具有纳米级间隙的金属光栅结构表面增强拉曼基底及其制作方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种具有纳米级间隙的金属光栅结构表面增强拉曼基底及其制作方法。该表面增强拉曼基底将金属光栅结构转移到预拉伸的柔性衬底上形成的，具有纳米级间隙的金属光栅结构，金属光栅条之间的间隙可达到10nm及以下，可将入射光局域在一个亚波长尺寸的区域，增强吸附在表面增强拉曼基底结构表面的物质分子发出拉曼散射信号，在分子检测方面具有重要的前景。

技术研发人员：金崇君;郑超群;刘文杰
受保护的技术使用者：中山大学
技术研发日：2018.04.25
技术公布日：2018.11.16