1.一种耐辐射和高热负载的X射线成像探测器,其用于探测入射的X射线光束的光强分布,包括闪烁体、耦合系统以及可见光探测器,其中,所述闪烁体在所述X射线光束的作用下生成可见光,所述耦合系统将所述可见光传输至所述可见光探测器,从而探测所述X射线光束的光强分布,其特征在于:
所述耦合系统包括全反射式物镜、反射平面镜以及投影透镜组,其中:
所述全反射式物镜包括凸面镜和凹面镜,其中凸面镜中心设有用于通过所述X射线光束的第一通孔,凹面镜中心设有第二通孔,所述全反射式物镜基于所述可见光对所述闪烁体成像生成可见光束;
所述反射平面镜上设有与所述第一通孔共轴的用于通过所述X射线光束的第三通孔,所述反射平面镜将所述可见光束反射至所述投影透镜组,并且不反射或吸收所述X射线光束;
所述投影透镜组将接收到的可见光束投影至所述可见光探测器。
2.如权利要求1所述的X射线成像探测器,其特征在于,所述反射平面镜的反射面与入射的可见光束的光轴呈45°角。
3.如权利要求1所述的X射线成像探测器,其特征在于,所述投影透镜组为相机镜头或消色差的复合透镜。
4.如权利要求1所述的X射线成像探测器,其特征在于,所述闪烁体为雅格晶体或其他能够在X射线照射下产生可见光荧光的晶体。
5.如权利要求1所述的X射线成像探测器,其特征在于,还包括用于遮光的外壳。
6.如权利要求1-5中任意一项权利要求所述的X射线成像探测器,其特征在于,所述第一通孔尺寸大于所述X射线光束尺寸,且小于所述全反射式物镜的中心阻挡尺寸。
7.如权利要求1-5中任意一项权利要求所述的X射线成像探测器,其特征在于,使用表面氧化的铝膜将所述第一通孔遮盖。
8.如权利要求1-5中任意一项权利要求所述的X射线成像探测器,其特征在于,所述第三通孔尺寸大于所述X射线光束尺寸,且小于所述全反射式物镜的中心阻挡尺寸。