一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法
【专利摘要】本发明涉及一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法，该缓冲层镀膜为SiCxOy，0＜x＜1，1＜y＜4，属于镀膜玻璃检测领域。该方法是在获得SiCxOy缓冲层镀膜玻璃椭圆偏振光谱的基础之上，引入三层膜层结构以及光学色散方程，通过迭代来回归实测椭偏光谱，最终获得SiCxOy镀膜玻璃的膜层结构及其每一层的光学参数，利用该方法实现镀膜玻璃光学性能的在线监控。本发明仅采用椭偏光学测试手段便可准确地获得薄膜的膜层结构及光学参数，对样品无损伤、测量耗时少、测试方法简便、对被测样品表面无特殊要求，十分适合于SiCxOy节能镀膜玻璃的性能检测及监控。
【专利说明】一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种对Si基缓冲层镀膜玻璃光学参数的检测方法，属于镀膜玻璃检测领域。
【背景技术】
[0002]缓冲层薄膜，是一种介于目标功能薄膜与基板之间的过渡薄膜，在多层膜体系中往往起到重要的桥梁作用，如消除目标功能层薄膜与基板的晶格失配度、阻挡基板中有害元素向目标功能薄膜的扩散、优化整体膜系的光学特性等。非晶SiCxOy缓冲层薄膜便是一种广泛应用于透明导电氧化物膜系中的缓冲层薄膜，它与玻璃基底及大部分氧化物薄膜均有优异的结构相容性，非晶的物质结构也使其具有良好的有阻挡特性，更为重要的是，能够采用常压化学气相沉积的方法制备SiCxOy缓冲层薄膜使其能与浮法玻璃在线镀膜具有很好的工艺兼容性，有利于大面积镀膜。
[0003]然而，当采用SiCxOy层来作为浮法玻璃与透明导电氧化物薄膜之间的缓冲层时，由于该Si系缓冲层薄膜无论从成分还是光学参数上都与基板玻璃十分相似，采用常规的光学测量手段难以准确获得该层薄膜的精细结构及其光学参数，这些都使得整体膜系的光学特性难以设计及优化。虽然基于透、反射光谱的拟合获得薄膜光学参数的方法(ZL200610053955.9，一种测量镀膜玻璃薄膜光学参数的方法)初步解决了 Si系镀膜玻璃光学参数快速检测的问题，但是该发明将Si系镀膜玻璃假设为一层均质平整的薄膜处理，与实际情况不符，因此在检测中尚存在一定的偏差。
[0004]椭圆偏振光谱测量是一种快速、非接触式、非破坏性、高精度的光学分析技术，它通过研究光波同样品作用后偏振态的变化来获得薄膜的光学特性，对小至单原子层厚度的膜层结构及微小的折射率变化都非常敏感，可被用于精度要求较高、薄膜/基板区分度较小的缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法，以实现对Si基缓冲层镀膜玻璃的结构信息及光学参数进行实时快速、简便、准确的检测。
[0006]本发明的Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法，该缓冲层镀膜玻璃为SiCxOy, O < X < 1,1 < y < 4，其特征是步骤如下:
[0007] 利用光度式椭圆偏振光谱仪测量SiCxOy缓冲层玻璃在紫外~可见波段光谱范围内的椭偏参数，记为CosAm及tanWM,同时在测量波长λ处写出椭偏参数关于折射2 n
消光系数系和膜厚3的函数，记为cosA(_(/; J Ji) RtanvViin J ,d),其中和]均为一阶向量，向量维数等于建立模型的膜层数，针对SiCxOy缓冲层镀膜玻璃，膜层数及向量维数为
3,建立 cos Δμ，tanWM 与 cosA(.(rt ,k,d), ?αηΨ( (/; ,k ,d )之间的均方差函数 MSE,如式(I)所示:[0008]
【权利要求】
1.一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法，该缓冲层镀膜玻璃为SiCxOy, O < X< I, I < y < 4,其特征是步骤如下: 利用光度式椭圆偏振光谱仪测量SiCxOy缓冲层玻璃在紫外~可见波段光谱范围内的椭偏参数，记为CosAm及tanWM，同时在测量波长λ处写出椭偏参数关于折射率;;,消光系数$和膜厚J的函数，记为CosArO ,k )及UinH\.(n J J ),其中/; I和J均为一阶向量，向量维数等于建立模型的膜层数，针对SiCxOy缓冲层镀膜玻璃，膜层数及向量维数为3，建立COS Δμ, tanWM 与cosA(.(" ,k,d), IanTc (/; ,k ,d )之间的均方差函数 MSE,如式(I)所示:
【文档编号】G01M11/02GK103884494SQ201410108173
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2014年3月21日 优先权日:2014年3月21日
【发明者】刘涌, 王慷慨, 程波, 宋晨路, 韩高荣, 杨振辉, 王菊, 苏婷 申请人:浙江大学