一种具有剔除印刷不良功能的片式外观检测机的制作方法

文档序号:11560445阅读:345来源:国知局

本实用新型涉及一种具有剔除印刷不良功能的片式外观检测机,属于自动化检测技术领域。



背景技术:

目前在电阻生产中,因印刷造成外观不良缺陷,则需要用人力进行外观目检。而使用人工目检存在众多弊端:一是人工目检不可能100% 将不良剔除干净,存在一定的品质风险;二是人工成本高,生产效率低。这些都会造成资源浪费,增加企业生产成本。



技术实现要素:

为了克服上述缺陷,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种具有剔除印刷不良功能的片式外观检测机,采用CCD 自动检测机构及镭射装置剔除电阻产品中的印刷外观不良品,从而达到减少瑕疵及提升品质的目的。

为了解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:

一种具有剔除印刷不良功能的片式外观检测机,包括检测平台,其特征在于:所述检测平台的上方设置防护罩,所述防护罩的上方有用于采集印刷材料图像的CCD摄像头,所述CCD 摄像头与工业电脑主机相连接,所述工业电脑主机CCD与显示装置相连接,所述显示装置与键盘鼠标相连接。所述检测平台的旁边有剔除平台,剔除平台上方有镭射头。

一种具有剔除印刷不良功能的片式外观检测机,其特征在于:所述机台的中间区域有检测平台,所述检测平台的右边有剔除平台上方有镭射头。

一种具有剔除印刷不良功能片式外观检测机,其特征在于:所述检测平台通过第三夹抓手与剔除平台相连接,所述剔除平台通过第四夹抓手与右侧收料料仓相连接。机台的左侧有料仓,所述料仓通过第一夹抓手与待检平台相连接,所述待检平台通过第二夹抓手与检测平台相连接。第一夹抓手将料仓内的物料取出并放入待检平台,物料由第二夹抓手从待检平台被送至检测平台,在检测平台由CCD摄像头进行检测,若为不良品则物料由第三夹抓手从检测平台被送至剔除平台,由镭射头进行剔除操作后,由第四夹抓手将物料从剔除平台送至收料料仓。

一种具有剔除印刷不良功能的片式外观检测机,其特征在于:其所述CCD 显示装置通过固定架连接在机台右侧。

本实用新型的有益效果是:通过CCD 摄像头将印刷图像传输给工业电脑主机,工业电脑主机将印刷图像信息未需处理直接传输给显示装置并显示于显示装置,人工确定是否为不良品,然后将不良品传送至剔除平台,由镭射对印刷不良产品进行破坏剔除。

附图说明

图1 是本实用新型一种具有剔除印刷不良功能的片式外观检测机的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合说明书附图,对本发明作进一步的说明。

检测平台5的上方设置有防护罩6及用于采集印刷材料图像的CCD摄像头7,所述CCD摄像头7与工业电脑主机16相连接,所述工业电脑主机16对采集到的信息图像进行处理,自动对产品进行自动搜寻定位、特征对比、相关尺寸测量运算,并与标准模板图像或设定的相关参数进行比较。如果发现不一致的区域超过设定的参数范围或公差,则输出不良剔除控制信号,由系统传送至剔除平台9,由镭射头10对印刷不良产品进行破坏剔除,实现了对产品的检测与剔除的自动化。或者,通过CCD 摄像头将印刷图像传输给工业电脑主机,工业电脑主机将印刷图像信息未需处理直接传输给显示装置并显示于显示装置,人工确定是否为不良品,然后将不良品传送至剔除平台,由镭射对印刷不良产品进行破坏剔除。

所述工业电脑主机16与镭射头10及显示装置11相连接,所述显示装置11与键盘鼠标12相连接,确保了图像收集、比较与破坏剔除不良品的同步性及准确性。

所述机台1的中间区域有检测平台5,所述检测平台5的右边有剔除平台9,所述剔除平台9的上方镭射头10,确保了检测到的不良材料可以被准确破坏剔除。

所述检测平台5通过第三夹抓手17与剔除平台9相连接,所述剔除平台9通过第四夹抓手13与右侧收料料仓14相连接。

所述机台1的左侧有料仓2,所述料仓2通过第一夹抓手3与待检平台4相连接,所述待检平台4通过第二夹抓手15与检测平台5相连接。第一夹抓手将料仓2内的物料取出并放入待检平台,物料由第二夹抓手从待检平台被送至检测平台,在检测平台由摄像头进行检测,检测由人工判断若为不良品则物料由第三夹抓手从检测平台被送至剔除平台(其为一个平台,仅由于其上方具有镭射头因此命名为剔除平台),由镭射头进行剔除操作后,由第四夹抓手将物料从剔除平台送至收料料仓14。

所述CCD 显示装置11通过固定架8连接在机台1右侧,用于显示运行过程中的各种信息及数据,以便工作人员参考。

综上所述,本实用新型提供的一种具有剔除印刷不良功能的片式外观检测机,采用CCD 自动检测机构及镭射装置,对印刷不良产品进行破坏剔除,从而达到减少瑕疵及提升品质的目的。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征及优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界。

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