一种高透光的可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本申请设及低福射锻膜玻璃领域，特别是设及一种可钢化低福射锻膜玻璃及其制 备方法。
【背景技术】
[0002]根据国家标准GB/18915. 2-2002定义，低福射锻膜玻璃又称低福射玻璃，"Low-E" 玻璃，是一种对波长范围4. 5um-25um的远红外线具有较高反射比的锻膜玻璃。可钢化低福 射锻膜玻璃，是指在线锻膜玻璃，可W深加工，没有钢化，也就是说锻好膜后再进行后续加 工或钢化处理；运是与钢化锻膜玻璃相对的，钢化锻膜玻璃是指钢化后再锻膜，钢化锻膜玻 璃加工性能较差，锻膜颜色也相对单一。
[0003]现有的低福射锻膜玻璃，虽然能够有效的实现低福射效果，但是由于锻膜的引入 和设计不尽合理，使得低福射锻膜玻璃对可见光有很大影响，可见光透过率明显降低，从而 影响了采光效果。
【发明内容】
[0004]本申请的目的是提供一种结构改进的可钢化的低福射锻膜玻璃及其制备方法。
[0005]本申请采用了W下技术方案：
[0006]本申请的一方面公开了一种可钢化低福射锻膜玻璃，由玻璃基板和依序层叠于玻 璃基板的至少一个表面的第一介质层、第二介质层、功能层、保护层、第Ξ介质层、第四介质 层组成；第一介质层为氮化娃或氮氧化娃膜层，第二介质层为侣渗杂氧化锋膜层，功能层为 银膜层，保护层为氮化铭或氮氧化铭膜层，第Ξ介质层为侣渗杂氧化锋膜层，第四介质层为 陶瓷铁膜层。
[0007]需要说明的是，本申请的关键在于按照设定的顺序，合理配置各层，使得各层既能 够紧密吸附，又能充分发挥各自的性能，并且，通过合理控制各层，使得可钢化低福射锻膜 玻璃在保障低福射性能的同时，具备更好的透光率。本申请中可见光的透过率，又称为透光 率。 W08] 优选的，第一介质层的厚度为20. 7~34. 4皿，第二介质层的厚度为3.6~ 13. 8皿，功能层的厚度为6. 7~9. 7皿，保护层的厚度为0. 6~1. 1皿，第Ξ介质层的厚度为 3. 0~12. 8nm，第四介质层的厚度为19. 1~36. 8nm。
[0009]优选的，玻璃基板为浮法玻璃基板。
[0010] 优选的，可钢化低福射锻膜玻璃在加热处理后的透光率大于85%。
[0011] 需要说明的是，其中加热处理既钢化处理，通常来说，可钢化低福射锻膜玻璃在钢 化后各方面性能都有所提高，而对于低福射锻膜玻璃而言，能否进行钢化处理，很大程度上 取决于锻膜的性能；本申请对各层锻膜进行合理配置，使得低福射锻膜玻璃在锻膜后能够 进行加热处理，提高了生产效率，达到生产优化。
[0012] 本申请的另一面公开了本申请的可钢化低福射锻膜玻璃的制备方法，包括如下步 骤，
[0013] 步骤SOI :对玻璃基板进行表面处理；
[0014] 步骤S02 :在经过表面处理的玻璃基板表面依次沉积第一介质层、第二介质层、功 能层、保护层、第Ξ介质层、第四介质层，形成可钢化低福射锻膜玻璃。
[0015]优选的，沉积为磁控瓣射沉积。
[0016]优选的，磁控瓣射沉积的瓣射真空度为2X10 3mbar~5X103mbar阳017]本申请的有益效果在于：
[0018]本申请的可钢化低福射锻膜玻璃，通过对多层锻膜的各层进行优化，使得制备的 可钢化低福射锻膜玻璃在保持良好的低福射性能的同时，具有透过率高，锻膜层与玻璃基 板结合力强，锻膜层致密、均匀，膜层抗氧化抗划伤能力强，可钢化等优点。
【附图说明】
[0019] 图1是本申请实施例中可钢化低福射锻膜玻璃的结构示意图；
[0020] 图2-4是本申请实施例一的可钢化低福射锻膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图2 为玻璃面反射率的光谱曲线，图3为锻膜面反射率的光谱曲线，图4为可见光透过率；
[0021] 图5-7是本申请实施例二的可钢化低福射锻膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图5 为玻璃面反射率的光谱曲线，图6为锻膜面反射率的光谱曲线，图7为可见光透过率；
[0022] 图8-10是本申请实施例Ξ的可钢化低福射锻膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图 8为玻璃面反射率的光谱曲线，图9为锻膜面反射率的光谱曲线，图10为可见光透过率；
[0023]图11-13是本申请实施例四的可钢化低福射锻膜玻璃的光谱曲线示意图，其中， 图11为玻璃面反射率的光谱曲线，图12为锻膜面反射率的光谱曲线，图13为可见光透过 率.
