一种用于16N监测仪的加铅屏蔽探测装置的制作方法

本发明涉及核电站辐射检测仪技术领域，具体涉及一种用于¹⁶N监测仪的加铅屏蔽探测装置。

背景技术：

¹⁶N监测仪在核电站中其主要用于监测二回路蒸汽管所出现的¹⁶N高能γ辐射，目前国内核电站所使用的¹⁶N监测仪的探测装置其在使用过程中会受到环境本底的影响，从而造成了检测测量结果的准确性。因此有鉴于此，对于如何寻找到一种设计合理、能有效屏蔽本底干扰且测量数据可靠的探测装置就显得尤为重要。

技术实现要素：

针对现有技术中存在的缺陷，本发明的目的在于提供一种设计合理、能有效屏蔽本底干扰且测量数据可靠的用于¹⁶N监测仪的加铅屏蔽探测装置。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：

一种用于¹⁶N监测仪的加铅屏蔽探测装置，包括有探头、温度传感器和对外接口的插接件组合为一体的探测组件，探测组件设置在套筒内，在套筒外侧设置用于排除本底干扰的屏蔽铅块，在套筒和屏蔽铅块外设有外罩。

进一步，所述屏蔽铅块为将铅体分割为四对上下呈半圆形的铅体结构，其中每一对铅体结构之间其在轴向和径向采用阶梯错位的连接结构。

进一步，所述外罩采用上下分体式的分体式连接结构。

进一步，所述屏蔽铅块与外罩之间采用长螺栓固定连接在一起。

进一步，所述外罩其合口处采用螺栓固定相连。

进一步，所述加铅屏蔽探测装置其高度可调。

进一步，所述探头其前后两端分别与所述套筒两端固定连接在一起。

进一步，所述屏蔽铅块安装在所述套筒外端面上的位置通过所述探头内NaI晶体的闪烁角能够完全包容蒸汽管道端面来计算确定的。

与现有技术相比，本方案具有的有益技术效果为：本方案通过在探头外侧合理位置上加装有屏蔽铅块和外罩，屏蔽铅块的布置位置通过探头中的NaI晶体位置计算来确定，从而在检测过程中能够有效的接收蒸汽管道中所放出的γ射线同时排除了本底对测量环境的影响，外罩其主要用于保护整个探测装置，使整个装置成为一个整体结构，总而言之，本方案中的上述加铅屏蔽探测装置能有效提高探测结果的可靠性，保证了¹⁶N监测仪的合理有效的工作，同时达到了安装拆卸方便和外观美观大方的效果。

附图说明

图1为本发明的加铅屏蔽探测装置的原理结构示意图。

图2为本发明中的蒸汽管道与加铅屏蔽探测装置之间的辐射角示意图。

图3为本发明中的屏蔽铅块立体结构示意图。

图4为本发明中计算屏蔽铅块与法兰端面距离的示意图。

图中的附图标记说明：

1-探头，2-外罩，3-屏蔽铅块，4-蒸汽管道，5-铅体结构。

具体实施方式

下面结合说明书附图与具体实施方式对本发明做进一步的详细说明。

参照附图1至3所示，本实施例提供一种用于¹⁶N监测仪的加铅屏蔽探测装置，该加铅屏蔽探测装置包括有支架、探头1、温度传感器、对外接口的插件、套筒、屏蔽铅块3以及外罩2。整个加铅屏蔽探测装置分为两大部分，第一部分为将探头1、温度传感器和对外接口的插件设计成一体，以便于整体安装拆卸和调试维修，探头1其两端分别与套筒的两端固定相连；第二部分为将屏蔽铅块3、外罩2和支架固定相连，其中屏蔽铅块3布置在套筒的外端面上，屏蔽铅块3其与外罩2的内端面固定相连，而外罩2则与支架固定相连。屏蔽铅块3与外罩2之间采用长螺栓固定连接在一起，外罩2其合口处采用螺栓固定相连。参照附图2所示，为了排除本底对测量环境的影响，准确的接受蒸汽管道4所放出的γ射线，屏蔽铅块3的安装在套筒外端面上的位置为通过确定探头内的NaI晶体位置而计算得出的。屏蔽铅块的位置通过确定探头内的NaI晶体的闪烁角能够完全包容蒸汽管道端面来确定屏蔽铅块的安装位置。由被测装置与监测仪的位置关系以及监测仪的内部的晶体位置可以准确绘制出屏蔽铅块所在位置，即铅块位于监测仪左端，距离左端内法兰外端面距离。具体的参见附图4所示，所需距离即为图中EF长度，

参见附图3所示，本方案中在设计屏蔽铅块3时将屏蔽铅块3分割为四对上下呈半圆环形的铅体结构5。并且每一对铅体结构5之间其在轴向和径向为采用阶梯错位的连接结构，以便可以达到工作时阻止铅块攒动及防止射线漏出的效果四对上下半圆环形的铅体结构5为通过外罩2锁紧在一起。

本方案中的外罩2其作用在于保护整个探测装置的套筒以及外部的屏蔽铅块3，使整个探测装置成为一个整体。探测器外罩2分上下两体，防止探头轴向攒动的同时，也保证了探测器的美观。

综上所述，本方案通过在探头1外侧合理位置上加装有屏蔽铅块3和外罩2，屏蔽铅块3的布置位置通过探头中的NaI晶体位置计算来确定，从而在检测过程中能够有效的接收蒸汽管道4中所放出的γ射线同时排出了本底对测量环境的影响，外罩2其主要用于保护整个探测装置，使整个装置成为一个整体结构，总而言之，本方案中的上述加铅屏蔽探测装置能有效提高探测结果的可靠性，保证了¹⁶N监测仪的合理有效的工作，同时达到了安装拆卸方便和外观美观大方的效果。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其同等技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。