器人臂300将样品( 从第一光学检验装置170、第二光学检验装置180以及扫描电子检验单元200携带到第二卡匣420或第三卡匣430。
参看图1以及图2，光学检验单元100具有内部空间。光学检验单元100包括第一腔室130，其保持处于真空；第一光学检验装置170，其通过从上侧向第一腔室130发光而在宏观级或中观级下放大并观测样品( ；第二光学检验装置180，其安置于第一腔室130 外部且与第一光学检验装置170水平地隔开以在微观级下观测样品( ；第一载台132a， 其安置于第一腔室130中对应于第一光学检验装置170的下侧的位置处以支撑样品(S)； 以及第二载台132b，其安置于第一腔室130中对应于第二光学检验装置180的下侧的位置处。第一窗口 131a以及第二窗口 131b设置于第一腔室130的顶侧上对应于第一光学检验装置170以及第二光学检验装置180的下端的位置处。光学检验单元100进一步包括第一可水平移动部件133a以及第二可水平移动部件13北，其移动第一载台13 以及第二载台132b ；以及第一提升部件13 以及第二提升部件134b，其提升第一载台13 以及第二载台132b。
在实施例中，第一腔室130具有空心矩形盒形状。然而，第一腔室130的形状不限于此情形。可在第一腔室130的侧面处形成进入口(未显示)以将样品( 携带到第一腔室130中以及从第一腔室130携带出。另外，可使用压力控制单元(未显示)控制第一腔室130的内部压力，且可使用排气单元(未显示)将第一腔室130的内部排空。从安置于第一腔室130上方的第一光学显微镜110以及第二光学显微镜120发射的光透射穿过第一窗口 131a以及第二窗口 131b。第一窗口 131a以及第二窗口 131b是通过透明玻璃材料形成。
第一光学检验装置170以及第二光学检验装置180包括第一光学显微镜110以及第二光学显微镜120，其用以通过将光投射到样品( 上而从样品( 提取图像数据；以及第一读取器140以及第二读取器150，其与第一光学显微镜110以及第二光学显微镜120 通信。第一光学检验装置170可用以在宏观级或中观级下放大并观测样品( ，且第二光学检验装置180可用以在微观级下放大并观测样品(S)。可将例如共聚焦显微镜(confocal microscope)、白光扫描干涉仪(white light scanning interferometer, WSI)、相移干涉仪(phase shifting interferometer, PSI)、莫阿检验装置(Moire inspection device)以及斐索干涉仪(Fizeau interferometer)的装置用作第一光学显微镜110以及第二光学显微镜120。然而，第一光学显微镜110以及第二光学显微镜120的实例不限于此。举例来说，可将具有各种结构以及配置的任何装置用作第一光学显微镜110以及第二光学显微镜 120，只要其可用以在宏观级或中观级以及微观级下放大并观测样品(S)即可。
第一读取器140以及第二读取器150与第一光学显微镜110以及第二光学显微镜 120通信，这样便可通过使用第一光学显微镜110以及第二光学显微镜120收集的光能来读取关于样品(S)的信息。
如上文所描述，根据当前实施例，通过使用第一光学检验装置170在宏观级或中观级下观测样品(S)，且接着通过使用第二光学检验装置180放大样品( 而在微观级下观测样品(S)。当使用第二光学检验装置180观测样品( 时，基于使用第一光学检验装置 170获得的关于缺陷的位置信息而使用第二光学检验装置180放大样品( 的有缺陷位置。 详细地说，将存储于第一读取器140中的关于缺陷的位置信息传输到第二读取器150，且第二光学显微镜120基于所述位置信息而在微观级下放大样品(S)。以此方式，由于使用第一光学显微镜110以及第二光学显微镜120接连地检验样品(S)，故可减少使有缺陷样品(S) 通过的可能性。即，可准确地检测缺陷。
