本实用新型涉及平面度测量技术领域，尤其涉及一种检测装置。
背景技术：
目前，异形电子玻璃的研磨加工一般都是在玻璃加工中心上进行的，由于电子玻璃的加工厚度较薄，加工尺寸的精度较高，所以在电子玻璃的研磨过程中，对研磨平台的平面度要求较高，现有技术中，加工中心的工作平台上可能会残留一些杂质颗粒，当研磨平台放置在工作平台上时，就会导致研磨平台的无法水平放置，进而会影响电子玻璃的研磨质量。
技术实现要素：
有鉴于此，本实用新型实施例提供一种检测装置，主要目的是用于检测研磨平台的平面度。
为达到上述目的，本实用新型主要提供如下技术方案：
本实用新型实施例提供了一种检测装置，包括：
本体、驱动部和检测部，所述驱动部固定在所述本体上，所述检测部连接于所述驱动部的驱动端，所述驱动部用于驱动所述检测部相对于所述本体活动；所述检测部上具有检测头，所述检测部用于检测所述检测头的位移信息。
可选地，所述的检测装置，还包括：
活动部，所述检测部固定在所述活动部上，所述驱动部的驱动端连接于所述活动部。
可选地，所述活动部与所述本体之间具有间隙，所述间隙之间具有限位杆，所述限位杆的一端固定在所述本体上，另一端朝向于所述活动部，当所述活动部朝向于所述本体活动至预设位置时，所述限位杆的另一端顶在所述活动部上。
可选地，所述限位杆的长度可调。
可选地，所述本体上具有螺纹孔，所述限位杆螺纹连接于所述螺纹孔内。
可选地，所述本体上具有连接通孔，所述限位杆穿过所述连接通孔，所述限位杆中在所述连接通孔的两侧分别螺纹连接有两个螺母，用于将所述限位杆固定在所述本体上。
可选地，所述本体上具有导轨，所述活动部活动连接于所述导轨。
可选地，所述检测部包括检测杆、检测器和所述检测头，所述检测器固定在活动部上，所述检测杆的一端固定在所述检测器上，另一端设有所述检测头。
可选地，所述检测部与所述活动部为可拆卸连接。
可选地，所述检测部上具有显示屏幕，所述显示屏幕用于显示位移信息。
本实用新型实施例提供了一种检测装置，用于检测研磨平台的平面度，而现有技术中，加工中心的工作平台上可能会残留一些杂质颗粒，当研磨平台放置在工作平台上时，就会导致研磨平台的无法水平放置，进而会影响电子玻璃的研磨质量。与现有技术相比，本申请文件提供的检测装置包括：本体、驱动部和检测部，驱动部固定在本体上，检测部连接于驱动部的驱动端，驱动部用于驱动检测部相对于本体活动；检测部上具有检测头，检测部用于检测检测头的位移信息。在研磨平台的多个检测位置处，通过驱动部驱动检测部的检测头向研磨平台上的玻璃板方向活动，当检测头触碰到玻璃板时，驱动部则停止驱动，检测部用于记录检测头从原点到触碰到玻璃板时的活动距离，根据多个检测位置中检测头在检测时不同的活动距离可以得到研磨平台的平面度，进而保证电子玻璃的研磨质量。
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的一种检测装置的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的检测装置其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
如图1所示，本实施例提供了一种检测装置，包括：
本体1、驱动部2和检测部3，其中，驱动部2固定在本体1上，检测部3连接于驱动部2的驱动端，驱动部2用于驱动所述检测部3相对于所述本体1活动；检测部3上具有检测头31，所述检测部3用于检测检测头31的位移信息。
其中，上述本体1用于固定在研磨平台的研磨头机架上，通过研磨头机架可以带动上述的检测装置活动至研磨平台上的任意位置处，其中，本体1与研磨头机架之间可以为可拆卸连接，例如：螺栓连接等，在此不作限定；驱动部2可以为多种样式，例如：液压装置、气压装置、电机装置等，驱动部2上可以具有伸缩杆，伸缩杆的端部为驱动端，伸缩杆通过驱动端连接于检测部3，驱动部2用于驱动伸缩杆伸缩活动，进而使检测部3相对于本体1作相对活动；检测部3可以为位移传感器，用于检测器检测头31的位移信息。
以下通过本实施例中检测装置的工作过程和原理具体说明本实施例中的检测装置：
首先，将检测装置的本体1固定在研磨平台的研磨头机架上，使检测装置中的检测头31朝向于研磨平台；
其次，通过研磨头机架沿水平方向将检测装置活动至研磨平台的多个检测位置进行检测，其中，检测过程包括：通过驱动部2驱动检测部3的检测头31向研磨平台上的玻璃板方向活动，当检测头31触碰到玻璃板时，驱动部2则停止驱动，检测部3用于记录检测头31从原点到触碰到玻璃板时的活动距离；
最后，由于研磨头机架带动检测装置沿水平方向活动，所以检测头31在原定位置时的竖直高度是定值，根据多个检测位置中检测头31在检测时不同的活动距离可以得到研磨平台的平面度，即多个活动距离中的最大差值为研磨平台的平面度，其中，多个检测位置可以为4至5个。
