专利名称：涡流检测探头的制作方法
技术领域：
本发明涉及无损检测领域，尤其涉及ー种用于检测材质为40Cr的回转支承淬透层深度的涡流检测探头。
背景技术：
现有通用涡流检测探头很容易检测出管材、线材等诸多材料，但对材质为40Cr的回转支承淬火层金属组织不敏感，很难识别出淬火层金属材料，造成漏检，影响材料的相关产品的质量。因此，涡流检测探头急需得到改进。
发明内容
本发明的目的是提供ー种能识别材质为40Cr的回转支承淬火层金属组织的检测探头，克服现有技术中涡流检测探头对材质为40Cr的回转支承表面淬火层识别不敏感、容易漏检的技术问题。实现上述目的的技术方案是ー种涡流检测探头，包括绕组单元和封装绕组单元的外壳；所述绕组単元包括磁芯，绕在磁芯上的检测线圈和绕在检测线圈上的激励线圈；所述外壳的上部设有通孔，所述外壳的下部设有空腔；所述绕组単元被封装在外壳下部的空腔内；所述激励线圈由直径为O. iro. 16mm的漆包铜线绕制445 450匝形成；检测线圈由直径为O. 05 0. 07mm的漆包铜线绕制1400 1500匝形成。进ー步的，所述外壳的下端还固定联接ー个可以避免提离效应的卡槽，所述卡槽的A面为ー斜面。优选的，所述卡槽的A面与探头外壳的B面呈105°的α夹角。优选的，所述激励线圈由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1500匝形成。优选的，所述激励线圈由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制445匝形成；检测线圈由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。优选的，所述激励线圈由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。优选的，所述激励线圈由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1500匝形成。优选的，所述激励线圈由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为O. 05mm的漆包铜线绕制1500匝形成。优选的，所述激励线圈由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1400匝形成。优选的，所述激励线圈由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1400匝形成。优选的，所述激励线圈由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。采用本发明后,材质为40Cr的回转支承齿顶面3_5mm的淬火层组织均能比较准确的检测到；卡槽不仅可以避免提离效应，且可以适合不同齿深的回转支承的检测。
图I为本发明的结构示意图。图中1.卡槽；2.绕组单元；3.外壳；4.通孔；5.空腔。图2为激励线圈、检测线圈和磁芯的局部放大图。
图中2-1.磁芯'2-2.检测线圈；2-3.激励线圈。
具体实施例方式下面结合附图和实施例对本发明作进ー步详细的说明。如图f 2所示，ー种涡流检测探头，包括绕组单元2和封装绕组单元的外壳3 ;所述绕组単元2包括磁芯2-1，绕在磁芯2-1上的检测线圈2-2和绕在检测线圈2-2上的激励线圈2-3 ;所述外壳3的上部设有通孔4，检测线圈2-2和激励线圈2-3从所述通孔4中引出漆包铜线的线头；所述外壳3的下部设有空腔5 ;所述绕组単元2被封装在所述空腔5内；所述激励线圈2-3由直径为O. ΙΟ. 16mm的漆包铜线绕制445 450匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 05^0. 07mm的漆包铜线绕制1400 1500匝形成。进ー步的，所述外壳3的下端还固定联接ー个可以避免提离效应的卡槽1，所述卡槽I的A面为ー斜面，在检测过程中所述A面与被检测的回转支承的齿背较为紧密贴合，由于A面为ー斜面，可适合各种不同齿槽宽度的回转支承检测。齿槽宽度越宽，卡槽的A面与齿背贴合范围越大。优选的，所述卡槽I的A面与探头外壳3的B面呈105°的α夹角。优选的，所述激励线圈2-3由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1500匝形成。优选的，所述激励线圈2-3由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制445匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。优选的，所述激励线圈2-3由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。优选的，所述激励线圈2-3由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1500匝形成。优选的，所述激励线圈2-3由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 05mm的漆包铜线绕制1500匝形成。优选的，所述激励线圈2-3由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1400匝形成。优选的，所述激励线圈2-3由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1400匝形成。优选的，所述激励线圈2-3由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈2-2由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。
