使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统和方法
【专利摘要】本发明公开了一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统和方法，该系统包括二次离子质谱仪，中性溅射物收集装置，离子源和小型质谱仪，所述中性溅射物收集装置收集所述二次离子质谱仪在分析样品时产生的中性溅射物，并将其传送至所述离子源离子化后由所述小型质谱仪进行质量分析，所述二次离子质谱仪和所述小型质谱仪分别用来分析所述样品中的金属元素和非金属元素，或者，所述二次离子质谱仪和所述小型质谱仪分别用来分析所述样品中的非金属元素和金属元素，通过二次离子质谱仪和小型质谱仪能够达到同时分析样品中金属元素和非金属元素的目的。
【专利说明】使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统和方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及分析仪器【技术领域】，特别涉及一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统和方法。
【背景技术】
[0002]常见的二次离子质谱仪是使用离子对样品进行轰击，使样品被电离，产生代表样品成分的二次离子，进而使用质谱仪对二次离子进行定性和定量分析。一般采用磁场做质量分析器的二次离子质谱仪的原理如图1所示，一次离子源I产生一次离子2。一次离子2经过离子光学透镜3，5，6产生的电场聚焦到样品7的表面，对样品7进行轰击。一次离子2和离子光学透镜3，5，6位于真空腔4内。一次离子2对样品7进行轰击，将部分样品7离子化，产生二次离子9。二次离子9经过离子光学透镜10，11，12，静电场分析器13，离子光学透镜15，磁场分析器16，离子光学透镜18，到达接收器19。样品7和离子光学透镜10，11，12位于第一真空腔体8内。离子光学透镜15位于真空腔14内。离子光学透镜18位于真空腔17内。静电场分析器13和磁场分析器16组成双聚焦结构，在实现二次离子9的质量分离的同时，实现角度聚焦和能量聚焦。在使用一次离子2轰击样品7产生的溅射物质中，二次离子9只占有很小一部分，大部分溅射物质以原子，分子或分子集团的形式存在。将轰击过程中产生的二次离子9引入质谱仪。磁场分析器16的强度决定了接收器19所接收到的离子种类。根据接收器19所接收的信号强度，就可以对样品7进行定性和定量分析。
[0003]但是这种传统的二次离子质谱仪不能同时分析非金属元素和金属元素，这是因为:在使用二次离子质谱仪分析样品时，如果需要分析样品中的非金属元素，一般使用Cs+或Ga+等金属离子轰击样品，样品加负电压；样品中的非金属元素得到电子变成负离子，由于样品带负电，生成的负离子被推入质谱仪进行质量分析；如果需要分析样品中的金属元素，一般使用0-离子等非金属离子轰击样品，样品加正电压，样品中的金属元素失去电子变成正离子，由于样品带正电，生成的正离子被推入质谱仪进行质量分析。由于分析金属元素和非金属元素需要使用不同的离子来进行轰击，样品加不同极性的电压，且二次离子的极性不同，因此使用传统的二次离子质谱仪对样品中的金属元素和非金属元素是不能同时进行分析的。
[0004]因此需要一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统和方法。
【发明内容】
[0005]本发明的主要目的是提供一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统。
[0006]本发明的另一目的是提供一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的方法。[0007]为了达到上述目的，本发明提供了一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统，包括二次离子质谱仪，中性溅射物收集装置，离子源和小型质谱仪，其特征在于，所述中性溅射物收集装置收集所述二次离子质谱仪在分析样品时产生的中性溅射物，并将其传送至所述离子源离子化后由所述小型质谱仪进行质量分析，所述二次离子质谱仪和所述小型质谱仪分别用来分析所述样品中的金属元素和非金属元素，或者，所述二次离子质谱仪和所述小型质谱仪分别用来分析所述样品中的非金属元素和金属元素。
