玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及玻璃技术领域，尤其涉及一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002] 普通单片玻璃具有阳光通过率一般，红外反射率低、隔热隔音性能差等特点，用于 幕墙中，大部分阳光可以透过玻璃而进入室内，使室内物体温度升高，这些能量又会以辐射 的形式通过玻璃散失，因此普通玻璃节能性能有待改善。鉴于此，具有良好透光性、保温性、 隔热隔音性能的低辐射镀膜玻璃应运而生。
[0003] 低辐射镀膜玻璃是由玻璃基板和镀膜层构成，该类型玻璃通过镀膜层改变玻璃的 光学和热力学性能，以达到具有节能的作用。其镀膜层一般为在玻璃表面镀上特殊的金属 或其他化合物。
[0004] 随着经济和社会的不断飞跃发展，人们的品味也越来越高，市场对低辐射镀膜玻 璃的要求也越来越高，不仅要求其具有较高的安全性、较强的实用性，更对玻璃外观颜色的 多样性提出了更多要求。目前市场上出现了双银镀膜玻璃，该类型镀膜玻璃结构为在玻璃 基片的一侧由内向外依次设置第一介质层、银膜层、第一阻挡层、第二阻挡层、银膜层、第二 阻挡层及第三介质层。双银镀膜玻璃具有透过色呈蓝绿色的特点。但是这类型镀膜玻璃存 在外观颜色单调、透过该镀膜玻璃观察景物会发生变色、且双银抗氧化性和耐磨性差等问 题。
[0005] 针对上述双银镀膜玻璃存在的透过该镀膜玻璃观察景物会发生变色的问题，中国 专利（申请号为201010296018. 2)公布了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，从所述玻璃 基片一侧向外依次设置有第一介质层、铜膜层、第一阻挡层、第二介质层、银膜层、第二阻挡 层及第三介质层，且所述第一介质层、第二介质层及第三介质层为ZnSnOx膜层或者SnOx膜 层或者ZnOx膜层或者SiNx膜层；所述第一阻挡层、第二阻挡层为NiCr膜层或NiCrOx膜 层。通过采用一层铜膜层的设计，获得透过色呈中性色的低辐射镀膜玻璃，透过该低辐射镀 膜玻璃观察到的景物颜色不改变，且铜和银的特性使得该低辐射镀膜玻璃对远红外线的放 射率获得极大提高。但是该发明提供的玻璃依旧存在玻璃外观色彩单调的问题。 【实用新型内容】
[0006] 本实用新型实施例提供一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃，目的在于克服现有产 品不能同时克服抗氧化性能差、耐磨性能差以及外观颜色单调等问题。
[0007] 为达到上述实用新型目的，本实用新型实施例采用的技术方案如下：
[0008] -种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和功能膜层；
[0009] 所述功能膜层包括从所述玻璃基板的一表面向外依次层叠结合的第一电介质膜 层、铜膜层、第一保护膜层、第二电介质膜层、银膜层、第二保护膜层和第三电介质膜层。
[0010] 作为优选地，所述第一电介质膜层和第二电介质膜层分别为ZnO膜层、SnOx膜层、 ZnSnOx膜层中的任一种。
[0011] 作为优选地，所述第一保护膜层和第二保护膜层分别为NiCr膜层、NiCrOx膜层中 的任一种。
[0012] 作为优选地，所述第三电介质膜层为SiNx膜层、ZnO膜层与SiNx膜层构成的双膜 层中的任一种。
[0013] 作为优选地，所述ZnO膜层与SiNx膜层构成的双膜层中，所述ZnO膜层与所述 SiNx膜层顺次层叠，所述ZnO膜层叠设于第二保护膜层的表面。
[0014] 作为优选地，所述第一电介质膜层、第一功能膜层、第一次保护膜层、第二电介 质膜层、第二功能膜层、第二保护膜层和第三电介质膜层的厚度分别为13. 1~39. 5nm、 10. 2 ~19. lnm、1 ~3. 4nm、41. 3 ~75. 3nm、4. 5 ~8. 3nm、1 ~3. 7nm 和 26. 9 ~47. lnm。
[0015] 作为优选地，所述玻璃基板为浮法玻璃板。
[0016] 上述实施例的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃外观呈玫瑰金色。通过采用一铜一银 替代双银膜层，降低了银膜层氧化的几率，提高产品的抗氧化性能和耐磨性，且两层保护膜 层的结构，也可以有效防止银膜层在生产和使用过程中发生氧化；同时，铜替代银，也可以 降低生产成本。
【附图说明】
[0017] 图1本实用新型提供的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃结构示意图
[0018] 图2(a)、2(b)、2(c)为本实用新型实施例1的膜层光谱曲线示意图；
[0019] 图3(a)、3(b)、4(c)为本实用新型实施例2的膜层光谱曲线示意图；
[0020] 图4(a)、4(b)、4(c)为本实用新型实施例3的膜层光谱曲线示意图；
[0021] 图5(a)、5(b)、6 (c)为本实用新型实施例4的膜层光谱曲线示意图；
[0022] 图6(a)、6(b)、6 (c)为本实用新型实施例5的膜层光谱曲线示意图；
[0023] 图7(a)、7(b)、7(c)为本实用新型实施例6的膜层光谱曲线示意图。
【具体实施方式】
[0024] 为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下实施例，对本实用 新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并 不用于限定本实用新型。