扫描电子检验单元200用以通过用电子束扫描样品(S)而在微观级或纳米级下放大并观测样品(S)。扫描电子检验单元200包括真空锁(Ioadlock) 220，其具有内部空间；以及扫描电子检验装置250，其连接到真空锁220以通过用电子束扫描样品(S)而检验样品(S)。扫描电子检验装置250包括第二腔室230，其具有内部空间；扫描电子显微镜 (scanning electron microscope，SEM) M0，其部分地插入于第二腔室230中以用电子束扫描样品(S)；第三读取器210，其与扫描电子显微镜240通信；以及第三载台23 ，其安置于第二腔室230中对应于扫描电子显微镜240的下侧的位置处，以支撑样品(S)。扫描电子检验单元200进一步包括第三可水平移动部件233a，其水平地移动第三载台232a ；以及第三提升部件23 ，其提升第三载台232a。
扫描电子显微镜240包括电子枪Ml，其用以产生电子束；以及光学镜筒(optical column) M2，其安置于电子枪241的下侧处且其中具有透镜(未显示)。光学镜筒242为以透镜聚集的电子束的光学通道。电子枪241朝向样品( 发射电子束。热离子电子枪或场致发射电子枪可用作电子枪Ml。近年来，通常使用场致发射电子枪，因为其分辨率以及效率较高。然而，可将任何种类的电子枪用作电子枪Ml。透镜使用电场以及磁场干扰从电子枪241发射的电子束，以便使电子束聚集。或者，可使用任何其他类型的聚集透镜。通过光学镜筒242将从电子枪241发射的且通过聚集透镜而聚集的电子束导向样品( 。光学镜筒242与第二腔室230连通，且因此，当观测样品(S)时，光学镜筒242处于约10-6托的高真空状态。
第三读取器210可包括图像处理单元(未显示)、确定单元、缺陷坐标计算单元，以及存储器单元。图像处理单元通过放大来自样品( 的表面的二次电子或反射电子且将所得量子强度转换成亮度而取得样品( 的图像。确定单元检测缺陷且确定缺陷的种类。缺陷坐标计算单元计算缺陷的位置。存储器存储缺陷的位置。
当使用扫描电子显微镜240观测样品( 时，使用通过使用第一光学检验装置170 获得的关于样品(S)的缺陷的位置信息。详细地说，扫描电子检验装置250的第三读取器 210从第一读取器140接收关于样品(S)的缺陷的位置信息，且扫描电子显微镜240基于所述位置信息而用电子束扫描样品(S)。
根据实施例，可使用扫描电子检验单元200来观测具有凸-凹结构(具至少一尖锐部分)的样品(S)。尖锐部分可为样品( 的尖锐部分或锐角部分。举例来说，参看图 5(a)，角锥形凸-凹结构的尖端为尖锐部分。使用扫描电子检验单元200观测具有尖锐部分的样品( 的表面，此是因为如果从第二光学显微镜120向样品( 发射光以使用第二光学显微镜120在微观级下观测样品(S)，那么会因样品(S)的尖锐部分而发生光学畸变。 如图5(b)中所显示(其中切割了凸-凹结构的一些部分)，如果发生光学畸变，那么无法确切地捕捉凸-凹结构的形状。即，如果使用第二光学显微镜120观测样品(S)，那么无法精确地观测样品(S)的特征，例如缺陷、凸-凹结构的形状、大小以及角度。
因此，在实施例中，当检验具有尖锐部分的样品( 时，在使用光学检验单元100 的第一光学检验装置170观测样品( 之后，使用扫描电子检验装置250。如上文所描述，由于扫描电子检验装置250通过用电子束扫描样品(S)而捕捉样品(S)的放大图像，故不会发生光学畸变。因此，可使用扫描电子检验装置250精确地观测具有尖锐部分的样品(S)。
在实施例中，如上文所描述，通过使用第一光学检验装置170在宏观级或中观级下完全观测样品(S)以便检测缺陷以及缺陷的位置，且接续地使用扫描电子检验装置250 放大样品(S)以在微观级下观测样品(S)。因此，可减少使有缺陷的样品( 通过的可能性。即，可更准确地检测缺陷。