[0008]在上述任一方案中优选的是，所述中性溅射物收集装置、离子源和小型质谱仪位于第二真空腔体内，所述中性溅射物收集装置的前端入孔与所述二次离子质谱仪的第一真空腔体连接，末端出孔与所述离子源连接。
[0009]在上述任一方案中优选的是，还包括与所述第二真空腔体连接的分子泵，在所述分子泵的作用下，所述第二真空腔体内的压力低于所述第一真空腔体内的压力。
[0010]在上述任一方案中优选的是，所述中性溅射物收集装置为一漏斗结构，其前端入孔和所述第二真空腔体的入口重合，并通过标准法兰接口连接于所述第一真空腔体，其末端出孔位于所述离子源内部。
[0011]在上述任一方案中优选的是，所述第一真空腔体，第二真空腔体和中性溅射物收集装置均连接于地电位，所述离子源和小型质谱仪均通过标准法兰接口固定于所述第二真空腔体上，并通过该标准法兰接口为其供电。
[0012]在上述任一方案中优选的是，所述中性溅射物收集装置和第二真空腔体为无磁不锈钢材料制成，所述样品位于所述第一真空腔体内，所述中性溅射物收集装置位于所述第二真空腔体和第一真空腔体之间，其末端出孔为所述第二真空腔体和第一真空腔体之间的物质通道。
[0013]在上述任一方案中优选的是，所述二次离子质谱仪采用一台二次离子质谱仪，所述离子源能够采用电子轰击或激光照射的方式将所述中性溅射物离子化，所述小型质谱仪包括四极杆质谱仪或飞行时间质谱仪。
[0014]本发明还提供了一种一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的方法，其特征在于，采用包括二次离子质谱仪、中性溅射物收集装置、离子源和小型质谱仪构成的系统来实现分析过程，包括以下步骤:
(1)使用所述二次离子质谱仪中的一次离子轰击样品溅射出二次离子和中性溅射物；
(2)使用所述二次离子质谱仪分析所述二次离子，以分析所述样品中的金属元素或非金属兀素；
(3)使用所述中性溅射物收集装置收集所述中性溅射物，并将其传送至所述离子源离子化；
(4)使用所述小型质谱仪对离子化后的所述中性溅射物进行质量分析:在所述二次离子质谱仪用来分析所述样品中的金属元素时，所述小型质谱仪用来分析所述样品中的非金属元素；在所述二次离子质谱仪用来分析所述样品中的非金属元素时，所述小型质谱仪用来分析所述样品中的金属元素。
[0015]在上述任一方案中优选的是，所述中性溅射物收集装置、离子源和小型质谱仪位于第二真空腔体内，所述中性溅射物收集装置的前端入孔与所述二次离子质谱仪的第一真空腔体连接，末端出孔与所述离子源连接。[0016]在上述任一方案中优选的是，所述系统还包括与所述第二真空腔体连接的分子泵，在所述分子泵的作用下，所述第二真空腔体内的压力低于所述第一真空腔体内的压力。
[0017]在上述任一方案中优选的是，所述中性溅射物收集装置为一漏斗结构，其前端入孔和所述第二真空腔体的入口重合，并通过标准法兰接口连接于所述第一真空腔体，其末端出孔位于所述离子源内部。
[0018]在上述任一方案中优选的是，所述第一真空腔体，第二真空腔体和中性溅射物收集装置均连接于地电位，所述离子源和小型质谱仪均通过标准法兰接口固定于所述第二真空腔体上，并通过该标准法兰接口为其供电。
[0019]在上述任一方案中优选的是，所述中性溅射物收集装置和第二真空腔体为无磁不锈钢材料制成，所述样品位于所述第一真空腔体内，所述中性溅射物收集装置位于所述第二真空腔体和第一真空腔体之间，其末端出孔为所述第二真空腔体和第一真空腔体之间的物质通道。
[0020]在上述任一方案中优选的是，所述二次离子质谱仪采用一台二次离子质谱仪，所述离子源能够采用电子轰击或激光照射的方式将所述中性溅射物离子化，所述小型质谱仪包括四极杆质谱仪或飞行时间质谱仪。
[0021]与现有技术中仅使用二次离子质谱仪分析样品的技术相比，本发明具有以下优点