本实用新型实施例提供了一种检测装置，用于检测研磨平台的平面度，而现有技术中，加工中心的工作平台上可能会残留一些杂质颗粒，当研磨平台放置在工作平台上时，就会导致研磨平台的无法水平放置，进而会影响电子玻璃的研磨质量。与现有技术相比，本申请文件提供的检测装置包括：本体、驱动部和检测部，驱动部固定在本体上，检测部连接于驱动部的驱动端，驱动部用于驱动检测部相对于本体活动；检测部上具有检测头，检测部用于检测检测头的位移信息。在研磨平台的多个检测位置处，通过驱动部驱动检测部的检测头向研磨平台上的玻璃板方向活动，当检测头触碰到玻璃板时，驱动部则停止驱动，检测部用于记录检测头从原点到触碰到玻璃板时的活动距离，根据多个检测位置中检测头在检测时不同的活动距离可以得到研磨平台的平面度，进而保证电子玻璃的研磨质量。
为了方便检测部3的设置，可选地，上述检测装置还包括：活动部4，检测部3固定在活动部4上，驱动部2的驱动端连接于活动部4。本实施例中，活动部4与检测部3之间可以为可拆卸连接，这样方便更换不同的检测设备以适应不同的工作场景，另外，当检测设备出现故障时，也可以将检测部3从活动部4上拆卸下来进行维修，提高了维修效率，另外上述活动部4上可以具有拆卸通孔，检测部3的一端可以插接于拆卸通孔内进行固定。
上述检测头31在活动过程需要标记原点位置，以方便检测研磨平台的平面度，该原点位置的设置方式可以有多种，可选地，活动部4与本体1之间具有间隙，间隙之间具有限位杆5，限位杆5的一端固定在本体1上，另一端朝向于活动部4，当活动部4朝向于本体1活动至预设位置时，限位杆5的另一端顶在活动部4上。本实施例中，活动部4在驱动部2的作用下能够朝向或远离本体1的方向活动，当活动部4朝向于本体1的方向活动至预设位置时，限位杆5的另一端能够顶在活动部4上，使活动部4无法继续朝向于本体1方向活动，此时检测头31所处的位置可以为检测部3的原点位置，通过该原点位置可以计算出研磨平台的平面度信息。
上述的检测装置原点位置的选取可以根据不同规格的研磨平台进行调整，为了方便原点位置的调节，可选地，限位杆5的长度可调。本实施例中，通过调节限位杆5的长度，可以调节检测头31的原点位置，当需要改变检测头31的原点位置时，可以通过调节限位杆5的长度来实现，需要说明的是，通过限位杆5仅用于调节原点位置竖直方向的改变，而无法调节其水平方向的改变，检测头31的水平方向位置可以通过研磨头机架进行调节。
上述限位杆5长度的调节方式可以有多种，可选地，本体1上具有螺纹孔，限位杆5螺纹连接于螺纹孔内。本实施例中，限位杆5上可以具有螺纹段，通过螺纹段能够螺纹连接于本体1的螺纹孔内，当需要调节限位杆5的长度时，可以转动限位杆5，使限位杆5收缩于螺纹孔内或伸出至螺纹孔外，进而实现了调节限位杆5长度的目的。
上述限位杆5长度的调节方式还可以具有其它方式，可选地，本体1上具有连接通孔，限位杆5穿过连接通孔，限位杆5中在连接通孔的两侧分别螺纹连接有两个螺母51，用于将限位杆5固定在本体1上。本实施例中，将限位杆5的一端伸入至连接通孔内，根据实际情况调节限位杆5的伸出长度，待伸缩杆的伸出长度调节完毕后，再通过螺母固定在本体1上，其中，两个螺母可以分别设置于连接通孔的两侧并螺纹连接于限位杆5，使两个螺母接近并夹紧于本体1，使限位杆5与本体1之间相互固定。
为了进一步提高检测部3的检测精度，可选地，本体1上具有导轨，活动部4活动连接于导轨。本实施例中，活动部4能够沿导轨的延展方向滑动，该轨道可以为直线轨道，其延展方向可以为竖直方向，通过轨道的设置，可以保证活动部4能够沿预设方向的轨迹活动，避免在活动过程中出现偏移，影响检测的准确率。
上述检测部3的结构样式可以有多种，可选地，检测部3包括检测杆32、检测器和检测头31，检测器固定在活动部4上，检测杆32的一端固定在检测器上，另一端设有检测头31。本实施例中，由于检测装置的结构比较复杂，在进行检测时，多个结构之间容易发生相互影响，而检测杆32的另一端可以向外伸展，并远离于检测部3的本体，这样设置在检测杆32另一端的检测头31在活动过程中，就不会受到其他部件的影响，提高了检测部3的适用性。
进一步的，检测部3与活动部4为可拆卸连接。本实施例中，由于检测部3与活动部4之间为可拆卸连接，所以可以更加方便检测部3进行更换维修，提高了检测部3的适用性。
进一步的，检测部3上具有显示屏幕，显示屏幕用于显示位移信息。本实施例中，工作人员可以通过显示屏幕更加方便的获取到检测头31的位移信息，并通过多个不同检测位置的位移信息来判断研磨平台的平面度，进而使工作人员的判断更加的方便快捷，提高了判断效率。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。