可钢化低辐射镀膜玻璃、低辐射镀膜玻璃及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及低福射锻膜玻璃领域，尤其设及可钢化低福射锻膜玻璃、低福射锻膜 玻璃及其制备方法。
【背景技术】
[0002] 玻璃是建筑物和汽车不可缺少的采光窗体材料，普通玻璃对太阳光的透光率高， 红外反射率低，在夏天大部分太阳光的热量透过玻璃进入室内从而加热物体，在冬天室内 物体的能量又会W福射形式通过玻璃散失掉，对于制冷及采暖的能源是一种极大的浪费， 不符合全世界范围对节能环保的要求。而低福射玻璃具有良好的隔热性，能较好的解决上 述问题，因此被广泛用于建筑物和汽车的采光窗体材料。
[0003] 低福射锻膜玻璃（又称Low-E玻璃），是指一种对波长范围为2. 5~45ym的远红 外光有较高反射比的锻膜玻璃，分为离线与在线两种，其中，离线低福射玻璃是具有W金属 银为功能层的锻膜玻璃。Low-E玻璃之所W具有节能效果，在于其红外反射功能层对红外能 量有较高的反射作用，运一特性使Low-E玻璃的传热系数大大降低，有效地改善了玻璃的 隔热性能。
[0004] 但离线Low-E玻璃中的红外反射功能层一银膜，在钢化热处理过程中，银原子受 热后会发生迁移、聚集、氧化，致使银膜的光学性能与电学性能发生变化，严重时甚至失去 低福射性能。为了解决上述问题，提出了可钢化低福射玻璃，可钢化低福射玻璃的膜层结构 中，在紧邻银膜的上下两侧各锻有一层阻挡层或称为牺牲层或遮蔽层（材质为Ni、化或Ti 等），阻挡层用W保护银膜层在钢化等热处理过程中不被氧化。但此种膜层在钢化前对光有 较大吸收，钢化后由于与氧结合转变为透明介质层，钢化前后性能差别较大，因此不易通过 钢化前性能检验判断钢化后产品的性能优劣。另一方面，钢化工艺准确性、重复性均较差， 钢化工艺的少许偏差将导致钢化后产品性能的极大改变。因此，现有的可钢化低福射锻膜 玻璃钢化后的质量可控性较差。
【发明内容】
[0005] 有鉴于此，本发明实施例提供了一种可钢化低福射锻膜玻璃，主要目的是提高可 钢化低福射锻膜玻璃性能的稳定性。
[0006] 为达到上述目的，本发明主要提供了如下技术方案：
[0007] 一方面，本发明提供了一种可钢化低福射锻膜玻璃，包括玻璃基板和沉积于所述 玻璃基板表面的锻膜层，所述锻膜层包括红外反射功能层，其特征在于，所述红外反射功能 层为银基渗杂膜，在对所述可钢化低福射锻膜玻璃进行热处理时，所述银基渗杂膜内的渗 杂元素析出并与氧结合，在所述红外反射功能层的界面处形成封闭的氧化物保护膜。
[000引作为优选，所述玻璃基板的厚度为0. 3mm-19mm，所述银基渗杂膜的厚度为6nm-20nm。
[0009] 作为优选，所述渗杂元素选自下述与氧结合生成的氧化物的标准生成洽大 于-1700kJ/mol小于-lOOOkJ/mol的元素、热处理溫度下在银中的固溶度为零的元素W及 热处理溫度下在银中的固溶度大于0%小于10%且与氧结合生成的氧化物的标准生成洽 大于-lOOOkJ/mol小于-500kJ/mol的元素中的一种、两种或两种W上。
[0010] 作为优选，所述渗杂元素选自^下^、化、56、￥、8曰、〔曰、6(1、1'1及1旨中的一种、两 种或两种W上。 W11] 作为优选，所述银基渗杂膜中的所述渗杂元素的原子百分含量为 0. 2at% -5.Oat%。
[0012] 作为优选，所述锻膜层自玻璃基板起由内至外依次包括下层电介质层、银基渗杂 膜层和上层电介质层；所述下层电介质层选自W下Ti〇2层、ZnSnOJl、Sn〇2层、ZnO层、Si〇2 层、TazOJl、BiO2层、Al2〇3层、AZO层、Nb2〇5层和Si3N4层中的一种或两种及两种W上的任 意组合；所述上层电介质层为SisNA层或ZrO2层形成的单层结构，或所述上层电介质层为最 外层为SisNA层或ZrO2层的复合层结构，所述上层电介质层为复合层时，除最外层W外的其 它层选自W下Ti化层、化Sn化层、SnO2层、化0层、SiO2层、Ta2化层、BiO2层、Al2化层、AZO 层及佩2〇5层中的一种或两种及两种W上的任意组合。