[0025] 如附图1所示。本实用新型实施例提供了一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃，该 玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1和功能膜层2 ;
[0026] 所述功能膜层2包括从所述玻璃基板1 一表面向外依次层叠结合的第一电介质膜 层21、铜膜层22、第一保护膜层23、第二电介质膜层24、银膜层25、第二保护膜层26和第三 电介质膜层27。
[0027] 其中，
[0028] 在任一实施例中，玻璃基板1采用采用浮法玻璃板。
[0029] 在任一实施例中，第一电介质膜层21均匀沉积于玻璃基板1的一表面，沉积的厚 度为13. 1~39. 5nm。该膜层采用ZnO、SnOx、ZnSnOx三种材料中任一种进行沉积，形成叠 设于玻璃基板1的ZnO膜层或SnOx膜层或ZnSnOx膜层。在一实施例中，第一电介质膜层 采用ZnO或SnOx或ZnSnOx材料作为膜层，能够阻止玻璃基板中的Na+向膜层中渗透；控制 膜系的光学性能和颜色；增加膜层和玻璃基板1之间的吸附力。
[0030] 在任一实施例中，铜膜层22均匀沉积于第一电介质膜层21的表面；沉积的厚度为 10. 2~19. lnm。铜膜层22具有降低辐射率、增强保温或隔热性能、控制膜系的光学性能和 颜色的作用。
[0031] 在任一实施例中，第一保护膜层23均匀沉积于铜膜层22的表面，沉积的厚度为 1~3. 4nm。该第一保护膜层23采用NiCr、NiCrOx中的任一种材料进行沉积，形成NiCr膜 层或NiCrOx膜层。在任一实施例中，第一保护膜层23采用NiCr或NiCrOx作为膜层，具有 保护铜膜层22不被氧化并控制膜系的光学性能和颜色的作用。
[0032] 在任一实施例中，第二电介质膜层24均匀沉积于第一保护膜层23的表面，沉积的 厚度为41. 3~75. 3nm。该第二电介质膜层24采用ZnO、SnOx、ZnSnOx中的任一种材料进 行沉积，形成ZnO膜层或SnOx膜层或ZnSnOx。在一实施例中，第二电介质膜层24采用ZnO 或SnOx或ZnSnOx作为膜层，能够减少氧化，提高物理和化学性能；控制膜系的光学性能和 颜色，为进一步的沉积提供吸附着力点。
[0033] 在任一实施例中，银膜层25均匀沉积于第二电介质膜层24的表面，沉积的厚度为 4. 5~8. 3nm。银膜层25具有降低红外透过、降低辐射率、增强保温或隔热性能的作用。
[0034] 在任一实施例中，第二保护膜层26均匀沉积于银膜层25表面，沉积的厚度为1~ 3. 7nm。该第二保护膜层26采用NiCr、NiCr0x中的任一种材料进行沉积，形成NiCr膜层或 NiCrOx膜层。在任一实施例中，第二保护膜层26采用NiCr或NiCrOx作为膜层，可以保护 银膜层25不被氧化并控制膜系的光学性能和颜色的作用。
[0035] 在任一实施例中，第三电介质膜层27均匀沉积于第二保护膜层26的表面，沉积的 厚度为26. 9~47. lnm。该第三电介质膜层27采用SiNx材料进行沉积，形成叠设于第二保 护膜层26上的第三电介质膜层27 ;或者先后采用ZnO、SiNx材料依次进行沉积，形成叠设 于第二保护膜层26上的第三电介质层27,此时第三电介质层27由ZnO膜层和SiNx膜层构 成双层结构。在任一实施例中，该第三电介质膜层27可起到保护整个膜层结构、降低氧化、 提高物理和化学性能、控制膜系的光学性能和颜色的作用。
[0036] 本实用新型实施例提供的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃外观呈玫瑰金色。采用一 铜一银替代双银膜层作为功能层，可以有效降低银膜层氧化的几率，提高产品的抗氧化性 能和耐磨性，且两层保护膜层的结构，也可以有效防止银膜层在生产和使用过程中发生氧 化；同时，铜替代银，也可以降低生产成本
[0037] 本实用新型实施例还提供本实用新型功能膜层2沉积的一个加工过程，具体如下 所述：
[0038] 首先，清洗浮法玻璃基板，将清洗后的浮法玻璃基板送入真空室，控制真空室真空 度为5X10 6mbar以上；
[0039] 第二，控制溅射真空度为2 X 10 3mbar~5 X 10 3mbar，在浮法玻璃基板上依次沉积 如下厚度的膜层：13. 1~39. 5nm的第一电介质膜层21 ;10. 2~19. lnm的铜膜层22、1~ 3. 4nm的第一保护膜层23、41. 3~75. 3nm的第二电介质膜层24、4. 5~8. 3nm的银层25、 1~3. 7nm的第二保护膜层26、26. 9~47. lnm的第三电介质膜层27 〇
[0040] 其中，
[0041] 第一电介质膜层21和第二电介质膜层23沉积时，均通过旋转交流阴极的锌铝靶 在氩、氧氛围中溅射，锌铝靶的质量比Zn :A1 = 98 :2,氩气与氧气的流量比为3 :4 ;
[0042] 铜膜层22沉积时，通过直流平面阴极的铜靶在氩气氛围中溅射；
[0043] 第一保护膜层23和第二保护膜层26沉积时，均通过直流平面阴极镍铬靶在氩气 氛围中派射，镍络革G的质量比Ni :Cr = 80 :20 ;
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