1、在使用二次离子质谱仪分析样品中金属元素(或非金属元素)的同时，小型质谱仪能够同时分析样品中的非金属元素(或金属元素)，从而扩展了二次离子质谱仪的功能，能够达到使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的目的。
[0022]2、两台质谱仪(也即二次离子质谱仪和小型质谱仪)并行工作，同时对样品进行分析，能够提升获取样品信息的能力和效率，从而对样品的非金属元素和金属元素进行全面分析。
【专利附图】
【附图说明】
[0023]为了更清楚的说明本发明的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见的，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为传统的二次离子质谱仪的结构示意图；
图2为本发明实施例1使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统的结构示意图。
[0024]图3为本发明实施例2使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的方法流程示意图。
【具体实施方式】
[0025]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，不是全部的实施例，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。[0026]实施例1
如图2所示，本发明实施例1提供了一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统，包括二次离子质谱仪，中性溅射物收集装置20，离子源22和小型质谱仪24，所述中性溅射物收集装置20收集所述二次离子质谱仪在分析样品7时产生的中性溅射物21 (这里的中性溅射物21也称为电中性溅射物，中性溅射物收集装置20也称为电中性溅射物收集装置)，并将其传送至所述离子源22离子化后由所述小型质谱仪24进行质量分析，所述二次离子质谱仪和所述小型质谱仪分别用来分析所述样品中的金属元素和非金属元素，或者，所述二次离子质谱仪和所述小型质谱仪分别用来分析所述样品中的非金属元素和金属元素。
[0027]通过这种方式，在使用二次离子质谱仪分析样品中金属元素(或非金属元素)的同时，小型质谱仪能够同时分析样品中的非金属元素(或金属元素)，从而扩展了二次离子质谱仪的功能，能够达到使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的目的。
[0028]所述中性溅射物收集装置20、离子源22和小型质谱仪24位于第二真空腔体26内，所述中性溅射物收集装置20的前端入孔28与所述二次离子质谱仪的第一真空腔体8连接，末端出孔27与所述离子源22连接。
[0029]通过这种方式，所述中性溅射物收集装置20、离子源22和小型质谱仪24集成在第二真空腔体26内，所述中性溅射物收集装置20通过前端入孔28引导中性溅射物进入其内实现收集功能，并通过末端出孔27将其传至所述离子源22中进行离子化，便于后续小型质谱仪24对其进行质量分析。
[0030]本发明的系统还可以包括与所述第二真空腔体连接的分子泵23(例如固定在第二真空腔体的侧壁上)，在所述分子泵23的作用下，所述第二真空腔体26内的压力例如可以低于所述第一真空腔体8内的压力。此时由于两个腔体的压力差别，中性溅射物21易于通过中性溅射物收集装置20的末端出孔27进入第二真空腔体26内的离子源22中，方便离子化。
[0031]中性溅射物收集装置20例如可以为一漏斗结构，其前端入孔28可以和所述第二真空腔体26的入口 29重合(如图2所示，两者共用上部开口，使得两者之间形成密封的真空结构，而中性溅射物收集装置20能够与第一真空腔体8相连通)，并通过标准法兰接口连接于所述第一真空腔体8，其末端出孔27可以位于所述离子源内部。这样能够使中性溅射物21直接进入离子源22内，易于离子化变为离子25。