[0013] 作为优选，所述银基渗杂膜在热处理后，所述银基渗杂膜中的渗杂元素在银基渗 杂膜内分布的密集程度由界面处向内逐渐变小。
[0014] 另一方面，本发明提供了一种可钢化低福射锻膜玻璃的制备方法，所述可钢化低 福射锻膜玻璃为上述实施例的可钢化低福射锻膜玻璃，所述锻膜层是采用磁控瓣射法沉积 在所述玻璃基板的表面，锻制所述红外反射功能层的祀材采用渗杂有所述渗杂元素的银基 渗杂祀材。
[001引作为优选，锻制所述红外反射功能层时，真空室的背底真空度为 1X10 4Pa-SX10 4Pa,瓣射气氛为纯氣气，纯氣气的流量为10sccm-50sccm，直流瓣射 功率密度为1. 13X10 3WAim2-L13X10 2W/mm2,瓣射气压为0. 2Pa-0. 9Pa，瓣射时间为 100s-120s0
[0016] 另一方面，本发明实施例提供了一种低福射锻膜玻璃，其由上述实施例所述的可 钢化低福射锻膜玻璃钢化而得。
[0017] 另一方面，本发明实施例提供了一种上述实施例的低福射锻膜玻璃的制备方法， 先通过上述实施例的制备方法制备得到所述可钢化低福射锻膜玻璃，然后对所述可钢化低 福射锻膜玻璃进行钢化，即得低福射锻膜玻璃。
[0018] 与现有技术相比，本发明的有益效果是：
[0019] 本发明实施例提供的可钢化低福射锻膜玻璃通过在现有的银膜中添加渗杂元素 形成银基渗杂膜作为红外反射功能层，在热处理时所述渗杂元素扩散析出并与氧结合，在 红外反射功能层的界面处形成封闭的氧化物保护膜的技术手段，解决了所述可钢化低福射 锻膜玻璃的红外反射功能层在热处理时被破坏而导致热处理后的低福射锻膜玻璃性能变 差的技术问题，达到了所述可钢化低福射锻膜玻璃的红外反射功能层在热处理时不被破 坏，同时由于本发明实施例提供的可钢化低福射锻膜玻璃采用在银膜中渗入相应的渗杂元 素对银进行保护，取消了现有技术中的阻挡层，使得可钢化低福射锻膜玻璃在热处理后其 光性能、隔热性能及电性能均稳定的技术效果。
【附图说明】
[0020] 图1是本发明实施例提供的可钢化低福射锻膜玻璃的结构示意图；
[0021] 图2是本发明实施例提供的可钢化低福射锻膜玻璃热处理后的结构示意图。 阳0巧 附图标记说明： 阳023] 1玻璃基板，2下层电介质层，3上层电介质层，4银基渗杂膜，5氧化物保护膜，6渗 杂元素。
【具体实施方式】
[0024] 为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，W下结 合附图W较佳实施例，对依据本发明申请的【具体实施方式】、技术方案、特征及其功效，详细 说明如后。下述说明中的多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。 阳〇2引 实施例1 阳0%] 将厚度为2mm的玻璃基板1依次用去离子水、异丙醇和去离子水各清洗lOmin，再 用氮气吹干待用；将玻璃基板1传输至共聚焦式磁控瓣射仪的锻膜腔室，并将背底真空抽 至2X104pa。
[0027] 采用磁控瓣射法先在玻璃基板1上瓣射SisNA膜作为下层电介质层2。其中，选 择直径为75mm的SIsNa祀材，Si3N4祀材纯度为99. 9999%，瓣射采用射频电源，射频功率为 350W，瓣射气压为0. 23化，氣气流量为6sccm，氮气流量为6sccm，基片台转速为lOr/min，沉 积时间560s，所得SIsNa膜的沉积厚度为40nm。
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