操作方便的PH计的校准方法与流程

文档序号:13134124阅读:3655来源:国知局

本发明属于机械校准技术领域,尤其是涉及一种操作方便的ph计的校准方法。



背景技术:

ph计是实验室当中不可缺少的仪器,该仪器能够有助于准确测出溶液的酸碱度,从而有助于提高实验的成功率;但是ph计在较长时间使用之后,会造成仪器的准确性出现偏差,因此对仪器进行精准的校准是有必要的;在准确校准之后,如果不对ph计进行规范的处理,会导致ph计再次发生偏差,从而无法正常使用。



技术实现要素:

本发明为了克服现有技术的不足,提供一种操作规范的操作方便的ph计的校准方法。

为了实现上述目的,本发明采用以下技术方案:一种操作方便的ph计的校准方法,包括以下步骤:

1)将ph计接通电源,然后打开ph计预热三十分钟;

2)取下甘汞电极的电极套;然后使用去离子水对甘汞电极进行冲洗,在冲洗完成之后使用滤纸吸去甘汞电极上的离子水;将甘汞电极放置在一旁待用;

3)使用电子天平称取5g氢氧化钠固体,将氢氧化钠放置到洗净的烧杯当中,放入20ml的去离子水,微热进行溶解;

4)将溶解后的氢氧化钠溶液倒入到洗净的量筒当中,准确读取溶液体积;并计算出溶液的ph值;

5)使用配置好的氢氧化钠溶液对甘汞电极进行润洗;然后将甘汞电极插入到配置好的氢氧化钠溶液当中;读取ph计的读数与计算值做比较,进行校准;

6)将ph计重新使用去离子水进行冲洗,在冲洗完成之后重新套上电极套。

本发明通过配置已知ph值的溶液和ph计测量出的数值进行比较,能够有效的判断出ph计的偏差,从而可以准确的对ph进行调整,从而能够保证ph计在使用的时候能够测出溶液的ph数值,从而能够极大的调高实验的成功率;同时在校准完成之后,将ph计进行冲洗,能够避免溶液残留在甘汞电极上,避免了下次使用的时候难以清洗干净,导致测定的ph值偏高。

进一步的,步骤2)中冲洗次数为三次;通过三次冲洗能够保证甘汞电极被完全洗净,从而可以避免因未洗净导致测定的时候出现偏差。

进一步的,步骤5)中在插入电极前使用玻璃棒顺时针搅拌溶液;通过对溶液进行搅拌,使得溶液每一处的ph值都相同,减小了校准时期出现的误差。

综上所述,本发明通过配置已知ph值的溶液和ph计测量出的数值进行比较,能够有效的判断出ph计的偏差,从而可以准确的对ph进行调整,从而能够保证ph计在使用的时候能够测出溶液的ph数值,从而能够极大的调高实验的成功率;同时在校准完成之后,将ph计进行冲洗,能够避免溶液残留在甘汞电极上,避免了下次使用的时候难以清洗干净,导致测定的ph值偏高。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好的理解本发明方案,下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。

一种操作方便的ph计的校准方法,包括以下步骤:1)将ph放置到一25℃的密闭环境中,并且测量环境中的湿度,并做记录;然后将ph计接通电源,然后打开ph计预热三十分钟;2)取下甘汞电极的电极套;然后使用去离子水对甘汞电极冲洗三次,在冲洗完成之后使用滤纸吸去甘汞电极上的离子水;将甘汞电极放置在一旁待用。

3)使用电子天平称取5g氢氧化钠固体,将氢氧化钠放置到洗净的烧杯当中,放入20ml的去离子水,微热进行溶解;使用水浴加热至三十度为止,并且微热的过程中不断使用玻璃棒进行搅拌;4)将溶解后的氢氧化钠溶液倒入到洗净的量筒当中,准确读取溶液体积;并计算出溶液的ph值。

5)使用配置好的氢氧化钠溶液对甘汞电极进行润洗;然后将甘汞电极插入到配置好的氢氧化钠溶液当中,在甘汞电极插入前使用玻璃棒对氢氧化钠溶液进行顺时针搅拌;然后将甘汞电极进行轻轻的转动,使得电极与溶液完全接触;读取ph计的读数与计算值做比较,进行校准;在校准完成之后,重新配置一溶液进行再次测定;6)将ph计重新使用去离子水进行冲洗,在冲洗完成之后重新套上电极套。

显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种操作方便的PH计的校准方法,包括以下步骤:1)将PH计接通电源,然后打开PH计预热三十分钟;2)取下甘汞电极的电极套;然后使用去离子水对甘汞电极进行冲洗,在冲洗完成之后使用滤纸吸去甘汞电极上的离子水;将甘汞电极放置在一旁待用。本发明通过配置已知PH值的溶液和PH计测量出的数值进行比较,能够有效的判断出PH计的偏差,从而可以准确的对PH进行调整,从而能够保证PH计在使用的时候能够测出溶液的PH数值,从而能够极大的调高实验的成功率;同时在校准完成之后,将PH计进行冲洗,能够避免溶液残留在甘汞电极上,避免了下次使用的时候难以清洗干净,导致测定的PH值偏高。

技术研发人员:张明
受保护的技术使用者:安吉元融仪器仪表检测有限公司
技术研发日:2017.08.08
技术公布日:2017.12.08
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