[0032]所述第一真空腔体8，第二真空腔体26和中性溅射物收集装置20均连接于地电位(也即连接到地线)，所述离子源22和小型质谱仪24均通过标准法兰接口固定于所述第二真空腔体26上，并通过该标准法兰接口为其供电(由于离子源22和小型质谱仪24位于第二真空腔体26内，为不破坏真空环境，需要通过将两者安装在第二真空腔体26上的法兰接口进行供电，例如使电线穿过法兰接口进入第二真空腔体26内并与离子源22和小型质谱仪24电连接，以实现供电驱动其工作)。
[0033]所述中性溅射物收集装置20和第二真空腔体26为无磁不锈钢材料制成，所述样品7位于所述第一真空腔体8内(与图1中常规的二次离子质谱仪相同)，所述中性溅射物收集装置20位于所述第二真空腔体26和第一真空腔体8之间(如图2所示，中性溅射物收集装置20事实上夹在第二真空腔体26和第一真空腔体8之间，并将第一真空腔体8中的中性溅射物引导到第二真空腔体26中的离子源22中)，其末端出孔27为所述第二真空腔体和第一真空腔体之间的物质通道(也即事实上作为中性溅射物进入第二真空腔体26中的离子源22的通道)。
[0034]所述二次离子质谱仪采用一台二次离子质谱仪，所述离子源22能够采用电子轰击或激光照射的方式将所述中性溅射物离子化，所述小型质谱仪24包括四极杆质谱仪或飞行时间质谱仪。
[0035]实施例2
如图2所示，本发明实施例2提供了一种使用二次离子质谱仪同时分析样品中非金属元素和金属元素的系统。该系统包括中性溅射物收集装置20 (例如呈漏斗状，漏斗的前端入孔与第一真空腔体8连接，末端出孔27与离子源22连接)，离子源22，小型质谱仪24，第二真空腔体26，分子泵23 (抽真空的作用)。中性溅射物收集装置20，离子源22和小型质谱仪24均位于第二真空腔体26内。
[0036]中性溅射物收集装置20和第二真空腔体26为无磁不锈钢材料制成，通过标准法兰接口连接于第一真空腔体8。中性溅射物收集装置20为一漏斗结构，由无磁不锈钢材料制成，位于第二真空腔体26和第一真空腔体8之间。中性溅射物收集装置20的末端出孔27为第二真空腔体26和第一真空腔体8之间的物质通道。中性溅射物通过中性溅射物收集装置20的末端出孔27位于离子源22内部，以提高中性溅射物被离子化的概率。第一真空腔体8，第二真空腔体26，中性溅射物收集装置20均连接与地电位。离子源22和小型质谱仪24均固定于第二真空腔体26上(如图2所示，例如可以固定在第二真空腔体26的内壁上)，并通过标准的法兰接口为其供电。分子泵23通过标准法兰接口连接于第二真空腔体26。
[0037]本发明是将二次离子质谱分析过程中产生的中性溅射物21引入第二真空腔体26内，由小型质谱仪24对其进行质量分析。例如，可以采用分子泵23，在分子泵23的作用下，第二真空腔体26内的压力低于第一真空腔体8内的压力。由于两个腔体的压力差别，中性溅射物21易于通过中性溅射物收集装置20的末端出孔27进入第二真空腔体26内的离子源22中。中性溅射物收集装置20具有漏斗状的结构，其末端出孔27例如可以位于体积较小的离子源22内部，以使中性溅射物21直接进入离子源22内，易于离子化变为离子25。将生成的离子25 (也即离子化后的中性溅射物)送入小型质谱仪24，实现质量分析。中性溅射物21在离子源22内实现离子化，产生离子25，离子化方法可以是电子轰击离子化或激光轰击离子化。小型质谱仪24可以是四极杆质谱仪或飞行时间质谱仪。
[0038]例如所分析的样品7为锆石矿物。锆石的主要化学成分是Zr2Si04，可含有Li，Mg，Ti，U，Th, Pb, Hf, Fe, Al, Nb等金属元素。在使用二次离子质谱分析锆石中的氧同位素时，使用Cs+轰击锆石样品，锆石样品加负电压，产生的电负性的粒子受到排斥离开样品表面，最终进入磁场分析器，实现质量分析。由于016-，017-，018-具有不同的质量，在磁场中具有不同的运动轨迹，最后进入不同的接收器。根据各个接收器所接收到的信号的强度，就可以确定锆石样品中的氧同位素组成。在使用Cs+轰击锆石样品的过程中，各种金属元素不易形成负离子，它们大多数以电中性的形式存在，是中性溅射物21的一部分。