可钢化低辐射镀膜玻璃的制作方法

文档序号:2474954阅读:193来源:国知局
专利名称:可钢化低辐射镀膜玻璃的制作方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜玻璃,具体是一种可钢化低辐射镀膜玻璃。
背景技术
随着国产设备性能的提升及镀膜玻璃产品的大批量投入使用,目前市场上的普通低辐射镀膜玻璃产品市场竞争激烈。传统低辐射镀膜玻璃在玻璃完成镀膜后必须要在短时间内完成中空玻璃,因此玻璃不能长途运输到异地合成中空,这为玻璃大规模推广及加工带来了限制。某些玻璃深加工企业为了保持自身在竞争中优势,利用自身国外设备性能的优势,来提高生产效率,降低成本以提升产品的竞争力,而可异地加工的低辐射镀膜玻璃便由此而来,然而目前市场上的可异地加工的低辐射镀膜玻璃经常由于膜层硬度不够,在预处理过程中容易造成划伤、擦伤,并且抗氧化能力较差,储存时间稍长便会出现氧化现象,

发明内容
本发明的技术目是解决现有技术中存在的问题,提供一种耐磨性高、抗氧化性能好的可钢化低辐射镀膜玻璃本发明的技术方案是一种可钢化低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜,其特征在于所述镀膜自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、红外线阻隔层、第二保护层和第二电介质层。所述红外线阻隔层为银合金材料。作为优选,所述银合金材料可选用现有的Ag-Cu 合金、Ag-Zn合金、Ag-Ni合金或Ag-Ti合金。所述的第一电介质层、第二电介质层的膜层材料为Si3N4、Si0xNy、Si02中的一种或几种,即其膜层材料可以是一种材料构成的单层,或是几种材料混合的膜层,或者是几种材料各自的单层叠加的组合层构成。所述第一保护层、第二保护层为的膜层材料为NiCr、NiCrOx、CrNx, ZrO, AZO、 NiCrNx中的一种或几种。上述各膜层的镀制工艺为第一电介质层和第二电介质层,通过旋转交流阴极的硅铝靶在氮氩氛围中溅射, 其中质量比Si Al = 92 8;第一电介质层的膜层作用是a、阻止玻璃中的Na+向膜层中渗透;b、提供膜层的吸附力;C、保护整个膜层结构,减少氧化,提高产品物理和化学性能; d、控制膜系的光学性能和颜色;第二电介质层的膜层作用是a、提高玻璃的机械性能,b、 保护整个膜层,阻挡空气中的化学物质或氧气侵蚀红外阻隔层,C、调整玻璃颜色。红外线阻隔层,通过直流平面阴极的合金银靶在氩气氛围中溅射;该膜层是主要功能层,用于降低辐射率,以起到隔热、保温的效果;第一保护层和第二保护层,通过直流平面阴极在纯氩或氩氧、氩氮氛围中溅射,靶材可以是NiCr、Cr、ΑΖ0、&靶中的一种或几种,其中质量百分比Ni Cr = 80 20 ;该膜层的作用是a、保护银层不被氧化;b、增加银层同其它膜层的结合力。本发明的可钢化低辐射镀膜玻璃,相较于现有的低辐射镀膜玻璃,其耐磨性及抗氧化性能均得到了很大的提升,有效避免了现有产品中存在的问题。


图1是本发明的结构示意图;图2是本发明的镀制流程示意图。
具体实施例方式为了阐明本发明的技术方案及技术目的,下面结合附图及具体实施方式

对本发明做进一步的介绍。如图所示,一种可钢化低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜, 所述镀层自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、红外线阻隔层、第二保护层和第二电介质层。所述的第一电介质层、第二电介质层的膜层为Si3N4、SiOxNy, SiO2中的一种或几种。所述红外线阻隔层为银合金材料,所述银合金材料在现有材料中优选Ag-Cu合金、Ag-Si合金、Ag-Ni合金或Ag-Ti合金中的一种。所述第一保护层、第二保护层为NiCr、NiCrOx、CrNx、ZrO、AZO、NiCrNx材料中的一种或几种构成。本发明采用磁控溅射镀膜机,采用下表列出工艺参数,使用4个交流旋转双阴极, 3个直流平面阴极,制出本发明可钢化低辐射镀膜玻璃,其中1#、姊镀制第一电介质层,3# 镀制第一保护层,4#镀制红外线阻隔层,5#镀制第二保护层,6#、7#镀制第二电介质层。其工艺参数和靶的位置列表如下
靶位序号阴极类型靶材料(质量比)溅射工艺气压(mbar )工艺气体成分 (体积比)膜层厚度(nm)1#交流旋转双靶硅铝(92: 8)4. 5E-3氮氩氧=4: 3: 143. 32#交流旋转双靶硅铝(92: 8)4. 3E-3氮氩=4:权利要求
1.一种可钢化低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜,其特征在于 所述镀膜自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、红外线阻隔层、第二保护层和第二电介质层。
2.根据权利要求书1所述的一种可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于 所述红外线阻隔层为银合金材料。
3.根据权利要求3所述的一种可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于 所述银合金材料为Ag-Cu合金、Ag-Zn合金、Ag-Ni合金或Ag-Ti合金。
4.如权利要求1-3中任一权利要求所述的一种可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于 所述的第一电介质层、第二电介质层的膜层材料为Si3N4、SiOXNy、Si&中的一种或几种。
5.根据权利要求1-3中任一权利要求所述的一种可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于第一保护层、第二保护层的膜层材料为NiCr、NiCrOx、CrNx、ZrO、AZO、NiCrNx中的一种或几种。
全文摘要
本发明公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜,其特征在于所述镀膜自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、红外线阻隔层、第二保护层和第二电介质层。本发明通过在红外线阻隔层外加设金属保护层,提高其耐磨性和抗氧化性,使镀膜玻璃能够承受长途运输、加工预处理,甚至高温处理,而产品外观和性能均不会受到影响。
文档编号B32B17/00GK102501452SQ201110381760
公开日2012年6月20日 申请日期2011年11月25日 优先权日2011年11月25日
发明者林嘉宏 申请人:林嘉宏
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