图4(a)为说明在衬底上形成有多个半球形凸-凹结构的第一样品的截面图，且图 4(b)为使用第二光学显微镜120从第一样品截取的截面大尺度图像。图5(a)为说明在衬底上形成有多个角锥形凸-凹结构的第二样品的截面图，图5(b)为使用第二光学显微镜7120从第二样品截取的截面大尺度图像，且图5(c)为使用扫描电子显微镜240从第二样品截取的截面大尺度图像。图6为解释根据示范性实施例的使用检验系统检验第一样品以及第二样品的方法的流程图。
参看图1到图6，将给出关于根据示范性实施例的使用检验系统检验第一样品Sl 的方法的解释。
首先，通过使用机器人臂300将第一样品Sl从第一卡匣410移动到光学检验单元 100的第一载台13加。在将第一样品Sl放置于第一载台13 上之后，通过使用光学检验单元100的第一光学检验装置170在宏观级或中观级下放大第一样品Si，以便完全观测第一样品Sl的表面(S100)。接下来，使用与第一光学显微镜110通信的第一读取器140分析第一样品Sl的图像以确定第一样品Sl是否有缺陷。
在使用第一光学检验装置170完全观测第一样品Sl之后，如果确定第一样品Sl 并非有缺陷的，那么终止第一样品Sl的检验。通过机器人臂300(未显示)将并非有缺陷的第一样品Sl从第一载台13 卸下并将其移动到第三卡匣430。
另一方面，如果通过使用第一光学检验装置170在宏观级或中观级下完全观测第一样品S 1之后确定第一样品Sl有缺陷，那么第一读取器140存储第一样品Sl的缺陷位置。接下来，使用第二光学检验装置180在微观级下观测第一样品Sl (S310)。详细地说，通过使用机器人臂300将第一样品Sl从第一载台13 移动到第二载台132b。接下来，通过使用第二光学检验装置180在微观级下放大并观测第一样品Si。此时，第二光学检验装置 180的第二读取器150从第一读取器140接收关于第一样品Sl的缺陷位置的信息，以在微观级下放大第一样品Si，且使用所述信息取得第一样品Sl的图像。如果第一样品Sl具有多个有缺陷区域，那么在水平地移动第二载台132b的同时使用第二光学检验装置180观测第一样品Si。此时，可在观测第一样品Sl的图像的同时精确地检验缺陷的位置以及大小。 另外，可详细地检验形成于第一样品Sl上的多个凸-凹结构的特征，例如凸-凹结构的轮廓、形状、大小、高度以及角度。可使用检验的结果来改善于衬底上形成凸-凹结构的工艺。
在使用第二光学检验装置180检验第一样品Sl之后，终止第一样品Sl的检验。通过机器人臂300(未显示)将并非有缺陷的第一样品Sl从第二载台132b卸下并将其移动到第二卡匣420。
如上文所描述，在使用第一光学检验装置170检验第一样品Sl之后，通过使用第二光学检验装置180在微观级下放大并观测第一样品Si。然而，本发明不限于此情形。举例来说，如果在使用第一光学检验装置170检验第一样品Sl的表面之后确定第一样品Sl有缺陷，那么可通过使用扫描电子检验装置250在微观级下放大并观测第一样品Sl (S320)。 因此，使用机器人臂300携带第一样品Si，使其从光学检验单元100的第一载台13 通过扫描电子检验单元200的真空锁220，進入扫描电子检验装置250中。接下来，将第一样品 Sl放置于第三载台23 上，且通过使用扫描电子显微镜240用电子束扫描第一样品Sl。此时，使用与扫描电子显微镜240通信的第三读取器210，通过放大来自第一样品Sl的表面的二次电子或反射电子且将所得量子强度转换成亮度來捕捉第一样品Sl的图像。接着，观测图像以在微观级下寻找第一样品Sl的缺陷。在使用扫描电子检验装置250检验第一样品Sl之后，终止第一样品Sl的检验。接着，通过机器人臂300将有缺陷的第一样品Sl从第二载台132b卸下并将其携带到第二卡匣420。
如上文所描述，在通过使用第一光学检验装置170而在宏观级或中观级下完全观测第一样品Sl之后，通过使用扫描电子检验装置250在微观级下放大并观测第一样品Si。 以此方式，可精确地检验样品(S)，使具有宏观级或中观级缺陷或微观级缺陷的样品(S)通过的可能性较小。