将这些电中性的物质通过中性溅射物收集装置20收集起来，引入离子源22内。在离子源22内，使用一定能量的电子或特定波长的激光对中性溅射物21进行轰击，将其转变成离子25(可能包括 Li+，Mg+, Ti+, U+，Th+, Pb+, Hf+, Fe+, Al+, Nb+等等)。使用小型质谱仪 24确定这些离子的种类和数量，就能实现对锆石样品中金属元素的定性定量分析。小型质谱仪24可以采用广泛使用的四极杆质谱仪或飞行时间质谱仪等。二次离子质谱仪分析锆石样品中的氧同位素，小型质谱仪分析锆石样品中的金属元素，两台质谱仪并行工作，实现同时分析锆石样品中金属元素和非金属元素的目的。
[0039]实施例3
本发明实施例3提供了一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的方法，采用包括二次离子质谱仪、中性溅射物收集装置20、离子源22和小型质谱仪24构成的系统来实现分析过程，该系统结构例如可以与实施例1相同，参见图2所示，本发明实施例3的方法包括以下步骤:
(1)使用所述二次离子质谱仪中的一次离子2轰击样品7溅射出二次离子9和中性溅射物21 ；
(2)使用所述二次离子质谱仪分析所述二次离子9，以分析所述样品7中的金属元素或非金属兀素；
(3)使用所述中性溅射物收集装置收集所述中性溅射物21，并将其传送至所述离子源22离子化；
(4)使用所述小型质谱仪24对离子化后的所述中性溅射物25进行质量分析:在所述二次离子质谱仪用来分析所述样品7中的金属元素时，所述小型质谱仪用来分析所述样品7中的非金属元素；在所述二次离子质谱仪用来分析所述样品7中的非金属元素时，所述小型质谱仪用来分析所述样品7中的金属元素。
[0040]所述中性溅射物收集装置20、离子源22和小型质谱仪24位于第二真空腔体内，所述中性溅射物收集装置的前端入孔与所述二次离子质谱仪的第一真空腔体连接，末端出孔与所述离子源连接。
[0041]所述系统还包括与所述第二真空腔体连接的分子泵，在所述分子泵的作用下，所述第二真空腔体内的压力低于所述第一真空腔体内的压力。
[0042]所述中性溅射物收集装置20为一漏斗结构，其前端入孔和所述第二真空腔体的入口重合，并通过标准法兰接口连接于所述第一真空腔体，其末端出孔位于所述离子源内部。
[0043]所述第一真空腔体8，第二真空腔体26和中性溅射物收集装置20均连接于地电位，所述离子源和小型质谱仪均通过标准法兰接口固定于所述第二真空腔体上，并通过该标准法兰接口为其供电。
[0044]所述中性溅射物收集装置20和第二真空腔体26为无磁不锈钢材料制成，所述样品位于所述第一真空腔体8内，所述中性溅射物收集装置位于所述第二真空腔体和第一真空腔体之间，其末端出孔为所述第二真空腔体和第一真空腔体之间的物质通道。
[0045]所述二次离子质谱仪采用一台二次离子质谱仪，所述离子源22能够采用电子轰击或激光照射的方式将所述中性溅射物离子化，所述小型质谱仪24包括四极杆质谱仪或飞行时间质谱仪。
[0046]实施例4
如图3所示，本发明实施例4提供了一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的方法，采用了实施例2中提供的使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统，该方法包括以下步骤:
步骤1，将系统抽至真空状态。
[0047]步骤2，将样品7和系统内各个离子光学透镜(如图1所示各离子光学透镜)加相应电压。
[0048]步骤3，使用一定能量的一次离子2轰击样品。
[0049]步骤4，轰击过程中产生的二次离子9被推离样品表面，进入二次离子质谱仪，轰击过程中产生的中性溅射物21被中性溅射物收集装置20收集至离子源22。
[0050]步骤5，二次离子质谱仪对轰击过程中产生的二次离子进行质量分析，同时轰击过程中产生的中性溅射物21被离子源22离子化，由小型质谱仪24进行质量分析。