[0024] 图14是本申请实施例中可钢化低福射锻膜玻璃的制备方法的流程框图。
【具体实施方式】
[0025]本申请主要是针对现有的低福射锻膜玻璃在结构设计上的不足，对锻膜各层进行 优化，具体的，本申请的低福射锻膜玻璃如图1所示，由玻璃基板1和沉积于玻璃基板1表 面的锻膜层，锻膜层按照沉积于玻璃上的顺序依序为第一介质层21、第二介质层22、功能 层23、保护层24、第Ξ介质层25、第四介质层26。其中，第一介质层21为氮化娃或氮氧化 娃膜层，第二介质层22为侣渗杂氧化锋膜层，功能层23为银膜层，保护层24为氮化铭或氮 氧化铭膜层，第Ξ介质层25为侣渗杂氧化锋膜层，第四介质层26为陶瓷铁膜层。
[00%] 需要说明的是，本申请的低福射锻膜玻璃，各层是有机结合的整体，第一介质层具 有阻止玻璃基板中的化+向膜层中渗透；增加膜层和玻璃基片之间的吸附力，提高物理和化 学性能；控制膜系的光学性能和颜色等作用。第二介质层具有对功能层起铺垫作用，使功能 层的银膜层在其上可W更好地成膜；控制膜系的光学性能和颜色等作用。功能层即银膜层 具有降低福射率、增强保溫或隔热性能、控制膜系的光学性能和颜色等作用。保护层具有减 少氧化，控制膜系的光学性能和颜色等作用。第Ξ介质层具有提高保护层和第四介质层之 间结合力、进一步保护功能层不被氧化、提高物理和化学性能，控制膜系的光学性能和颜色 等作用。第四介质层具有保护整个膜层结构、减少氧化、提高物理和化学性能，控制膜系的 光学性能和颜色等作用。各层按顺序结合，从而保障了低福射锻膜玻璃的整体性能，特别是 在透光率方面，在本申请的低福射锻膜玻璃进行热处理后，可W获得透光率大于85%的超 高透低福射锻膜玻璃。
[0027] 相应地，在本申请的可钢化低福射锻膜玻璃的基础上，本申请还研究并优化了本 申请的可钢化低福射锻膜玻璃的制备方法，具体的，如图14所示，本申请的制备方法包括 如下步骤：
[0028] 步骤SOI :前处理，对玻璃基板进行表面处理；主要是清洗浮法玻璃，将清洗 好的浮法玻璃作为玻璃基板，将清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在 8X10SmbarW上；
[0029] 步骤S02 :膜层沉积处理，在经过表面处理的玻璃基板表面依次沉积第一介质层、 第二介质层、功能层、保护层、第Ξ介质层、第四介质层，形成可钢化低福射锻膜玻璃。
[0030] 本申请的优选方案中，优选的采用磁控瓣射沉积制备各层锻膜，并且，优选的磁控 瓣射沉积的瓣射真空度为2X10 3mba;r~5X10 3mba;r。并且，在步骤SOI中，本申请的实施 例具体采用Benteler清洗机对浮法玻璃进行清洗。而磁控瓣射沉积具体采用德国冯?阿登 那公司生产的磁控瓣射锻膜设备，瓣射层厚度的调整，使用在线光度计测量膜层颜色参数， 据此判断瓣射膜层的厚度。
[0031] 在低福射锻膜玻璃的检测方面，本申请的一种实现方式中，采用浓度为Imol/L的 肥1溶液和浓度为Imol/L的