在下文中，参看图1到图6，将给出关于根据示范性实施例的使用检验系统检验第二样品S2的方法的解释。将不描述或简单地描述与上述描述中所描述的程序相同的程序。 第二样品S2为形成有角锥形凸-凹结构P2的衬底，如图5(a)以及图6中所显示。
首先，通过使用机器人臂300将第二样品S2从第一卡匣410携带到光学检验单元 100的第一载台13加。接着，使用光学检验单元100的第一光学显微镜110在宏观级或中观级下放大并观测第二样品S2 (S100)。此时，在使用第一可水平移动部件133a水平地移动第二样品S2的同时，观测第二样品S2的整个区。使用与第一光学显微镜110通信的第一读取器140分析第二样品S2的图像以确定第二样品S2是否有缺陷(S200)。
如果在使用第一光学检验装置170完全地观测第二样品S2之后确定第二样品S2 并非有缺陷的，那么终止第二样品S2的检验。通过机器人臂300(未显示)将并非有缺陷的第二样品S2从第一载台13 卸下并将其携带到第三卡匣430。
如果在通过使用第一光学检验装置170在宏观级或中观级下完全观测第二样品 S2之后确定第二样品S2有缺陷，那么第一读取器140存储第二样品S2的缺陷的位置。接着，通过使用扫描电子检验单元200在微观级下放大并观测第二样品S2(S320)。详细地说， 使用机器人臂300携带第二样品S2，使其从光学检验单元100的第一载台13 通过扫描电子检验单元200的第三读取器210，進入扫描电子检验装置250中。将第二样品S2放置于第三载台23 上，且扫描电子显微镜240用电子束扫描第二样品S2。此时，使用与扫描电子显微镜240通信的第三读取器210来通过放大来自第二样品S2的表面的二次电子或反射电子且将所得量子强度转换成亮度而捕捉第二样品S2的图像。接着，观测图像以在微观级下检验第二样品S2的缺陷。
在使用扫描电子检验装置250检验第二样品S2之后，终止第二样品S2的检验。通过使用机器人臂300(未显示)将有缺陷的第二样品S2从第三载台23 卸下并将其携带到第二卡匣420。
根据当前实施例，尽管第二样品S2的凸-凹结构P2具有尖锐部分，但可精确地观测第二样品S2的特征，例如凸-凹结构P2的轮廓以及缺陷的位置、形状以及大小。另外， 由于在通过使用第一光学检验装置170在宏观级或中观级下完全检验第二样品S2之后通过使用扫描电子检验装置250在微观级下放大并观测第二样品S2，故可精确地检验第二样品S2，检测不到第二样品S2的宏观级或中观级缺陷或微观级缺陷的可能性较小。
在上文所描述的实施例中，将形成有半球形凸-凹结构Pl的第一衬底Wl用作第一样品Si，且将形成有角锥形凸-凹结构P2的第二衬底W2用作第二样品S2。然而，本发明不限于此情形。即，可将形成有各种凸-凹结构的衬底用作样品(S)。
如上文所描述，实施例的检验系统包括宏观光学检验装置，其用以在宏观级下放大样品；微观光学检验装置，其用以在微观级下放大样品；以及扫描电子检验装置，其用以通过用电子束扫描样品而放大样品。在通过使用宏观光学检验装置在宏观级下完全检验样品之后，根据样品的形状，通过使用微观光学检验装置或扫描电子检验装置在微观级下检验样品。
因此，可精确地检验样品，使有缺陷样品通过的可能性较小。另外，当使用微观光学检验装置或扫描电子检验装置检验样品时，使用宏观光学检验装置检测的样品缺陷坐标來放大并观测样品，可减少用微观光学检验装置或扫描电子检验装置检验样品所必要的时间。
此外，当检验具有尖锐部分或锐角部分的样品时，使用扫描电子检验装置在微观级下检验样品。因此，不会发生光学畸变。即，可以若干纳米的分辨率测量具有尖锐部分或锐角部分的样品而无图像畸变，且因此可改善检验精确度。
尽管已参考特定实施例描述样品检验系统以及使用所述系统检验样品的方法，但其不限于此情形。因此，本领域技术人员将容易理解，可在不偏离通过所附权利要求定义的本发明的精神以及范畴的情况下，对本发明作出各种修改以及改变。