[0051]通过以上的实施方式的描述，本领域的技术人员可以清楚地了解到本发明还可以通过其他结构来实现，本发明的特征并不局限于上述较佳的实施例。任何熟悉该项技术的人员在本发明的【技术领域】内，可轻易想到的变化或修饰，都应涵盖在本发明的专利保护范围之内。
【权利要求】
1.一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的系统，包括二次离子质谱仪，中性溅射物收集装置，离子源和小型质谱仪，其特征在于，所述中性溅射物收集装置收集所述二次离子质谱仪在分析样品时产生的中性溅射物，并将其传送至所述离子源离子化后由所述小型质谱仪进行质量分析，所述二次离子质谱仪和所述小型质谱仪分别用来分析所述样品中的金属元素和非金属元素，或者，所述二次离子质谱仪和所述小型质谱仪分别用来分析所述样品中的非金属元素和金属元素。
2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述中性溅射物收集装置、离子源和小型质谱仪位于第二真空腔体内，所述中性溅射物收集装置的前端入孔与所述二次离子质谱仪的第一真空腔体连接，末端出孔与所述离子源连接。
3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，还包括与所述第二真空腔体连接的分子泵，在所述分子泵的作用下，所述第二真空腔体内的压力低于所述第一真空腔体内的压力。
4.如权利要求2或3所述的系统，其特征在于，所述中性溅射物收集装置为一漏斗结构，其前端入孔和所述第二真空腔体的入口重合，并通过标准法兰接口连接于所述第一真空腔体，其末端出孔位于所述离子源内部。
5.如权利要求2或3所述的系统，其特征在于，所述第一真空腔体，第二真空腔体和中性溅射物收集装置均连接于地电位，所述离子源和小型质谱仪均通过标准法兰接口固定于所述第二真空腔体上，并通过该标准法兰接口为其供电。
6.如权利要求2或3所述的系统，其特征在于，所述中性溅射物收集装置和第二真空腔体为无磁不锈钢材 料制成，所述样品位于所述第一真空腔体内，所述中性溅射物收集装置位于所述第二真空腔体和第一真空腔体之间，其末端出孔为所述第二真空腔体和第一真空腔体之间的物质通道。
7.如权利要求1-3任一项所述的系统，其特征在于，所述二次离子质谱仪采用一台二次离子质谱仪，所述离子源能够采用电子轰击或激光照射的方式将所述中性溅射物离子化，所述小型质谱仪包括四极杆质谱仪或飞行时间质谱仪。
8.一种使用二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素的方法，其特征在于，采用包括二次离子质谱仪、中性溅射物收集装置、离子源和小型质谱仪构成的系统来实现分析过程，包括以下步骤: (1)使用所述二次离子质谱仪中的一次离子轰击样品溅射出二次离子和中性溅射物； (2)使用所述二次离子质谱仪分析所述二次离子，以分析所述样品中的金属元素或非金属兀素； (3)使用所述中性溅射物收集装置收集所述中性溅射物，并将其传送至所述离子源离子化； (4)使用所述小型质谱仪对离子化后的所述中性溅射物进行质量分析:在所述二次离子质谱仪用来分析所述样品中的金属元素时，所述小型质谱仪用来分析所述样品中的非金属元素；在所述二次离子质谱仪用来分析所述样品中的非金属元素时，所述小型质谱仪用来分析所述样品中的金属元素。
9.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述中性溅射物收集装置、离子源和小型质谱仪位于第二真空腔体内，所述中性溅射物收集装置的前端入孔与所述二次离子质谱仪的第一真空腔体连接，末端出孔与所述离子源连接。
10.如权利要求9所述的系统，其特征在于，所述系统还包括与所述第二真空腔体连接的分子泵，在所述分子泵的作用下，所述第二真空腔体内的压力低于所述第一真空腔体内的压 力。
【文档编号】G01N27/64GK103645240SQ201310654614
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年12月9日 优先权日:2013年12月9日
【发明者】唐国强, 赵洪 申请人:中国科学院地质与地球物理研究所