本发明的激励线圈 可选用445 450匝，如445匝、450匝等；检测线圈可选用1400 1500阻，如1400匝、1450匝、1500匝等；激励线圈铜线直径可选用O. 05 O. 07mm，如
O.05mm、0. 06mm、0. 07mm 等；检测线圈铜线直径可选用 O. 14 O. 16mm,如 O. 14mm、0. 15mm、
O.16mm等。利用本发明对实为3mm淬火层、材质为40Cr的回转支承齿顶面进行检测，相对误差均< 5. 3%，具体实施例详见表I。表I
权利要求
1.ー种涡流检测探头，包括绕组单元(2)和封装绕组单元(2)的外壳(3);所述绕组单元(2)包括磁芯(2-1)，绕在磁芯(2-1)上的检测线圈(2-2)和绕在检测线圈(2-2)上的激励线圈(2-3);所述外壳(3)的上部设有通孔(4)，所述外壳(3)的下部设有空腔(5)；所述绕组単元(2)被封装在所述空腔(5)内；其特征在干所述激励线圈(2-3)由直径为O.ΙΟ. 16mm的漆包铜线绕制445 450匝形成；检测线圈(2_2)由直径为O. 05 0. 07mm的漆包铜线绕制1400 1500匝形成。
2.根据权利要求I所述的涡流检测探头，其特征在于所述外壳(3)的下端还固定联接ー个可以避免提离效应的卡槽(I )，所述卡槽(I)的A面为ー斜面。
3.根据权利要求2所述的涡流检测探头，其特征在于所述卡槽(I)的A面与探头外壳(3)的B面呈105°的α夹角。
4.根据权利要求2或3所述的涡流检测探头，其特征在于所述激励线圈(2-3)由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈(2_2)由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1500匝形成。
5.根据权利要求2或3所述的涡流检测探头，其特征在于所述激励线圈(2-3)由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制445阻形成；检测线圈(2-2)由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。
6.根据权利要求2或3所述的涡流检测探头，其特征在于所述激励线圈(2-3)由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈(2-2)由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。
7.根据权利要求2或3所述的涡流检测探头，其特征在于所述激励线圈(2-3)由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈(2-2)由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1500匝形成。
8.根据权利要求2或3所述的涡流检测探头，其特征在于所述激励线圈(2-3)由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈(2_2)由直径为O. 05mm的漆包铜线绕制1500匝形成。
9.根据权利要求2或3所述的涡流检测探头，其特征在于所述激励线圈(2-3)由直径为O. 16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈(2-2)由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1400匝形成。
10.根据权利要求2或3所述的涡流检测探头，其特征在于所述激励线圈(2-3)由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈(2_2)由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1400匝形成。
11.根据权利要求2或3所述的涡流检测探头，其特征在于所述激励线圈(2-3)由直径为O. 15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈(2_2)由直径为O. 06mm的漆包铜线绕制1450匝形成。
全文摘要
本发明涉及无损检测领域，尤其涉及一种用于检测材质为40Cr的回转支承淬透层的涡流检测探头，包括绕组单元(2)和封装绕组单元的外壳(3)；所述绕组单元(2)包括磁芯(2-1)，绕在磁芯(2-1)上检测线圈(2-2)和绕在检测线圈(2-2)上的激励线圈(2-3)；所述外壳(3)的上部设有通孔(4)，下部设有空腔(5)；所述绕组单元(2)被封装在所述空腔(5)内；所述激励线圈(2-3)由直径为0.14~0.16mm的漆包铜线绕制445~450匝形成；检测线圈(2-2)由直径为0.05~0.07mm的漆包铜线绕制1400~1500匝形成。采用上述技术方案后，克服了涡流检测探头对材质为40Cr的回转支承表面淬火层识别不敏感，容易漏检的技术问题。
文档编号G01B7/26GK102645157SQ20121013475
公开日2012年8月22日 申请日期2012年5月3日 优先权日2012年5月3日
发明者林俊明, 虞文武, 金佳琳 申请人:常州机电职业技术学院