权利要求
1.一种检验系统，其包括第一光学检验装置，其用以在宏观级或中观级下放大并观测样品； 第二光学检验装置，其与所述第一光学检验装置通信且用以在微观级下放大并观测样Pm ；扫描电子检验装置，其与所述第一光学检验装置以及所述第二光学检验装置通信且用以通过用电子束扫描样品而放大并观测所述样品；以及机器人臂，其用以将样品携带到所述第一光学检验装置、所述第二光学检验装置以及所述扫描电子检验装置。
2.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述扫描电子检验装置从样品捕捉三维图像。
3.根据权利要求1或2所述的检验系统，其进一步包括第一载台，其安置于对应于所述第一光学检验装置的下侧的位置处以用于支撑样品； 第二载台，其安置于对应于所述第二光学检验装置的下侧的位置处以用于支撑样品；以及第三载台，其安置于对应于所述扫描电子检验装置的下侧的位置处。
4.根据权利要求3所述的检验系统，其进一步包括用以水平地移动所述第一载台到所述第三载台的第一可水平移动部件到第三可水平移动部件。
5.一种使用检验系统检验样品的方法，所述检验系统包括第一光学检验装置，其用以在宏观级或中观级下放大并观测所述样品；第二光学检验装置，其用以在微观级下放大并观测所述样品；以及扫描电子检验装置，其用以放大并观测所述样品，所述方法包括通过使用所述第一光学检验装置完全检验所述样品； 确定所述样品是否有缺陷；在确定所述样品并非有缺陷的情况下，终止所述样品的检验；以及在确定所述样品有缺陷的情况下，根据所述样品的表面形状使用所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置检验所述样品。
6.根据权利要求5所述的方法，其中在所述使用所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置检验所述样品之前，所述方法进一步包括确定所述样品的所述表面形状。
7.根据权利要求5所述的方法，其中所述样品在其一侧上具有多个凸-凹结构。
8.根据权利要求5到7中任一项所述的方法，其中如果所述样品具有尖锐部分，那么在使用所述第一光学检验装置检验所述样品之后使用所述扫描电子检验装置检验所述样品。
9.根据权利要求5或7所述的方法，其中如果所述样品并不具有尖锐部分，那么在使用所述第一光学检验装置检验所述样品之后使用所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置检验所述样品。
10.根据权利要求5所述的方法，其中如果使用所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置检验所述样品，所述样品的一部分被放大并观测。
11.根据权利要求5所述的方法，其中所述第二光学检验装置或所述扫描电子检验装置从所述第一光学检验装置接收关于所述样品的缺陷的位置信息以便基于所述位置信息而放大所述样品。
全文摘要
本发明提供一种检验系统。所述检验系统包括第一光学检验装置，其用以在宏观级或中观级下放大并观测样品；第二光学检验装置，其与所述第一光学检验装置通信且用以在微观级下放大并观测样品；扫描电子检验装置，其与所述第一光学检验装置以及所述第二光学检验装置通信且用以通过用电子束扫描样品而放大并观测所述样品；以及机器人臂，其用以将样品携带到所述第一光学检验装置、所述第二光学检验装置以及所述扫描电子检验装置。因此，可精确地检验样品，使有缺陷样品通过的可能性较小。
文档编号G01N23/22GK102539447SQ20111032246
公开日2012年7月4日 申请日期2011年10月21日 优先权日2010年10月21日
发明者姜元求, 李镇焕 申请人:Ap系统股份有限公司